ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
5.380 gesamt| Patent | |||
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29.08.2019
Deep learning for semantic segmentation of pattern
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 15.02.2019
Anhängig
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29.08.2019
Method for determining a corrected dimensional parameter value relating to a feature formed by a lithographic process and associated apparatuses
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2019
Anhängig
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29.08.2019
Guided patterning device inspection
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.02.2019
Anhängig
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29.08.2019
Methods for training machine learning model for computation lithography
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 20.02.2019
Anhängig
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29.08.2019
Systems and methods for improving resist model predictions
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.02.2019
Anhängig
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28.08.2019
Vorrichtung zum Bewegen eines Objekts in Und/oder aus einem Gehäuse
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.10.2017
Anhängig
Vertretung
Ketting, Alfred · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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28.08.2019
Steuerung basierend auf der Wahrscheinlichkeitsdichtefunktion eines Parameters
Optik & Fototechnik
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28.08.2019
Systeme und Verfahren zur Verbesserung von Resistmodellvorhersagen
Optik & Fototechnik
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28.08.2019
Metrologievorrichtung und Verfahren zum Bestimmen einer Eigenschaft einer oder mehrerer Strukturen auf einem Substrat
Optik & Fototechnik
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28.08.2019
Ausrichtungsmarkierungspositionierung in einem Lithographischen Prozess
Optik & Fototechnik
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22.08.2019
Apparatus incorporating a gas lock
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.01.2019
Anhängig
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22.08.2019
Method and apparatus for measuring a parameter of interest using image plane detection techniques
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.01.2019
Anhängig
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22.08.2019
Substrate positioning device and electron beam inspection tool
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.02.2019
Anhängig
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22.08.2019
Apparatus for and method of in-situ particle removal in a lithography apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.02.2019
Anhängig
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22.08.2019
Binarization method and freeform mask optimization flow
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 15.02.2019
Anhängig
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22.08.2019
Cleaning A Structure Surface in an Euv Chamber
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2019
Anhängig
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21.08.2019
Verfahren für Lpp-Gesteuerte Laserausgabe Während Nicht-Ultraviolettstrahlungs-Perioden
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 06.09.2011
Erteilt am 21.08.2019
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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21.08.2019
Haltevorrichtung, Lithographievorrichtung und Verfahren zur Verwendung der Haltevorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2012
Erteilt am 21.08.2019
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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21.08.2019
Verfahren und Vorrichtung zum Messen eines Interessierenden Parameters mit Bildebenenerfassungstechniken
Optik & Fototechnik
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21.08.2019
Metrologische Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Interessierenden Charakteristik einer Struktur auf einem Substrat
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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21.08.2019
Metrologieverfahren und -Vorrichtung mit Erhöhter Bandbreite
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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15.08.2019
System, device and method for reconditioning a substrate support
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.01.2019
Anhängig
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14.08.2019
Verfahren zur Bestimmung des Beitrags zu einem Fingerabdruck
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 23.05.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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08.08.2019
A measurement apparatus and a method for determining a substrate grid
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.12.2018
Anhängig
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08.08.2019
Two-Dimensional Diffraction Grating
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.01.2019
Anhängig
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08.08.2019
Inspection apparatus and inspection method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.01.2019
Anhängig
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08.08.2019
Method and apparatus for determining optical aberrations
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.01.2019
Anhängig
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08.08.2019
Method of optimizing a metrology process
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.01.2019
Anhängig
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08.08.2019
Method of determining an optimal focus height for a metrology apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.01.2019
Anhängig
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08.08.2019
Method of patterning at least a layer of a semiconductor device
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.01.2019
Anhängig
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07.08.2019
Elektrostatische Klemme, Lithografievorrichtung und -Verfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.06.2013
Erteilt am 07.08.2019
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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07.08.2019
Positionskodierer, Positionsmesssystem und Lithografische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.10.2015
Erteilt am 07.08.2019
Vertretung
Nouwens, Johannes Wilhelmus Henricus · Veldhoven
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
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07.08.2019
Trägervorrichtung, Lithografievorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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07.08.2019
Verfahren zur Bestimmung einer Optimalen Fokushöhe für eine Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
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07.08.2019
Verfahren zur Optimierung eines Metrologieverfahrens
Optik & Fototechnik
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01.08.2019
Apparatus and methods for determining the position of a target structure on a substrate
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2018
Anhängig
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01.08.2019
Pre-scan feature determination methods and systems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.01.2019
Anhängig
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31.07.2019
Flüssigkeitshandhabungsstruktur, lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.04.2009
Erteilt am 31.07.2019
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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31.07.2019
Messvorrichtung und Verfahren zur Bestimmung eines Substratgitters
Optik & Fototechnik
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31.07.2019
Inspektionsvorrichtung und Inspektionsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35