ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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05.01.2005
Lithographischer Apparat mit Spülgassystem
EP1447716
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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05.01.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1494078
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.06.2004
Anhängig
Vertretung
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29.12.2004
Heizungsanlage und Verfahren zur Heizung für einen Reaktor
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Status
Angemeldet am 12.04.2001
Erteilt am 29.12.2004
Vertretung
Epping Hermann & Fischer · München
Epping - Hermann - Fischer · München
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29.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1491955
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.06.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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29.12.2004
Dichtungsanordnung, lithographischer Projektionsapparat, und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 27.06.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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29.12.2004
Verfahren und Vorrichtung zur Positionierung eines Substrats auf einem Substrattisch
EP1491967
Optik & Fototechnik
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29.12.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
EP1491953
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
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29.12.2004
Biosensor und Methode zur Herstellung
EP1491884
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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29.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1491959
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.09.2002
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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29.12.2004
Eichverfahren für einen lithographischen Apparat
EP1491966
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.06.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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29.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1491965
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.06.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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29.12.2004
Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
WO2004114018
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2004
Anhängig
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22.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1489461
Optik & Fototechnik
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22.12.2004
Räumlicher Lichtmodulator
EP1489449
Optik & Fototechnik
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22.12.2004
Tragstruktur zur Verwending in einem lithographischen Gerät
EP1465012
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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15.12.2004
Bewegliches Trägersystem für einen lithographischen Belichtungsapparat, lithographischer Belichtungssapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1486824
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
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15.12.2004
Stützvorrichtung, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels, das eine Stützvorrichtung und ein Positionskontrollsystem zur Verwendung in einer Stützvorrichtung verwendet
EP1486825
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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15.12.2004
Kalibrationsverfahren, Kalibrationssubstrate, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung von Artikeln
EP1341046
Optik & Fototechnik
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15.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1403712
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.09.2003
Anhängig
Vertretung
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01.12.2004
Lithographischer Apparat
EP1482363
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.05.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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01.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1482373
Optik & Fototechnik
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01.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1480083
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2002
Anhängig
Vertretung
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01.12.2004
Verfahren zur Kalibrierung eines lithographischen Apparates
EP1482371
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2004
Anhängig
Vertretung
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24.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1480080
Optik & Fototechnik
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24.11.2004
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1480084
Optik & Fototechnik
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24.11.2004
Methode zum Beschichten eines Substrats für die EUV-Lithographie, sowie Substrat mit Fotoresistschicht
EP1480078
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.05.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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24.11.2004
Steuerungssystem, lithographisches Gerät, Verfahren zur Herstellung eines Gerätes und hiermit hergestelltes Gerät
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Status
Angemeldet am 29.04.2004
Anhängig
Vertretung
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24.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1480086
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.11.2004
Zur Herstellung eines mikroelektronischen Elements geeignete Struktur einer lithographischen Marke
EP1477860
Optik & Fototechnik
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17.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1477850
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.05.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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17.11.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und lithographischer Apparat
EP1477851
Optik & Fototechnik
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17.11.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und dabei hergestellter Artikel
EP1477852
Optik & Fototechnik
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17.11.2004
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Geräts, Ausrichtverfahren, Komputerprogramm, lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1477861
Optik & Fototechnik
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17.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1477856
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.04.2004
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.11.2004
Verfahren zum Charakterisieren eines Verfahrensschritts und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1477857
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.05.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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10.11.2004
Substrathalter für einen lithographischen Apparat
EP1475666
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.05.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
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10.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1475667
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.05.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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10.11.2004
Verfahren zur Herstellung von Komponenten für einen lithographischen Apparat
EP1475668
Optik & Fototechnik
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10.11.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
EP1475669
Optik & Fototechnik
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27.10.2004
Lithographisches Verfahren, sowie damit hergestelltes Gerät
EP1471386
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.04.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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