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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
13.06.2019
Systems and methods for tuning and calibrating charged particle beam apparatus
WO2019110572
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.06.2019
Verfahren zur Steuerung einer Lithographischen Vorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
EP3495888
Optik & Fototechnik
12.06.2019
Verfahren zur Steuerung einer Fertigungsvorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
EP3495889
Optik & Fototechnik
06.06.2019
Laser beam monitoring system
WO2019105664
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
06.06.2019
Systems and methods for charged particle beam modulation
WO2019106012
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.06.2019
Lithografische Vorrichtung
EP2142961
Optik & Fototechnik
05.06.2019
Verfahren und Apparat zur Erzeugung überlagerter Strukturen auf einem Substrat
EP2261739
Optik & Fototechnik
05.06.2019
Verfahren zum Ermitteln von Informationen über ein Musterungsverfahren, Verfahren zur Verringerung von Fehlern bei Messdaten, Verfahren zur Kalibrierung eines Metrologieverfahrens, Verfahren zur Auswahl von Metrologiezielen
EP3492985
Optik & Fototechnik
05.06.2019
Messverfahren, Inspektionsvorrichtung, Strukturierungsvorrichtung, Lithographisches System und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3492984
Optik & Fototechnik
05.06.2019
Systeme und Verfahren zur Vorhersage von Schichtverformung
EP3492983
Optik & Fototechnik
31.05.2019
Method and apparatus to determine a patterning process parameter
WO2019101447
Optik & Fototechnik
29.05.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Strukturierungsverfahrensparameters
EP3489756
Optik & Fototechnik
29.05.2019
Lithographische Vorrichtung, Vorrichtung zur Lithographischen Projektion und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3488293
Optik & Fototechnik
23.05.2019
Positioning system and method for positioning a stage with respect to a frame
WO2019096536
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
23.05.2019
Beleuchtungsintensitäts-Korrekturvorrichtung zur Vorgabe einer Beleuchtungsintensität über ein Beleuchtungsfeld einer Lithographischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2019096604
Optik & Fototechnik
23.05.2019
Object stage bearing for lithographic apparatus
WO2019096644
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
16.05.2019
Lithographic apparatus and method
WO2019091662
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.05.2019
Metrology apparatus and a method of determining a characteristic of interest
WO2019091678
Optik & Fototechnik
16.05.2019
Electron beam inspection tool and method for positioning an object table
WO2019091903
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.05.2019
Apparat und Verfahren zur optischen Positionsbewertung
EP1653288
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.05.2019
Strahlenverteilungsvorrichtung Lithographisches System und Verfahren
EP3049870
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
15.05.2019
Undulator, Freie-Elektronen-Laser und Lithographisches System
EP3126910
Maschinenelemente & Fluidtechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
15.05.2019
Strahlenteilungsvorrichtung
EP3345023
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.05.2019
Estimation Of Data in Metrology
WO2019086167
Optik & Fototechnik
09.05.2019
Metrology apparatus, method of measuring a structure, device manufacturing method
WO2019086221
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
09.05.2019
Cleaning A Surface Of an Optic Within A Chamber Of an Extreme Ultraviolet Light Source
WO2019086397
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
09.05.2019
Lithographic cluster, lithographic apparatus, and device manufacturing method
WO2019086334
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2019
Messvorrichtung und -Verfahren
EP3292440
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
08.05.2019
Schätzung von Daten in der Metrologie
EP3480659
Optik & Fototechnik
08.05.2019
Metrologievorrichtung und Verfahren zum Bestimmen einer Eigenschaft einer oder mehrerer Strukturen auf einem Substrat
EP3480554
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
08.05.2019
Stufensystem, Lithografische Vorrichtung, Verfahren zur Positionierung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3479173
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.05.2019
Mark, overlay target, and methods of alignment and overlay
WO2019081091
Optik & Fototechnik
02.05.2019
Apparatus for receiving a conductive fuel
WO2019081105
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
02.05.2019
Inspection tool, lithographic apparatus, electron beam source and an inspection method
WO2019081162
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.05.2019
Projection system calibration method
WO2019081167
Optik & Fototechnik
02.05.2019
Method of determining a value of a parameter of interest, method of cleaning a signal containing information about a parameter of interest
WO2019081211
Optik & Fototechnik
02.05.2019
Metrology method
WO2019081200
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.05.2019
System for monitoring a plasma
WO2019081364
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
02.05.2019
Burls With Altered Surface Topography For Holding an Object in Lithography Applications
WO2019081174
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.05.2019
Marke, Überlagerungsmarke und Verfahren zur Ausrichtung und Überlagerung
EP3477389
Optik & Fototechnik

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60
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35

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