ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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09.06.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
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Status
Angemeldet am 04.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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19.05.2004
Lithographischer Apparat
EP1174770
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.07.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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19.05.2004
Anordnung und System zur Verbesserung der Abbildungsgenauigkeit einer Phasenverschiebungsmaske und verwandte Verfahren
EP1343050
Optik & Fototechnik
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19.05.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1420302
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2003
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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19.05.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit rückwärtigen Ausrichtmarken
EP1420449
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.05.2004
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1416329
Optik & Fototechnik
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21.04.2004
Lithographischer Apparat mit Vakuumkammer und interferometrischem Ausrichtungssystem
EP1111473
Optik & Fototechnik
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15.04.2004
Beleuchtungssystem F R eine Wellenl Nge = 193 Nm mit Sensoren zur Bestimmung der Ausleuchtung
WO2004031854
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.09.2003
Anhängig
Vertretung
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07.04.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1406126
Optik & Fototechnik
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07.04.2004
Strahlungsquelle, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 30.09.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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31.03.2004
Hilfsmuster für lithographisches Belichtungsverfahren
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31.03.2004
System und Verfahren zur Anwendung einer zweiteiligen Abdeckung zum Schutz einer Fotomaske
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31.03.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1403713
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.09.2003
Anhängig
Vertretung
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17.03.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1398669
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.09.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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03.03.2004
Beleuchtungssystem mit einer Vielzahl von Einzelgittern
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28.01.2004
Belichtungsgerät für die EUV-Lithographie mit einem eine selbstausrichtende Monoschicht enthaltendem optischen Element, optisches Element mit selbstausrichtender Monoschicht, Methode zum Aufbringen einer solchen Schicht und Verfahren zur Erzeugung eines Geräts
EP1385051
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.06.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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28.01.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1385058
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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21.01.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1383007
Optik & Fototechnik
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14.01.2004
Substrathalter und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1380898
Optik & Fototechnik
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07.01.2004
Lithographischer Projektionsapparat mit einer temperaturgeregelten Wärmeabschirmung
EP1124161
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.12.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1372036
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.06.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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10.12.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 04.06.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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03.12.2003
Lithographischer Apparat
EP1367446
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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12.11.2003
Ausseraxiale Nivellierung in einem lithographischen Projektionsapparat
EP1037117
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2000
Anhängig
Vertretung
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05.11.2003
Halter, lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung eines Halters und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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29.10.2003
Lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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29.10.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1357435
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.04.2003
Anhängig
Vertretung
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29.10.2003
Lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 22.04.2003
Anhängig
Vertretung
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15.10.2003
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und dabei hergesteller Artikel
EP1353229
Optik & Fototechnik
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15.10.2003
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Rechnerprogramme
EP1353230
Optik & Fototechnik
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15.10.2003
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, diese Vorrichtung und Rechnerprogramm
EP1353234
Optik & Fototechnik
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01.10.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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17.09.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 13.03.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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10.09.2003
Beleuchtungssystem für Extrem-Ultraviolett-Strahlung und dessen Anwendung in einem lithographischen Apparat
EP1037113
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2000
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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03.09.2003
Verfahren zur Übergabe einer Maske oder eines Substrats
EP1341045
Optik & Fototechnik
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27.08.2003
Isolierende Stützvorrichtungen zur Verwendung mit Vakuumkammern und deren Anwendung in lithographischen Projektionsapparaten
EP1052553
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.04.2000
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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20.08.2003
Lithographischer Apparat, Ausrichtverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1336899
Optik & Fototechnik
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13.08.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1335249
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.02.2003
Anhängig
Vertretung
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13.08.2003
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1335248
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.02.2003
Anhängig
Vertretung
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06.08.2003
Lithographisches Projektionsverfahren
EP1059565
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2000
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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