ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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31.01.2019
Particle suppression systems and methods
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.07.2018
Anhängig
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31.01.2019
Method for parameter determination and apparatus thereof
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.07.2018
Anhängig
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30.01.2019
Bestimmung eines Kantenrauheitsparameters einer Periodischen Struktur
Optik & Fototechnik
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30.01.2019
Elektrische Schaltung zur Emulation Variabler Elektrischer Eigenschaften
Elektronik & Schaltungstechnik
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30.01.2019
Metrologieverfahren, Metrologievorrichtung und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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24.01.2019
Information determining apparatus and method
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 18.06.2018
Anhängig
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24.01.2019
Optical Membrane
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2018
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24.01.2019
Methods and apparatus for measurement of a parameter of a feature fabricated on a semiconductor substrate
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.07.2018
Anhängig
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24.01.2019
Control of reticle placement for defectivity optimization
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.06.2018
Anhängig
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23.01.2019
Informationsbestimmungsvorrichtung und -Verfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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23.01.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Messung eines Parameters einer auf einem Halbleitersubstrat Hergestellten Eigenschaft
Optik & Fototechnik
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17.01.2019
Method to obtain a height map of a substrate having alignment marks, substrate alignment measuring apparatus and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.06.2018
Anhängig
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17.01.2019
Lithographic method and apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.06.2018
Anhängig
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17.01.2019
Inspection tool, lithographic apparatus, lithographic system, inspection method and device manufacturing method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2018
Anhängig
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17.01.2019
Inspection tool, lithographic apparatus, lithographic system, inspection method and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2018
Anhängig
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17.01.2019
Defect Prediction
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2018
Anhängig
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17.01.2019
Measurement apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.07.2018
Anhängig
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16.01.2019
Inspektionswerkzeug, Lithographische Vorrichtung, Lithographisches System, Inspektionsverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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16.01.2019
Inspektionswerkzeug, Lithographische Vorrichtung, Lithographisches System, Inspektionsverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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10.01.2019
Clearing out method, revealing device, lithographic apparatus, and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.05.2018
Anhängig
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03.01.2019
Method of determining a performance parameter of a process
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2018
Anhängig
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03.01.2019
Method for determining deformation
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.05.2018
Anhängig
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03.01.2019
Cooling apparatus and plasma-cleaning station for cooling apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2018
Anhängig
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03.01.2019
Methods and patterning devices and apparatuses for measuring focus performance of a lithographic apparatus, device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.05.2018
Anhängig
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03.01.2019
Metrology parameter determination and metrology recipe selection
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.06.2018
Anhängig
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02.01.2019
Lichtleitwertregelvorrichtung für einen gepulsten Strahl
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.11.2009
Erteilt am 02.01.2019
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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02.01.2019
Verfahren und Strukturierungsvorrichtungen sowie Vorrichtungen zur Messung der Fokusleistung einer Lithografievorrichtung, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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02.01.2019
Verfahren zur Bestimmung eines Güteparameters eines Prozesses
Optik & Fototechnik
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02.01.2019
Metrologieparameterbestimmung und Metrologierezeptauswahl
Optik & Fototechnik
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27.12.2018
Methods and apparatus for optical metrology
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.05.2018
Anhängig
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27.12.2018
Sensor, lithographic apparatus, and device manufacturing method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2018
Anhängig
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27.12.2018
Determining Edge Roughness Parameters
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.05.2018
Anhängig
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27.12.2018
Method and apparatus for detecting substrate surface variations
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2018
Anhängig
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27.12.2018
Radiation source module and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 08.06.2018
Anhängig
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27.12.2018
Supply system for an extreme ultraviolet light source
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 19.06.2018
Anhängig
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26.12.2018
Phasenvorrichtung zur Verwendung in einer Lithografischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
The invention provides a stage apparatus (101) for use in a lithographic apparatus, the stage apparatus comprising an object support (102) comprising a surface for mounting an object (105a) on, the surface extending in a plane, and a plurality of support members (103) for supporting the object, arranged to receive the object from a gripper (104) and to arrange the object on the surface and/or vice versa. The support members are moveable in at least a first direction which is perpendicular to the plane. The stage apparatus comprises a control unit comprising an input terminal for receiving shape information regarding an out-of-plane-shape of the object, and a processing unit configured to determine, based on said shape information, a supporting arrangement relating to positions of the support members relative to each other in at least the first direction. The control unit is configured to control the positions of the support members based on the supporting arrangement. |
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26.12.2018
Verfahren und Vorrichtung für Optische Metrologie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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20.12.2018
Device manufacturing methods
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 07.05.2018
Anhängig
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20.12.2018
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 31.05.2018
Anhängig
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19.12.2018
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Zusammenfassung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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