Carl Zeiss SMT Logo

Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

1.949 gesamt
Patent
03.03.2010
Belichtungsvorrichtung und Messeinrichtung für eine Projektionslinse
EP1706793
Optik & Fototechnik
24.02.2010
Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elementes mit Hilfe von Abformung, Optisches Element hergestellt nach Diesem Verfahren, Kollektor und Beleuchtungssystem
EP2155932
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
11.02.2010
Transmittierendes Optisches Element aus Magnesium-Aluminium-Spinell
WO2010015296
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
28.01.2010
Method for modifying a polarization distribution in a microlithographic projection exposure apparatus, and microlithographic projection exposure apparatus
WO2010009788
Optik & Fototechnik
21.01.2010
Optische Einrichtung mit einem Deformierbaren Optischen Element
WO2010007036
Optik & Fototechnik
21.01.2010
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2010006687
Optik & Fototechnik
14.01.2010
Illumination system for a projection exposure apparatus in semiconductor lithography and projection exposure apparatus
WO2010003527
Optik & Fototechnik
07.01.2010
Optische Abbildungseinrichtung mit Bestimmung von Abbildungsfehlern
WO2010000757
Optik & Fototechnik
30.12.2009
Illumination optical unit for microlithography
WO2009156038
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.12.2009
Projection exposure system for microlithography and method of monitoring a lateral imaging stability
WO2009156111
Optik & Fototechnik
30.12.2009
Katadioptrisches Projektionsobjektiv
EP1771771
Optik & Fototechnik
23.12.2009
Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method
WO2009152867
Optik & Fototechnik
23.12.2009
Particle cleaning of optical elements for microlithography
WO2009152885
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
23.12.2009
Katadioptrisches System mit hoher Apertur
EP2136231
Optik & Fototechnik
23.12.2009
Projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising a device for the thermal manipulation of an optical element
WO2009152959
Optik & Fototechnik
17.12.2009
Optische Einrichtung mit Einstellbarer Kraftwirkung auf ein Optisches Modul
WO2009150178
Optik & Fototechnik
10.12.2009
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer Optischen Eigenschaft eines Optischen Systems
WO2009146855
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.12.2009
An Element, in Particular an Optical Element, For Immersion Lithography
WO2009143879
Optik & Fototechnik
02.12.2009
Optisches Element für ein Beleuchtungssystem
EP1614008
Optik & Fototechnik
26.11.2009
Optisches System für die Mikrolithographie
WO2009141033
Optik & Fototechnik
12.11.2009
Projektionsoptik für die Mikrolithografie mit Intensitäts-Korrektureinrichtung
WO2009135556
Optik & Fototechnik
12.11.2009
Component for setting a scan-integrated illumination energy in an object plane of a microlithography projection exposure apparatus
WO2009135576
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.11.2009
Optische Elementeinheit für Belichtungsprozesse
EP1735666
Optik & Fototechnik
05.11.2009
Illumination optics for euv microlithography and illumination system and projection exposure apparatus comprising an illumination optics of this type
WO2009132756
Optik & Fototechnik
22.10.2009
Lithographic apparatus comprising an internal sensor and a mini-reactor, and method for treating a sensing surface of the internal sensor
WO2009128717
Optik & Fototechnik
15.10.2009
Optical aperture device
WO2009124595
Optik & Fototechnik
15.10.2009
Optical aperture device
WO2009124590
Optik & Fototechnik
14.10.2009
Schiefspiegliges Normal-Incidence-Kollektorsystem für Lichtquellen, insbesondere Euv-Plasmaentladungsquellen
EP1658615
Optik & Fototechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
08.10.2009
Projektionsbelichtungsanlage für die Euv-Mikrolithographie
WO2009121438
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
08.10.2009
Cleaning module and euv lithography device with cleaning module
WO2009121385
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
08.10.2009
Protection module and euv lithography apparatus with protection module
WO2009121641
Optik & Fototechnik
08.10.2009
Vorrichtung zur Mikrolithographischen Projektionsbelichtung und Verfahren zum Prüfen einer Derartigen Vorrichtung
WO2009121546
Optik & Fototechnik
08.10.2009
Vorrichtung zur Mikrolithographischen Projektionsbelichtung sowie Vorrichtung zur Inspektion einer Oberfläche eines Substrats
WO2009121541
Optik & Fototechnik
24.09.2009
Reinigungsmodul, Euv-Lithographievorrichtung und Verfahren zu Ihrer Reinigung
WO2009115370
Optik & Fototechnik
24.09.2009
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
WO2009115362
Optik & Fototechnik
23.09.2009
Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage mit Wellenlängen < 193 nm
EP1884831
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.09.2009
Reducing Particle Implantation
WO2009114230
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16.09.2009
Symmetrisches Objektiv mit vier Linsengruppen für die Mikrolithographie
EP2101209
Optik & Fototechnik
03.09.2009
Method for operating an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2009106217
Optik & Fototechnik
03.09.2009
Method of bonding two components by,,fusion bonding" to form a bonded structure
WO2009106305
Anorganische Chemie & Werkstoffe

Wer vertritt Carl Zeiss SMT?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

Zum Anmelder-Profil

Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen