FEI Company Patente
🇺🇸 USA
US-amerikanischer Hersteller von Elektronenmikroskopen und wissenschaftlichen Bildgebungssystemen, seit 2016 Teil von Thermo Fisher Scientific. Patente betreffen Elektronen- und Ionenmikroskopie sowie Materialanalyse.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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506 gesamt| Patent | |||
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26.04.2017
Interferometrisches Stehwellenmikroskop
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.10.2015
Anhängig
Vertretung
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Bakker, Hendrik · Eindhoven
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19.04.2017
Untersuchung von Hochtemperaturproben im Ladungsträgerteilchenmikroskop
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.10.2015
Anhängig
Vertretung
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
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05.04.2017
Geladenes Teilchenstrahlsystem unter Hochdruck
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.04.2017
Adaptiver Strahlstrom zur Substratstrukturierung mit Hohem Durchsatz
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.03.2017
Ladungsträgerteilchenmikroskop mit Verbesserter Spektroskopischer Funktionalität
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.03.2017
Verfahren zur Herstellung dünner Proben zur TEM-Abbildung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.03.2017
Verfahren zur Herstellung von TEM-Proben mit rückseitigem Dünnen von Querschnittslamellen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.03.2017
Positionsfehlerkorrektur in einer Tomografieabbildungsvorrichtung
Software & Datenverarbeitung
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22.02.2017
Verfahren und Vorrichtung zur Probenextraktion und -Handhabung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.02.2017
Verfahren und Struktur zur Steuerung von Magnetfeldverteilungen in einem ExB-Wien-Filter
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
An ExB Wien mass filter (700) providing a method and structure for mechanically adjusting the magnetic field distributions at the mass filter entrance and exit end caps (722 and 726, respectively). The reluctance of the flux return path may be modified by configuring pluralities of magnetic shims (790, 796) within slots (750, 756) at the outer diameters of the entrance and exit end caps, and also by configuring pluralities of magnetic plug shims (906) within circular flux dams (902) surrounding the entrance and exit apertures (724 and 728, respectively). Advantages of purely mechanical adjustment for the magnetic fields of the present invention, compared with prior art electromagnet adjustment methods include greater reliability, simplicity, lower cost, and lack of power dissipation. The invention may employ either permanent magnets or electromagnets for generation of the mass-separation magnetic field. |
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01.02.2017
Abtastmuster mit Ineinanderliegenden Umlaufenden Windungen in einem Ladungsträgerteilchenmikroskop
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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25.01.2017
Bezugsmarke für Tem/stem-Tomografie-Neigeserie-Erfassung und Ausrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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04.01.2017
Integrierte Lichtoptik und Gaszufuhr in einer Ladungsteilchenlinse
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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04.01.2017
Adaptiver Strahlstrom zur Substratstrukturierung mit Hohem Durchsatz
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.12.2016
Detektor für Geladene Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.12.2016
Verfahren zur Analyse von Oberflächenmodifikationen einer Probe in eines Ladungsträger-Mikroskop
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.12.2016
Verfahren zur Analyse von Oberflächenmodifikationen einer Probe in eines Ladungsträger-Mikroskop
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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30.11.2016
Adaptive Abtastung zur Messung der Partikelgrösse unter Verwendung von Ausgerichteter Strahlsignalanalyse
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.11.2016
Elektronenstrahlsystem, dessen Elektronquelle mit auswählbaren mehrfachen Elektronenelemittern vorgesehen ist
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
A charged particle source (202) for a focused particle beam system (200) such as a transmission electron microscope (TEM), scanning transmission electron microscope (STEM), scanning electron microscope (SEM), or focused ion beam (FIB) system is disclosed. The source employs a multiplicity of independently-addressable emitters within a small region which can be centered on the axis of the charged particle system. All of the emitters may be individually controlled to enable emission from one or more tips simultaneously. A mode with only one emitter activated corresponds to high brightness, while modes with multiple emitters simultaneously activated provides high angular intensities with lower brightness. Source lifetimes can be extended through sequential use of single emitters. A combined mechanical and electrical alignment procedure for all emitters is described. |
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19.10.2016
Verfahren zur Manipulation einer Probe in einer Evakuierten Kammer einer Geladenen Teilchenvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.10.2016
Ladungsträgerteilchenstrahlbearbeitungsverfahren mit Prozessgas und Gekühlter Oberfläche
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.09.2016
Hochspannungsisolation einer Induktiv Gekoppelten Plasmaionenquelle mit einer nicht Aktiv Gepumpten Flüssigkeit
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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21.09.2016
In-situ-Reaktivierung von Fluoreszenzmarkern
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
Vapor is provided locally at a sample surface to allow fluorescence of the fluorescent markers in a vacuum chamber. For example, a nanocapillary can dispense a liquid near a region of interest, the liquid evaporating to increase the vapor pressure near the fluorescent markers. The increase in vapor pressure at the fluorescent marker is preferably sufficiently great to prevent deactivation or to reactivate the fluorescent marker, while the overall pressure in the vacuum chamber is preferably sufficiently low to permit charged particle beam operation with little or no additional evacuation pumping. |
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21.09.2016
Tem-Probenvorbereitung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.09.2016
Automatisierte Kalibrierung von Eds-Standards
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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31.08.2016
Impulsverarbeitung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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24.08.2016
Verfahren zur Durchführung von Tomographiebildgebung einer Probe in einem Mikroskop mit geladenen Teilchen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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24.08.2016
Strukturanalyse mit Hohem Aspektverhältnis
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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24.08.2016
Aufbringen von Material in Strukturen mit Hohem Aspektverhältnis
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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13.07.2016
Probenvorbereitungshalter
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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13.07.2016
Multispezies-Ionenquelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.06.2016
Verbesserter Probenhalter für Ladungsträgerteilchenmikroskop
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.06.2016
Referenzbasierte Korrelative Mikroskopie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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15.06.2016
Verbesserter kryogener Probenhalter für Ladungsträgerteilchenmikroskop
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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25.05.2016
Niedrigenergieionenstrahlätzung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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18.05.2016
Ladungsträgerteilchenmikroskop mit Barometrischer Druckkorrektur
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.05.2016
System und Verfahren zur Ortung einer hohen Anzahl an fluoreszierenden Marken in biologischen Proben
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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20.04.2016
System mit geladenem Teilchenstrahl
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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20.04.2016
Kompakte Hf-Antenne für eine Induktiv Gekoppelte Plasmaionenquelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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20.04.2016
Induktiv gekoppelte Plasmaquelle als eine Elektronenstrahlquelle zur Spektralanalyse
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Wer vertritt FEI Company?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die FEI Company vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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