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KLA Corporation Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495
Patente
2000–2019
Anmeldejahre
18
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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495 gesamt
Patent
20.01.2021
Metallschutzschicht für Elektronenemitter mit einer Diffusionsbarriere
EP3766092
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.01.2021
Overlay-Metrologiesystem und -Verfahren
EP3762960
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.01.2021
Trainieren eines Neuronalen Netzes zur Fehlerdetektion in Bildern mit Niedriger Auflösung
EP3762961
Software & Datenverarbeitung
11.11.2020
Optisches Abbildungssystem mit einem Lasergeneriertes Tröpfchen-Plasma als Beleuchter
EP2676292
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.07.2020
Bestimmung Optischer Materialeigenschaften zur Optischen Messung von Strukturen
EP2567209
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
24.06.2020
Systeme und Verfahren zum Erzeugen von Persistenten Daten für einen Wafer und zur Verwendung Persistenter Daten für Untersuchungsbezogene Funktionen
EP2195834
Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.06.2020
Verfahren und System zur Bereitstellung einer Qualitätsmetrik für Verbesserte Verfahrenssteuerung
EP2694983
Optik & Fototechnik
20.05.2020
Bekämpfung von Molekularer Atmosphärischer Kontamination mit Lokaler Reinigung
EP2729760
Verfahrens- & Trenntechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.05.2020
Partikelsuspensionen als Kontrastarme Standards zur Untersuchung von Flüssigkeiten
EP3019850
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
06.05.2020
Verfahren und Anordnung zur Positionierung von Elektronischen Vorrichtungen aus Fächern eines Eingabemediums und in ein Ausgabemedium
EP2589278
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektronik & Schaltungstechnik
29.04.2020
Lasergestützte Plasmalichtquelle mit Abgestuften Absorptionseigenschaften
EP3357081
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
15.04.2020
Hybrides Überlagerungszieldesign für Abbildungsbasierte Überlagerung und Scatterometrie-Basierte Überlagerung
EP3635488
Optik & Fototechnik
08.04.2020
Waferinspektion
EP2732272
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.03.2020
Verfahren und Systeme zur Charakterisierung eines Röntgenstrahls mit Hoher Räumlicher Auflösung
EP3622276
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.02.2020
Messung der Form- und Dickeschwankung eines Wafers mit Hohen Steigungen
EP2286180
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
15.01.2020
Metrologiesysteme und -Verfahren
EP2474027
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
15.01.2020
Systeme und Verfahren zur Metrologie mit Schichtspezifischen Beleuchtungsspektren
EP3593377
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
15.01.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Messung von Phase und Amplitude von Licht durch eine Schicht
EP3593209
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.12.2019
Verfahren und System zur Objektbasierten Metrologie für Erweiterte Waferoberflächen-Nanotopographie
EP2663998
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.12.2019
Prozessstabile Überlagerungsmetrologie auf Basis Optischer Scatterometrie
EP3577444
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
27.11.2019
Euv-Prüfsystem mit Hohem Durchlauf zur Fehlererkennung auf Strukturierten Euv-Masken, Maskenrohlinge und Wafer
EP2443440
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
06.11.2019
Verfahren zur Prüfung einer Probe mit verschiedenen Prüfparametern
EP2256487
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16.10.2019
System und Verfahren zur Messung der Substrat- und Schichtdickenverteilung
EP3551964
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2019
Reduzierte Coulomb-Interaktionen in einer Mehrstrahlensäule
EP3549154
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.09.2019
Systeme und Verfahren zur Erhöhung der Prüfempfindlichkeit eines Prüfwerkzeugs
EP3271939
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
14.08.2019
Messung der Lebensdauer einer Kristallstelle in einem Nichtlinearen Optischen Kristall
EP2638566
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.08.2019
Verfahren zur Bestimmung einer Asymmetrischen Eigenschaft einer Struktur
EP2625487
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
07.08.2019
Waferinspektion
EP2652776
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.08.2019
Optische Nahfeldmetrologie
EP3519762
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.07.2019
Vorrichtung und Verfahren zur Korrektur von Array-Astigmatismus in einem Mehrspaltigen Rasterelektronenmikroskopiesystem
EP3510623
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.07.2019
Geschwindigkeitsverbesserung von Chromatischer Konfokaler Metrologie
EP3510350
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
12.06.2019
Verfahren und System zur Bereitstellung von Korrekturwerten für Prozessgeräte unter Verwendung eines Optimierten Abtastschemas mit Intelligenter Interpolation
EP2537180
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.05.2019
Differentielle Verfahren und Vorrichtung zur Metrologie von Halbleiter-Targets
EP3031073
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.05.2019
Reduction Or Elimination Of Pattern Placement Error in Metrology Measurements
WO2019083560
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.05.2019
Vorrichtung und Verfahren zur Messung der Musterplatzierung und Mustergrösse und Computerprogramm dafür
EP3475972
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
25.04.2019
Utilizing Overlay Misregistration Error Estimations in Imaging Overlay Metrology
WO2019078901
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Linderung von durch Laser Herbeigeführten Schäden an Optischen Materialien durch Unterdrückung der Formation von Übergangsfarbzentren sowie zur Steuerung der Phonon-Population
EP2522056
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.03.2019
Quick adjustment of metrology measurement parameters according to process variation
WO2019045780
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.02.2019
Apparat und Verfahren zur Vorhersage eines Halbleiter-Parameters über Einenwaferbereich
EP2188832
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
27.02.2019
Frequenzumwandlungssystem mit Hoher Schadensschwelle
EP2638605
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Wer vertritt KLA Corporation?

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Technologiefelder

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
301
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
195
Optik & Fototechnik
114
Software & Datenverarbeitung
56
Elektronik & Schaltungstechnik
15
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
4
Steuerungs- & Regelungstechnik
4
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
3
Verpackungs- & Fördertechnik
2
Verfahrens- & Trenntechnik
2
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
2
Metallurgie & Oberflächentechnik
2

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