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KLA Corporation Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495
Patente
2000–2019
Anmeldejahre
18
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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495 gesamt
Patent
22.03.2018
Systems and methods for optimizing focus for imaging-based overlay metrology
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
22.03.2018
Simultaneous Multi-Directional Laser Wafer Inspection
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
01.03.2018
Multi-Pin Dense Array Resistivity Probe
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
15.02.2018
Optical Measurement Of Opening Dimensions in A Wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.02.2018
Method and computer program product for controlling the positioning of patterns on a substrate in a manufacturing process
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.02.2018
An apparatus and method for cleaning wafer handling equipment
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.01.2018
Reverse decoration for defect detection amplification
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.01.2018
Bestimmen von Inspektionsbereiche für Wafer
Steuerungs- & Regelungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.12.2017
Encapsulated instrumented substrate apparatus for acquiring measurement parameters in high temperature process applications
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.12.2017
Verfahren und System zur Abbildung einer Fotomaske durch eine Abziehemulsionsschicht
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.11.2017
Fotovervielfacherröhre, Bildsensor und Inspektionssystem mit Pmt oder Bildsensor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.10.2017
Zeilenabtastender Messerkantenhöhensensor für Halbleiterinspektion und Messtechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
05.10.2017
Method and apparatus for polarized light wafer inspection
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2017
All surface film metrology system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.10.2017
High Brightness Laser-Sustained Plasma Broadband Source
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.09.2017
System, method and computer program product for identifying fabricated component defects using a local adaptive threshold
Software & Datenverarbeitung
06.09.2017
Systeme und Verfahren zur Inspektion und Überprüfung auf Reflektierende Waferdefekte
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.08.2017
Analyzing Root Causes Of Process Variation in Scatterometry Metrology
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung
20.07.2017
Systems and methods for extended infrared spectroscopic ellipsometry
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.07.2017
System and method for semiconductor wafer inspection and metrology
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.07.2017
Generating high resolution images from low resolution images for semiconductor applications
Software & Datenverarbeitung
15.06.2017
X-ray scatterometry metrology for high aspect ratio structures
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
15.06.2017
Reducing registration and design vicinity induced noise for intra-die inspection
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.06.2017
Defect Signal To Noise Enhancement By Reducing die To die Process Noise
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
08.06.2017
Non-contact thermal measurements of vuv optics
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.06.2017
Methods to store dynamic layer content inside a design file
Software & Datenverarbeitung
26.05.2017
Plasma based light source having a target material coated on a cylindrically-symmetric element
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.04.2017
System and method for laser-sustained plasma illumination
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
30.03.2017
Increasing dynamic range of a height sensor for inspection and metrology
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
30.03.2017
Backscattered electrons (bse) imaging using multi-beam tools
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.03.2017
Systems and methods for controlling an etch process
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.03.2017
Adaptive Automatic Defect Classification
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.03.2017
Self directed metrology and pattern classification
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.03.2017
Model-based metrology using images
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung
09.03.2017
Techniques and systems for model-based critical dimension measurements
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.03.2017
Ausrichtsmarken, Methoden zum Entwurf von Ausrichtmarken, und Verfahren zum Messen von Ausrichtfehlern
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.03.2017
Determining one or more characteristics of a pattern of interest on a specimen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.02.2017
Numerische Aperturintegration in Raleigh-Wellenlängen für Ocd-Metrologie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.02.2017
Nachweis von Dünnen Linien für Selektive Empfindlichkeit bei Inspektion eines Retikels unter Verwendung von Verarbeiteten Bildern
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
09.02.2017
Range-Based Real-Time Scanning Electron Microscope Non-Visual Binner
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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