Tokyo Electron Patente
🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.253
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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6.253 gesamt| Patent | |||
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23.08.2007
Film precursor evaporation system and method of using
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 16.01.2007
Anhängig
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23.08.2007
Exhaust Deposit Buildup Monitoring in Semiconductor Processing
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.02.2007
Anhängig
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23.08.2007
Method and system for selectively etching a dielectric material relative to silicon
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.12.2006
Anhängig
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22.08.2007
Mikrowellenplasmaprozesseinrichtung, Plasmazündverfahren, Plasmabildeverfahren und Plasmaprozessverfahren
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 28.03.2002
Erteilt am 22.08.2007
Vertretung
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16.08.2007
Plasma treatment apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2007
Anhängig
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16.08.2007
Film forming method, plasma film forming apparatus and storage medium
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.02.2007
Anhängig
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16.08.2007
Apparatus for controlling substrate processing apparatus and program for controlling substrate processing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.02.2007
Anhängig
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16.08.2007
Plasma treatment device, and plasma treatment method
Elektronik & Schaltungstechnik
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Angemeldet am 09.02.2007
Anhängig
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16.08.2007
Transforming metrology data from a semiconductor treatment system using multivariate analysis
Software & Datenverarbeitung
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Angemeldet am 30.01.2007
Anhängig
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15.08.2007
Vorrichtung zur Plasmaverarbeitung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 18.01.2001
Erteilt am 15.08.2007
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09.08.2007
Light source device, substrate treating device, and substrate treating method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 29.01.2007
Anhängig
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09.08.2007
Substrate processing apparatus, substrate placing table used for same, and member exposed to plasma
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 31.01.2007
Anhängig
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09.08.2007
Microwave plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 31.01.2007
Anhängig
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09.08.2007
Method for seed film formation, plasma film forming apparatus, and memory medium
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.01.2007
Anhängig
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09.08.2007
Pressure reducing apparatus
Verfahrens- & Trenntechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.02.2007
Anhängig
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08.08.2007
Verfahren und System zur Abscheidung von Metallschichten aus Metallcarbonylvorläufern
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.08.2007
Belichtungsbedingungs-Einrichtverfahren, Substratverarbeitungseinrichtung und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.08.2007
Temperaturregelungsverfahren und -System für eine Flüssigkeit mit Niedriger Strömungsrate
Kunststoff- & Polymertechnik
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 07.11.2005
Anhängig
Vertretung
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01.08.2007
Vorrichtung zum Aufwärmen einer Flüssigkeit
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
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26.07.2007
Substrate processing device, license management program, license information provision device, license information provision program, license management system and recording medium
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 26.12.2006
Anhängig
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26.07.2007
Plasma processing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.01.2007
Anhängig
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25.07.2007
Impedanzmessungsschaltkreis, -Detektor und Verfahren zur Impedanzmessung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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25.07.2007
Halbleiterspeicherbaustein und Verfahren zu Seiner Herstellung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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25.07.2007
Vertikal-Wärmebehandlungsvorrichtung und Betriebsverfahren dafür
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.07.2007
Vacuum treating device and vacuum treating method
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 11.01.2007
Anhängig
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19.07.2007
Method of forming porous film and computer-readable recording medium
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.01.2007
Anhängig
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18.07.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung Dünner Filme
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.03.2000
Erteilt am 18.07.2007
Vertretung
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18.07.2007
Plasmaverarbeitungsvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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12.07.2007
Method for cleaning/drying apparatus for transferring subject to be processed, cleaning/drying apparatus and storing medium
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 05.01.2007
Anhängig
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11.07.2007
Plasmafilmbildungsverfahren und Plasmafilmbildungseinrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.07.2007
System zur Messung der Elektronendichte und Plasma-Prozesssteuerung, das Änderungen in der Resonanzfrequenz eines Plasma Enthaltenden Offen Resonators Verwendet
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.07.2007
Beförderungssystem, Substratbehandlungsvorrichtung und Beförderungsverfahren
Verpackungs- & Fördertechnik
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05.07.2007
Substrate processing device and substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 30.11.2006
Anhängig
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05.07.2007
Film forming apparatus, film forming method, precoating layer, and method for precoating layer formation
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.12.2006
Anhängig
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05.07.2007
Film forming apparatus and process for producing light emitting element
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.09.2006
Anhängig
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05.07.2007
Etching method and recording medium
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 20.12.2006
Anhängig
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28.06.2007
Method for modifying highly dielectric thin film and semiconductor device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.11.2006
Anhängig
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28.06.2007
Substrate processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.12.2006
Anhängig
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28.06.2007
Feedstock supply unit and vapor deposition equipment
Metallurgie & Oberflächentechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2006
Anhängig
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27.06.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Substratverarbeitung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Wer vertritt Tokyo Electron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Metallurgie & Oberflächentechnik
1.560
Elektronik & Schaltungstechnik
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Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Optik & Fototechnik
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Verfahrens- & Trenntechnik
290
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
234
Software & Datenverarbeitung
145
Steuerungs- & Regelungstechnik
141
Verpackungs- & Fördertechnik
82
Anorganische Chemie & Werkstoffe
69
Maschinenelemente & Fluidtechnik
56