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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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6.253 gesamt
Patent
18.10.2007
Measuring a damaged structure formed on a wafer using optical metrology
WO2007117436
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
18.10.2007
Method for introducing a precursor gas to a vapor deposition system
WO2007117803
Metallurgie & Oberflächentechnik
18.10.2007
Method for integrating a conformal ruthenium layer into copper metallization of high aspect ratio features
WO2007117802
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.10.2007
Semiconductor device with gate dielectric containing mixed rare earth elements
WO2007117991
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.10.2007
Measuring a damaged structure formed on a wafer using optical metrology
WO2007117434
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
18.10.2007
Method of forming a metal carbide or metal carbonitride film having improved adhesion
WO2007117797
Metallurgie & Oberflächentechnik
18.10.2007
Method of forming mixed rare earth nitride and aluminum nitride films by atomic layer deposition
WO2007118006
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.10.2007
Semiconductor device with gate dielectric containing aluminum and mixed rare earth elements
WO2007118004
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.10.2007
Substrate processing apparatus and substrate placing table
WO2007114335
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.10.2007
Exhaust structure of film-forming apparatus, film-forming apparatus, and method for processing exhaust gas
WO2007114427
Metallurgie & Oberflächentechnik
11.10.2007
Method of forming mixed rare earth oxide and aluminate films by atomic layer deposition
WO2007115029
Metallurgie & Oberflächentechnik
11.10.2007
Monitoring a system during low-pressure processes
WO2007115084
Steuerungs- & Regelungstechnik
11.10.2007
Monitoring a single-wafer processing system
WO2007115080
Steuerungs- & Regelungstechnik
11.10.2007
Monitoring a monolayer deposition (mld) system using a built-in self test (bist) table
WO2007115136
Steuerungs- & Regelungstechnik
11.10.2007
Method for creating a built-in self test (bist) table for monitoring a monolayer deposition (mld) system
WO2007115138
Steuerungs- & Regelungstechnik
10.10.2007
Mikrostrukturelement-Füllprozess und Vorrichtung mit Hexachlorodisilan oder einem Anderen Chlorhaltigen Silizium-Precursor
EP1842231
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Method of substrate treatment, process for producing semiconductor device, substrate treating apparatus, and recording medium
WO2007111126
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Semiconductor processing system with wireless sensor network monitoring system incorporated therewith
WO2007112180
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Method of plasma enhanced atomic layer deposition of tac and tacn films having good adhesion to copper
WO2007111780
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Method of integrating peald ta-containing films into cu metallization
WO2007111779
Metallurgie & Oberflächentechnik Elektronik & Schaltungstechnik
04.10.2007
Method of light enhanced atomic layer deposition
WO2007111781
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Method of monitoring a semiconductor processing system using a wireless sensor network
WO2007112181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Method for purifying metal carbonyl precursors
WO2007112394
Metallurgie & Oberflächentechnik
03.10.2007
Plasmabehandlungsapparatur und Plasmabehandlungsverfahren
EP1213749
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2007
Herstellungsprozess eines Halbleiterbauelements mit einem Zwischenfilm aus Siliziumnitrid mit Niedriger Dielektrizitätskonstante
EP1316108
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2007
Plasma-Verarbeitungsverfahren
EP1840950
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
27.09.2007
Plasma processing apparatus
WO2007108366
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.09.2007
Ceramic coating member for semiconductor processing apparatus
WO2007108546
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.09.2007
Kontaktstruktur zur Untersuchung und Sondenkarte
EP1837663
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
26.09.2007
Dynamisch Umkonfigurierbarer Prozessor
EP1836601
Software & Datenverarbeitung
26.09.2007
Halbleiterchip mit Identifikationscodes, Herstellungsverfahren des Chips und Halbleiterchip-Verwaltungssystem
EP1836729
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.09.2007
Method for forming ti-based film and storage medium
WO2007105432
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.09.2007
Plasma etching method
WO2007105727
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.09.2007
Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
EP1835529
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.09.2007
Processing device
WO2007102464
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.09.2007
Methods of depositing ruthenium film and memory medium readable by computer
WO2007102333
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.09.2007
Weighting Function Of Enhance Measured Diffraction Signals in Optical Metrology
WO2007103302
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
12.09.2007
Verfahren zur Erkennung eines Anormalen Durchflusses in einem Durchflussregler für ein unter Druck Stehendes Fluidum
EP1126347
Maschinenelemente & Fluidtechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
07.09.2007
Plasma oxidation method and method for manufacturing semiconductor device
WO2007099922
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.08.2007
Method for forming amorphous carbon film and method for manufacturing semiconductor device using same
WO2007097432
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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Steuerungs- & Regelungstechnik
141
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82
Anorganische Chemie & Werkstoffe
69
Maschinenelemente & Fluidtechnik
56

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