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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
14.12.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1491961
Optik & Fototechnik
30.11.2011
Halterungsanordnung und Verfahren zur Halterung und thermischen Konditionierung eines Substrats
EP1650604
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1486827
Optik & Fototechnik
02.11.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1720074
Optik & Fototechnik
19.10.2011
Systeme und Verfahren zur Belichtung der Substratperipherie
EP1340123
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
12.10.2011
Messtechnische Trägerplattenvorrichtung für lithographische Anwendungen
EP1701216
Optik & Fototechnik
05.10.2011
Lithographische Projektionsvorrichtung mit einem einen Konkavspiegel und einen Konvexspiegel aufweisenden Kollektor
EP1469349
Optik & Fototechnik
05.10.2011
Gemusterter Drahtgitter-Polarisator
EP1582894
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104180
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104173
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104175
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104178
Optik & Fototechnik
18.08.2011
Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011098169
Optik & Fototechnik
04.08.2011
Holographic mask inspection system with spatial filter
WO2011091877
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.07.2011
Strahlungsquelle, Lithografiegerät und Herstellungsverfahren für ein Bauteil
EP2157584
Elektrische Energietechnik
06.07.2011
Lithographischer Apparat, optisches Element für einen lithographischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1624342
Optik & Fototechnik
30.06.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011076500
Optik & Fototechnik
22.06.2011
Lithographiegerät mit einem Mo/Si Mehrfachschichtenspiegel mit einer Schutzschicht
EP1394815
Elektrische Energietechnik
15.06.2011
Lithographische Vorrichtung mit Rotationsfiltervorrichtung
EP2188674
Optik & Fototechnik
25.05.2011
Lithographischer Apparat und Justierverfahren für den Apparat
EP1507173
Optik & Fototechnik
25.05.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2261741
Optik & Fototechnik
04.05.2011
Verfahren zur Reinigung eines Elements einer lithografischen Vorrichtung
EP1764653
Optik & Fototechnik
20.04.2011
Pneumatischer Sensor mit erhöhter Druckempfindlichkeit durch Düsenoberflächenrauhigkeit
EP2009391
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
06.04.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1596421
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.04.2011
Lithographischer Apparat und Vorrichtungs-Halteverfahren
EP1530089
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.04.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1500986
Optik & Fototechnik
31.03.2011
Time Differential Reticle Inspection
WO2011035946
Optik & Fototechnik
02.03.2011
Halter, lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1359469
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.02.2011
Lithografische Vorrichtung, Verfahren zum Steuern der Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP2221669
Optik & Fototechnik
09.02.2011
Lithografische Vorrichtung, Verfahren zum Steuern der Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels unter Anwendung einer lithografischen Vorrichtung
EP2264529
Optik & Fototechnik
03.02.2011
Low and high pressure proximity sensors
WO2011012368
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
19.01.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1903398
Optik & Fototechnik
06.01.2011
Image-compensating addressable electrostatic chuck system
WO2011000689
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.01.2011
Lithographischer Apparat mit Immersion und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1420299
Optik & Fototechnik
05.01.2011
Lithografische Vorrichtung
EP1955114
Optik & Fototechnik
29.12.2010
Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung von Dunkelfeld-Doppeldipollithografie
EP2267530
Optik & Fototechnik
29.12.2010
Strahlteilender oder polarisierender Kubus und Herstellungsverfahren
EP1406110
Optik & Fototechnik
29.12.2010
Object inspection systems and methods
WO2010149403
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
22.12.2010
Sensor und Lithografievorrichtung
EP2264528
Optik & Fototechnik
24.11.2010
Verfahren zur Abbildung der Strahlung eines Objekts auf einer Detektorvorrichtung und Inspektionsvorrichtung zur Inspektion eines Objekts
EP2130030
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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Technologiefelder

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1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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277
Elektrische Energietechnik
171
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92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
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55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35

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