ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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10.11.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.08.2004
Erteilt am 10.11.2010
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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03.11.2010
Für die Erzeugung von Strahlung Konstruiertes und Konfiguriertes Gerät, Lithographie-Vorrichtung und Geräteherstellungsverfahren
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2009
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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21.10.2010
Mask inspection with fourier filtering and image compare
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.03.2010
Anhängig
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14.10.2010
Shared compliance in a rapid exchange device for reticles, and reticle stage
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.02.2010
Anhängig
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06.10.2010
Halter, lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 20.08.2003
Erteilt am 06.10.2010
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Leeming, John Gerard · London
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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06.10.2010
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Lithographie mittels winkelaufgelöster Spektroskopie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.08.2005
Erteilt am 06.10.2010
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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06.10.2010
Verfahren und Apparat zur Erzeugung überlagerter Strukturen auf einem Substrat
Optik & Fototechnik
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06.10.2010
Extreme UV-Strahlungslichtquelle und Verfahren für die Erzeugung von extremer UV-Strahlung
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2008
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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06.10.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zum Kalibrieren desselben
Optik & Fototechnik
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29.09.2010
Euv-Lichtquellenkomponenten und Verfahren zu Ihrer Herstellung, Verwendung und Überholung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2008
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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18.08.2010
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.03.2005
Erteilt am 18.08.2010
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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28.07.2010
Lithographische Vorrichtung
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.11.2008
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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07.07.2010
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.03.2008
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Roberts, Peter David · Manchester
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30.06.2010
Lithographische Projektionsapparat mit einer Teilchenbarriere
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.08.2003
Erteilt am 30.06.2010
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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26.05.2010
Lithographischer Apparat und eine Messeinrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.09.2003
Erteilt am 26.05.2010
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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19.05.2010
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2008
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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19.05.2010
System für die Immersionsphotolithographie mit Mikrokanaldüsen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.06.2004
Erteilt am 19.05.2010
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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19.05.2010
Räumlicher Lichtmodulator mit IC-Aktuator und Methode zur Herstellung desselben
Optik & Fototechnik
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14.05.2010
Scatterometer and lithographic apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.10.2009
Anhängig
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12.05.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.03.2005
Erteilt am 12.05.2010
Vertretung
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06.05.2010
Inspection method and apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.10.2009
Anhängig
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05.05.2010
Strahlungsquelle und lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 01.10.2009
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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28.04.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.11.2005
Erteilt am 28.04.2010
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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28.04.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2005
Erteilt am 28.04.2010
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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22.04.2010
Collector assembly, radiation source, lithographic appparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.09.2009
Anhängig
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21.04.2010
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 28.07.2008
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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21.04.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2005
Erteilt am 21.04.2010
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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14.04.2010
Unterdrucksystem für die Immersionsfotolithographie
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.06.2005
Erteilt am 14.04.2010
Vertretung
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07.04.2010
Lithografische Vorrichtung und Feuchtigkeitsmesssystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.09.2009
Anhängig
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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31.03.2010
Schmutzverhinderungssystem und Lithographische Vorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2008
Anhängig
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25.03.2010
Inspection method for lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.09.2009
Anhängig
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11.03.2010
A substrate, an inspection apparatus, and a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.09.2009
Anhängig
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10.03.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.10.2004
Erteilt am 10.03.2010
Vertretung
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10.03.2010
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.01.2006
Erteilt am 10.03.2010
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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03.03.2010
Lithographischer Immersionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.08.2009
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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25.02.2010
Euv reticle substrates with high thermal conductivity
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.07.2009
Anhängig
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11.02.2010
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2009
Anhängig
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10.02.2010
Volle Waferbreitenabtastung mittels Step-und-Scan-System
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2009
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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27.01.2010
Trägervorrichtung, lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.07.2006
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
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13.01.2010
Lithografischer Apparat und Herstellungsverfahren einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.06.2006
Erteilt am 13.01.2010
Vertretung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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