ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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25.07.2012
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Lithographie mittels winkelaufgelöster Spektroskopie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.09.2007
Erteilt am 25.07.2012
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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27.06.2012
Strahlungsquelle, Lithografische Vorrichtung und Strahlungserzeugungsverfahren
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2008
Erteilt am 27.06.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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27.06.2012
Strahlungsquelle und lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.04.2009
Erteilt am 27.06.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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14.06.2012
Electrostatic clamp, lithographic apparatus and method of manufacturing an electrostatic clamp
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.09.2011
Anhängig
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13.06.2012
Spektralfilter, Lithographievorrichtung mit einem Solchen Spektralfilter, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung und in Diesem Verfahren Hergestellte Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 26.09.2008
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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13.06.2012
Strahlungsquelle, Lithographieapparat und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2009
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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06.06.2012
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung von Z-Positionsfehlern/-abweichungen und Substrattischebenheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2005
Erteilt am 06.06.2012
Vertretung
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30.05.2012
Lithographischer Apparat und Testmethode
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2004
Erteilt am 30.05.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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30.05.2012
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2004
Erteilt am 30.05.2012
Vertretung
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30.05.2012
Verfahren und Anordnung zur Prognose von thermisch induzierten Substratdeformationen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.10.2006
Erteilt am 30.05.2012
Vertretung
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09.05.2012
Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2006
Erteilt am 09.05.2012
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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09.05.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2005
Erteilt am 09.05.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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25.04.2012
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.05.2004
Erteilt am 25.04.2012
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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25.04.2012
Lithografische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2010
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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18.04.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.05.2005
Erteilt am 18.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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18.04.2012
Markerstruktur, lithographische Projektionsvorrichtung, Verfahren zur Substratausrichtung mittels solch einer Struktur und Substrat mit solch einer Markerstruktur
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2003
Anhängig
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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11.04.2012
Lithographisches Gerät, Methoden zur Herstellung von Bauelementen, Methode zur Herstellung eines Reflektors sowie eine Phasenschiebermaske
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2002
Erteilt am 11.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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11.04.2012
Spektraler Reinigungsfilter für einen mehrschichtigen Spiegel, lithografische Vorrichtung mit einem derartigen mehrschichtigen Spiegel, Verfahren zur Vergrößerung des Verhältnisses von erwünschter und unerwünschter Strahlung sowie Geräteherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 26.04.2006
Erteilt am 11.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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04.04.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.08.2004
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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04.04.2012
Verfahren und Gerät zur Bestimmung des Werts von Prozessparametern auf der Basis von Streumessdaten, damit Hergestellte Halbleitervorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2005
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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04.04.2012
Optisches Element, Lithografievorrichtung mit Derartigem Optischen Element und Verfahren zur Herstellung eines Bauelements
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2009
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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04.04.2012
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.08.2004
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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28.03.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.05.2005
Erteilt am 28.03.2012
Vertretung
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28.03.2012
Beidseitiges Scannen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.05.2010
Anhängig
Vertretung
Mooij, Maarten · Amsterdam
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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22.03.2012
Correction for flare effects in lithography system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.09.2011
Anhängig
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14.03.2012
Verfahren zur Auswahl eines Gittermodells zur Korrektur von Gitterdeformationen in einem lithographischen Apparat und Verwendung desselben in einer lithographischen Anordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2006
Erteilt am 14.03.2012
Vertretung
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14.03.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2005
Erteilt am 14.03.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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29.02.2012
Strahlungserzeugungseinrichtung, Lithographische Vorrichtung, Bauelementeherstellungsverfahren und Dadurch Hergestelltes Bauelement
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 27.04.2007
Erteilt am 29.02.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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29.02.2012
Verfahren zur groben Wafer-Ausrichtung in einer lithografischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.03.2009
Anhängig
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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02.02.2012
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.07.2011
Anhängig
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01.02.2012
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.10.2001
Erteilt am 01.02.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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01.02.2012
Substrathalter für einen lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.04.2004
Erteilt am 01.02.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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01.02.2012
Lithografische Vorrichtung mit mehrfachen Ausrichtungsanordnungen und Ausrichtungsmessverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2005
Erteilt am 01.02.2012
Vertretung
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01.02.2012
Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2006
Erteilt am 01.02.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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01.02.2012
Strahlungsquelle, lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 09.09.2009
Erteilt am 01.02.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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18.01.2012
Projektionssystem und Verfahren zu dessen Verwendung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.04.2004
Erteilt am 18.01.2012
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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18.01.2012
Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.04.2006
Erteilt am 18.01.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.01.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.05.2004
Erteilt am 11.01.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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11.01.2012
Lithographischer Projektionsapparat, Gasspülverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und Spülgasversorgungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.07.2004
Erteilt am 11.01.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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29.12.2011
Pneumatic bearing with bonded polymer film wear surface and production method thereof
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 06.04.2011
Anhängig
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35