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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
26.12.2024
Method of manufacturing an electrode for an object holder
WO2024260626
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.12.2024
Optical Measurement Mark
WO2024260764
Optik & Fototechnik
26.12.2024
Method of predicting a response of an electromagnetic system to illumination electromagnetic radiation
WO2024260680
Optik & Fototechnik
26.12.2024
Anti-reflective nanostructures for semiconductor lithography, metrology, and inspection systems
WO2024260671
Optik & Fototechnik
25.12.2024
Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für einen Objekthalter
EP4481491
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.12.2024
Verfahren zur Vorhersage einer Reaktion eines Elektromagnetischen Systems auf die Beleuchtung Elektromagnetischer Strahlung
EP4481492
Optik & Fototechnik
25.12.2024
Verfahren zur Herstellung eines Verschleissfesten Materials auf einem Körper und Verbundkörper
EP3963402
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.12.2024
Aberration Determination
WO2024256096
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
19.12.2024
Method for selecting pattern reference features of a substantially irregular pattern layout
WO2024256098
Optik & Fototechnik
19.12.2024
Method of determining fiducial degradation on a lithographic apparatus
WO2024256114
Optik & Fototechnik
19.12.2024
Apparatus for wavelength-resolved beam monitoring
WO2024256136
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.12.2024
Strahlungsquelle
EP4428610
Optik & Fototechnik
12.12.2024
Heizungsanordnung, Substratträger und Lithografische Vorrichtung
WO2024251452
Optik & Fototechnik
12.12.2024
Method for controlling and cleaning a pellicle membrane
WO2024251470
Optik & Fototechnik
12.12.2024
Position measurement system, substrate positioning system, lithographic apparatus and method to measure a position of a movable object
WO2024251476
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
12.12.2024
Radiation source assembly for generating broadband radiation
WO2024251480
Optik & Fototechnik
12.12.2024
Lithographic apparatus, and method of expelling a contaminant in a lithographic apparatus
WO2024251485
Optik & Fototechnik
12.12.2024
Seed laser system
WO2024251482
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.12.2024
Method and apparatus for method of mapping the height of a surface on a substrate
WO2024251505
Optik & Fototechnik
12.12.2024
A lithographic apparatus and inspection system with hybrid free space optics and photonic integrated circuits
WO2024251507
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
11.12.2024
Anordnung für einen Lithographischen Apparat
EP4473359
Optik & Fototechnik
11.12.2024
Fokusmetrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4474908
Optik & Fototechnik
11.12.2024
Strahlungsquellenanordnung zur Erzeugung Breitbandiger Strahlung
EP4474896
Optik & Fototechnik
05.12.2024
An illumination module for a metrology device
WO2024245706
Optik & Fototechnik
05.12.2024
Methods and apparatuses for obtaining a calibration for a substrate topography measurement and methods and apparatuses for determining a topography of a substrate using the calibration
WO2024245892
Optik & Fototechnik
05.12.2024
Gain balancing calibration for a motion control system
WO2024245715
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
05.12.2024
Method and system for predicting after-development stochastic effects for full chip applications
WO2024245688
Optik & Fototechnik
05.12.2024
Dämpfer, Verfahren zur Dämpfung und Vorrichtung mit einem Dämpfer
EP4720775
Optik & Fototechnik
05.12.2024
Verfahren und System zum Trainieren eines Vorhersagemodells zur Erzeugung einer Zweidimensionalen Elementdarstellung eines Maskenmusters
EP4720774
Optik & Fototechnik
05.12.2024
Verfahren und System zum Trainieren eines Vorhersagemodells zur Erzeugung einer Zweidimensionalen Elementdarstellung eines Maskenmusters
WO2024245689
Optik & Fototechnik
05.12.2024
Dämpfer, Verfahren zur Dämpfung und Vorrichtung mit einem Dämpfer
WO2024245662
Optik & Fototechnik
04.12.2024
Beleuchtungsmodul für eine Metrologievorrichtung
EP4471500
Optik & Fototechnik
04.12.2024
Pellikelreinigungssystem
EP4469860
Optik & Fototechnik
28.11.2024
System und Verfahren zur Verwaltung der Nebenproduktansammlung in einer Strahlungsquelle
EP4721523
Elektronik & Schaltungstechnik
28.11.2024
Tank assembly for holding pressurized molten tin at over-pressure and vacuum conditions
WO2024240406
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
28.11.2024
Lithographic system
WO2024240413
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
28.11.2024
System und Verfahren zur Verwaltung der Nebenproduktansammlung in einer Strahlungsquelle
WO2024240433
Elektronik & Schaltungstechnik
28.11.2024
Cleaning Structure Surface in Light Source Chamber
WO2024240720
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
28.11.2024
Optical amplifier and apparatus therefor
WO2024240412
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.11.2024
Reduced volume demultiplexer systems and methods
WO2024240444
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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39
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35

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