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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
31.08.2017
Substrate handling system and lithographic apparatus
WO2017144277
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.08.2017
Beam homogenizer, illumination system and metrology system
WO2017144265
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Optik & Fototechnik
31.08.2017
Method of measuring a structure, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
WO2017144270
Optik & Fototechnik
31.08.2017
Separation of contributions to metrology data
WO2017144379
Optik & Fototechnik
31.08.2017
Method of controlling a patterning process, lithographic apparatus, metrology apparatus lithographic cell and associated computer program
WO2017144343
Optik & Fototechnik
30.08.2017
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2469339
Optik & Fototechnik
24.08.2017
Lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product
WO2017140532
Optik & Fototechnik
24.08.2017
Method of measuring a structure, inspection apparatus, lithographic system, device manufacturing method and wavelength-selective filter for use therein
WO2017140528
Optik & Fototechnik
23.08.2017
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2259139
Optik & Fototechnik
23.08.2017
Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Teilstrahlen
EP2503587
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.08.2017
Lithographic apparatus, method for unloading a substrate and method for loading a substrate
WO2017137129
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.08.2017
Multiphase linear motor, multiphase planar motor, stage, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017137181
Elektrische Energietechnik
09.08.2017
Fokusbestimmungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1739491
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.08.2017
Inspektionsverfahren und -vorrichtung, lithographische Vorrichtung, lithographische Prozesskammer sowie Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
EP1927893
Optik & Fototechnik
02.08.2017
Lasererzeugte Plasma-Euv-Lichtquelle
EP2544766
Medizintechnik & Gesundheit Optik & Fototechnik
27.07.2017
System, method and apparatus for target material debris cleaning of euv vessel and euv collector
WO2017127182
Medizintechnik & Gesundheit Verfahrens- & Trenntechnik
27.07.2017
Position sensing arrangement and lithographic apparatus including such an arrangement, position sensing method and device manufacturing method
WO2017125352
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
27.07.2017
A beam measurement system, a lithographic system, and a method
WO2017125254
Optik & Fototechnik
20.07.2017
Fluid handling structure and lithographic apparatus
WO2017121547
Optik & Fototechnik
20.07.2017
Droplet generator for lithographic apparatus, euv source and lithographic apparatus
WO2017121573
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
20.07.2017
Euv Element Having Barrier To Hydrogen Transport
WO2017123323
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.07.2017
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017118508
Optik & Fototechnik
12.07.2017
Schwingungsisolationssystem zur Unterstützung einer Struktur, Lithographische Vorrichtung und Einrichtungsherstellungsverfahren
EP3189247
Maschinenelemente & Fluidtechnik
06.07.2017
Method and device for focusing in an inspection system
WO2017114641
Optik & Fototechnik
06.07.2017
Alternative target design for metrology using modulation techniques
WO2017114652
Optik & Fototechnik
06.07.2017
Method and apparatus for direct write maskless lithography
WO2017114653
Optik & Fototechnik
06.07.2017
Method and apparatus for direct write maskless lithography
WO2017114658
Optik & Fototechnik
06.07.2017
Method and apparatus for direct write maskless lithography
WO2017114659
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
06.07.2017
Metrology By Reconstruction
WO2017114672
Optik & Fototechnik
06.07.2017
Selection of measurement locations for patterning processes
WO2017114662
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.07.2017
Etch-Assist Features
WO2017114725
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
29.06.2017
A lithographic system and method
WO2017108311
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.06.2017
Focus control arrangement and method
WO2017108326
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
29.06.2017
Free Electron Laser
WO2017108348
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.06.2017
Height measurement apparatus
WO2017108336
Optik & Fototechnik
29.06.2017
Metrology methods, metrology apparatus and device manufacturing method
WO2017108404
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
29.06.2017
Method and apparatus for inspection
WO2017108444
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.06.2017
Methods of controlling a patterning process, device manufacturing method, control system for a lithographic apparatus and lithographic apparatus
WO2017108453
Optik & Fototechnik
29.06.2017
Lithographic apparatus and method for performing a measurement
WO2017108410
Optik & Fototechnik
29.06.2017
Metrology method and apparatus
WO2017108411
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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