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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
29.06.2017
Apparatus and method for process-window characterization
WO2017108432
Optik & Fototechnik
29.06.2017
Method for removing photosensitive material on a substrate
WO2017109040
Optik & Fototechnik
29.06.2017
Online calibration for repetition rate dependent performance variables
WO2017112060
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.06.2017
Patterning device cooling apparatus
WO2017102255
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017102237
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Source Separation From Metrology Data
WO2017102264
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Process flagging and cluster detection without requiring reconstruction
WO2017102283
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Polarization Tuning in Scatterometry
WO2017102327
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.06.2017
Improvements in Gauge Pattern Selection
WO2017102336
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Adjustment of a metrology apparatus or a measurement thereby based on a characteristic of a target measured
WO2017102304
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.06.2017
Optimization of source and bandwidth for new and existing patterning devices
WO2017102321
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Optical system and method
WO2017102350
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Focus monitoring arrangement and inspection apparatus including such an arrangement
WO2017102428
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Nozzle and droplet generator for euv source
WO2017102261
Elektronik & Schaltungstechnik
22.06.2017
Inspection apparatus and method
WO2017102406
Optik & Fototechnik
22.06.2017
Droplet generator for lithographic apparatus, euv source and lithographic apparatus
WO2017102931
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
08.06.2017
Method and apparatus for processing a substrate in a lithographic apparatus
WO2017092936
Optik & Fototechnik
08.06.2017
Lithographic method and apparatus
WO2017092957
Optik & Fototechnik
08.06.2017
Scanning measurement system
WO2017092986
Optik & Fototechnik
08.06.2017
Free Electron Laser
WO2017092943
Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.06.2017
Statistical Hierarchical Reconstruction From Metrology Data
WO2017093011
Optik & Fototechnik
08.06.2017
Position measuring method of an alignment target
WO2017093256
Optik & Fototechnik
01.06.2017
Vibration isolation device, lithographic apparatus and method to tune a vibration isolation device
WO2017089085
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
01.06.2017
Metrology target, method and apparatus, computer program and lithographic system
WO2017089105
Optik & Fototechnik
01.06.2017
Positioning device, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017089214
Optik & Fototechnik
31.05.2017
Ausrichtungssensor, Lithografievorrichtung und Ausrichtungsverfahren
EP2994798
Optik & Fototechnik
26.05.2017
Lithographic Apparatus and Method
WO2017084870
Optik & Fototechnik
26.05.2017
Euv source chamber and gas flow regime for lithographic apparatus, multi-layer mirror and lithographic apparatus
WO2017084872
Optik & Fototechnik
26.05.2017
Systems and methods to avoid instability conditions in a source plasma chamber
WO2017087169
Medizintechnik & Gesundheit
18.05.2017
Method and apparatus for predicting performance of a metrology system
WO2017080727
Optik & Fototechnik
18.05.2017
Method of predicting performance of a lithographic apparatus, calibration of lithographic apparatus, device manufacturing method
WO2017080735
Optik & Fototechnik
18.05.2017
Methods for identifying a process window boundary
WO2017080729
Optik & Fototechnik
18.05.2017
Vibration isolation system and lithographic apparatus
WO2017080823
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
18.05.2017
A radiation system and optical device
WO2017080817
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
18.05.2017
Proximity sensor, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017080818
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
11.05.2017
Magnet array, electric coil device, displacement system, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017076561
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
11.05.2017
Multilayer reflector, method of manufacturing a multilayer reflector and lithographic apparatus
WO2017076694
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
11.05.2017
Optical system
WO2017076695
Optik & Fototechnik
11.05.2017
Electron Beam Chopper
WO2017076696
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.05.2017
Electron source, with photocathode illuminated off-axis
WO2017071878
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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