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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
04.05.2017
Lithographic apparatus substrate table and method of loading a substrate
WO2017071900
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.05.2017
Verfahren zur Dämpfung eines Gegenstands, Aktivdämpfungssystem und lithographische Vorrichtung
EP2202426
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
27.04.2017
Method and apparatus to correct for patterning process error
WO2017067752
Optik & Fototechnik
27.04.2017
Method and apparatus to correct for patterning process error
WO2017067755
Optik & Fototechnik
27.04.2017
Method and apparatus to correct for patterning process error
WO2017067756
Optik & Fototechnik
27.04.2017
Method and apparatus to correct for patterning process error
WO2017067765
Optik & Fototechnik
27.04.2017
Method and apparatus to reduce effects of nonlinear behavior
WO2017067748
Optik & Fototechnik
27.04.2017
Method and apparatus to correct for patterning process error
WO2017067757
Optik & Fototechnik
20.04.2017
Topography measurement system
WO2017063789
Optik & Fototechnik
20.04.2017
Indirect determination of a processing parameter
WO2017063827
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.04.2017
Methods and apparatus for simulating interaction of radiation with structures, metrology methods and apparatus, device manufacturing method
WO2017063839
Optik & Fototechnik
19.04.2017
Lithographischer Apparat
EP2267536
Optik & Fototechnik
19.04.2017
Lithografievorrichtung und Belichtungsverfahren
EP3155483
Optik & Fototechnik
13.04.2017
Topography measurement system
WO2017060014
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.04.2017
Substrate table and lithographic apparatus
WO2017060028
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.04.2017
Method of controlling a lithographic apparatus and device manufacturing method, control system for a lithographic apparatus and lithographic apparatus
WO2017060054
Optik & Fototechnik
13.04.2017
Method and apparatus for inspection and metrology
WO2017060087
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.04.2017
Methods&apparatus For Controlling an Industrial Process
WO2017060080
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
13.04.2017
Chucks and clamps for holding objects of a lithographic apparatus and methods for controlling a temperature of an object held by a clamp of a lithographic apparatus
WO2017060259
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.04.2017
Method and apparatus for pattern correction and verification
WO2017060192
Optik & Fototechnik
06.04.2017
A lithography apparatus, and a method of manufacturing a device
WO2017054987
Optik & Fototechnik
06.04.2017
A substrate holder, a lithographic apparatus and method of manufacturing devices
WO2017054991
Optik & Fototechnik
06.04.2017
Metrology method and apparatus, computer program and lithographic system
WO2017055072
Optik & Fototechnik
06.04.2017
Methods of modelling systems or performing predictive maintenance of lithographic systems
WO2017055073
Steuerungs- & Regelungstechnik
06.04.2017
Metrology method, target and substrate
WO2017055106
Optik & Fototechnik
06.04.2017
Hierarchical representation of two-dimensional or three-dimensional shapes
WO2017055075
Optik & Fototechnik
06.04.2017
Metrology method for process window definition
WO2017055086
Optik & Fototechnik
06.04.2017
Optical Isolation Module
WO2017059314
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.03.2017
Scanning measurement system
WO2017050508
Optik & Fototechnik
30.03.2017
A method and apparatus for determining at least one property of patterning device marker features
WO2017050503
Optik & Fototechnik
30.03.2017
Method of reducing effects of reticle heating and/or cooling in a lithographic process
WO2017050523
Optik & Fototechnik
30.03.2017
Lithographic apparatus and method
WO2017050506
Optik & Fototechnik
23.03.2017
Methods for controlling lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017045871
Optik & Fototechnik
23.03.2017
Alignment sensor for lithographic apparatus
WO2017045874
Optik & Fototechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation
22.03.2017
Verfahren zum Belichten eines Wafers
EP3144955
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.03.2017
Gehäuse für eine Zielbearbeitungsmaschine
EP3140697
Optik & Fototechnik
09.03.2017
A gas leak detector and a method of detecting a leak of gas
WO2017036830
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
09.03.2017
Lithographic apparatus alignment sensor and method
WO2017036833
Optik & Fototechnik
02.03.2017
Lithographic method and apparatus
WO2017032525
Optik & Fototechnik
02.03.2017
Lorentz actuator, object positioning system, lithographic apparatus and lorentz actuator operating method
WO2017032540
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik

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