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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
02.03.2017
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017032534
Optik & Fototechnik
02.03.2017
Suppression filter, radiation collector and radiation source for a lithographic apparatus; method of determining a separation distance between at least two reflective surface levels of a suppression filter
WO2017032569
Optik & Fototechnik
02.03.2017
Method and apparatus for measuring a parameter of a lithographic process, substrate and patterning devices for use in the method
WO2017032736
Optik & Fototechnik
23.02.2017
Metrology method and apparatus, substrates for use in such methods, lithographic system and device manufacturing method
WO2017029110
Optik & Fototechnik
16.02.2017
Inspection apparatus, inspection method and manufacturing method
WO2017025373
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
16.02.2017
Metrology methods, radiation source, metrology apparatus and device manufacturing method
WO2017025392
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
16.02.2017
Methods for controlling lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017025524
Optik & Fototechnik
16.02.2017
System and method for controlling source laser firing in an lpp euv light source
WO2017027386
Medizintechnik & Gesundheit
16.02.2017
Target Expansion Rate Control in an Extreme Ultraviolet Light Source
WO2017027566
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
16.02.2017
Systems and methods for stabilization of droplet-plasma interaction via laser energy modulation
WO2017027636
Elektronik & Schaltungstechnik
09.02.2017
Controlled Fluid Flow For Cleaning an Optical Element
WO2017023950
Optik & Fototechnik
08.02.2017
Messtechnik für Extreme Ultraviolette Lichtquelle
EP2514279
Elektronik & Schaltungstechnik
02.02.2017
Inspection apparatus, inspection method, lithographic apparatus and manufacturing method
WO2017016839
Optik & Fototechnik
02.02.2017
Inspection apparatus, inspection method and manufacturing method
WO2017016903
Optik & Fototechnik
26.01.2017
Lithographic apparatus and method
WO2017012782
Optik & Fototechnik
26.01.2017
Methods and apparatus for simulating interaction of radiation with structures, metrology methods and apparatus, device manufacturing method
WO2017012840
Optik & Fototechnik
26.01.2017
Methods for controlling lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017012859
Optik & Fototechnik
26.01.2017
Method and apparatus for inspection and metrology
WO2017012857
Optik & Fototechnik
19.01.2017
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017008962
Optik & Fototechnik
19.01.2017
Patterning device cooling systems in a lithographic apparatus
WO2017008996
Optik & Fototechnik
19.01.2017
Lithographic apparatus and method
WO2017008951
Optik & Fototechnik
19.01.2017
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017009036
Optik & Fototechnik
19.01.2017
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017009166
Optik & Fototechnik
12.01.2017
Movable support and lithographic apparatus
WO2017005387
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
12.01.2017
Lithographic apparatus, control method and computer program product
WO2017005419
Optik & Fototechnik
12.01.2017
Measurement systems, lithographic apparatus, device manufacturing method and a method of measuring
WO2017005408
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
12.01.2017
Lithographic apparatus
WO2017005463
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
29.12.2016
Substrate support, method of compensating unflatness of an upper surface of a substrate, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016206839
Optik & Fototechnik
29.12.2016
Lithographic method and apparatus
WO2016206916
Optik & Fototechnik
29.12.2016
Lithographic apparatus and method
WO2016206965
Optik & Fototechnik
29.12.2016
Method for transferring a mark pattern to a substrate, a calibration method, and a lithographic apparatus
WO2016207445
Optik & Fototechnik
28.12.2016
Verbessertes Stitching durch Überlappungsdosis und Charakteristikareduzierung
EP3108300
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.12.2016
Proximitätseffektkorrektur in einem Ladungsteilchenlithographiesystem
EP3108495
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.12.2016
Process Window Tracking
WO2016202559
Optik & Fototechnik
22.12.2016
Control system, positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2016202519
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
22.12.2016
Methods for defect validation
WO2016202546
Optik & Fototechnik
22.12.2016
An apparatus including a gas gauge and method of operating the same
WO2016202621
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.12.2016
Calibration method for a lithographic apparatus
WO2016202560
Optik & Fototechnik
22.12.2016
Method of metrology, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
WO2016202674
Optik & Fototechnik
21.12.2016
Modell zur Berechnung einer Stochastischen Variation bei einem Arbiträren Muster
EP3105637
Optik & Fototechnik

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