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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
04.03.2021
Metrology system and method
WO2021037867
Optik & Fototechnik
04.03.2021
Semiconductor device geometry method and system
WO2021037484
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
04.03.2021
End facet protection for a light source and a method for use in metrology applications
WO2021037472
Optik & Fototechnik
04.03.2021
Method of controlling a position of a first object relative to a second object, control unit, stage apparatus and lithographic apparatus.
WO2021037453
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.03.2021
Apparatus for determining amount of fuel in a container
WO2021037435
Elektronik & Schaltungstechnik
04.03.2021
On chip sensor for wafer overlay measurement
WO2021037509
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.03.2021
Method, apparatus, and system for wafer grounding
WO2021037827
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.03.2021
Self-differential confocal tilt sensor for measuring level variation in charged particle beam system
WO2021037695
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.03.2021
Self-referencing health monitoring system for multi-beam sem tools
WO2021037696
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.03.2021
Photo-Electrical Evolution Defect Inspection
WO2021037944
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.03.2021
Modensteuerung von Photonischen Kristallfaserbasierten Breitbandigen Lichtquellen
EP3786702
Optik & Fototechnik
03.03.2021
Endfacettenschutz für eine Lichtquelle und Verfahren zur Verwendung in Metrologieanwendungen
EP3786700
Optik & Fototechnik
03.03.2021
Nicht-Korrigierbarer Fehler in der Metrologie
EP3786711
Optik & Fototechnik
03.03.2021
Lichtquellen und Verfahren zur Steuerung, Vorrichtungen und Verfahren zur Verwendung in Messanwendungen
EP3786712
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.03.2021
Verfahren zur Herstellung einer Membrananordnung
EP3345053
Optik & Fototechnik
03.03.2021
System zum Testen eines Spiegels Wie Etwa eines Kollektorspiegels und Verfahren zum Testen eines Spiegels Wie Etwa eines Kollektorspiegels
EP3785078
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.03.2021
Metrologieverfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Komplexwertigen Feldes
EP3786713
Optik & Fototechnik
03.03.2021
Ausrichtungssensor, Lithografisches System zur Verarbeitung eines Ziels, Wie Etwa eines Wafers, und Verfahren zum Betrieb eines Lithografiesystems zur Verarbeitung eines Ziels Wie Etwa eines Wafers
EP3073323
Optik & Fototechnik
25.02.2021
Method for controlling a semiconductor manufacturing process
WO2021032376
Optik & Fototechnik
25.02.2021
Numerically compensating sem-induced charging using diffusion-based model
WO2021032652
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.02.2021
Methods for improving process based contour information of structure in image
WO2021032448
Optik & Fototechnik
25.02.2021
Wavelength selection module, illumination system and metrology system
WO2021032400
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
25.02.2021
Metrology device and detection apparatus therefor
WO2021032369
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
25.02.2021
Device manufacturing method
WO2021032362
Optik & Fototechnik
25.02.2021
Illumination and detection apparatus for a metrology apparatus
WO2021032366
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
24.02.2021
Metrologievorrichtung und Detektionsvorrichtung dafür
EP3783439
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
24.02.2021
Numerische Kompensation Sem-Induzierter Ladung unter Verwendung eines Diffusionsbasierten Modells
EP3783636
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.02.2021
Membrane zur Verwendung in einer Lithographievorrichtung und Lithographievorrichtung mit Solch einer Membran
EP3164764
Optik & Fototechnik
24.02.2021
Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3783437
Optik & Fototechnik
24.02.2021
Beleuchtungs- und Detektionsvorrichtung für eine Metrologische Vorrichtung
EP3783436
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
24.02.2021
Wellenlängenauswahlmodul, Beleuchtungssystem und Metrologiesystem
EP3783438
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.02.2021
Modeling method for computational fingerprints
WO2021028126
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.02.2021
Laser System For Source Material Conditioning in an Euv Light Source
WO2021028592
Elektronik & Schaltungstechnik
18.02.2021
Method for training machine learning model for improving patterning process
WO2021028228
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
18.02.2021
Method and metrology tool for determining information about a target structure, and cantilever probe
WO2021028174
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.02.2021
Cross-Talk Cancellation in Multiple Charged-Particle Beam Inspection
WO2021028366
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.02.2021
Apparatus for and method of identifying reticle in a lithography apparatus
WO2021028296
Optik & Fototechnik
18.02.2021
Lithographic apparatus and ultraviolet radiation control system
WO2021028295
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.02.2021
Phase Modulators in Alignment To Decrease Mark Size
WO2021028292
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.02.2021
Metrology device and phase modulator apparatus therefor
WO2021028202
Optik & Fototechnik

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