ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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17.02.2021
Verfahren und Metrologiewerkzeug zur Bestimmung von Informationen über eine Zielstruktur und Freitragende Sonde
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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17.02.2021
Positionsmesssystem, Interferometersystem und Lithografische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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11.02.2021
Support, vibration isolation system, lithographic apparatus, object measurement apparatus, device manufacturing method
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.07.2020
Anhängig
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11.02.2021
Method and apparatus for photolithographic imaging
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.07.2020
Anhängig
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11.02.2021
Beam manipulation of advanced charge controller module in a charged particle system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.08.2020
Anhängig
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11.02.2021
Laser module assembly for alignment system, metrology system, and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2020
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04.02.2021
Thermo-Mechanical Actuator
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.06.2020
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04.02.2021
Method of determining a mark measurement sequence, stage apparatus and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 16.07.2020
Anhängig
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04.02.2021
Alignment sensor based on wavelength-scanning
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 22.07.2020
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28.01.2021
Temperature conditioning system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.06.2020
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28.01.2021
A light source and a method for use in metrology applications
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 06.07.2020
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28.01.2021
Improvements in Metrology Targets
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 06.07.2020
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28.01.2021
Radiation Source
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.07.2020
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28.01.2021
Method and system for determining information about a target structure
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.07.2020
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28.01.2021
On Chip Wafer Alignment Sensor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.06.2020
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27.01.2021
Verfahren und System zur Bestimmung von Informationen über eine Zielstruktur
Optik & Fototechnik
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21.01.2021
Methods of alignment, overlay, configuration of marks, manufacturing of patterning devices and patterning the marks
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2020
Anhängig
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21.01.2021
Oxygen-loss resistant top coating for optical elements
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 26.06.2020
Anhängig
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21.01.2021
Light sources and methods of controlling; devices and methods for use in measurement applications
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.07.2020
Anhängig
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20.01.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Berechnung elektromagnetischer Streuungseigenschaften von Strukturen und für die Rekonstruktion von approximativen Strukturen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.03.2012
Erteilt am 20.01.2021
Vertretung
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20.01.2021
Montierte Hohlkernfaseranordnung
Optik & Fototechnik
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20.01.2021
Teilfeldsteuerung eines Lithografischen Prozesses und Zugehörige Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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20.01.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung des Beitrags von Merkmalen zur Leistung
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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20.01.2021
Marke, Überlagerungsziel und Verfahren zur Ausrichtung und Überlagerung
Optik & Fototechnik
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20.01.2021
Lichtquelle und Verfahren zur Verwendung bei Metrologieanwendungen
Optik & Fototechnik
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14.01.2021
Lithographic apparatus and method with improved contaminant particle capture
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.06.2020
Anhängig
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14.01.2021
A lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.06.2020
Anhängig
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14.01.2021
Apparatus and method for measuring substrate height
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2020
Anhängig
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14.01.2021
Method for determining a center of a radiation spot, sensor and stage apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.06.2020
Anhängig
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14.01.2021
Prediction data selection for model calibration to reduce model prediction uncertainty
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2020
Anhängig
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14.01.2021
Metrology method and associated computer product
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.07.2020
Anhängig
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13.01.2021
Messvorrichtung für Lithographie und Entsprechendes Messverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2006
Erteilt am 13.01.2021
Vertretung
Willekens, Jeroen Pieter Frank · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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13.01.2021
Verfahren zur Steuerung einer Lithografischen Vorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
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13.01.2021
Substratformmessvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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13.01.2021
Lithografische Vorrichtung mit Graphenpellikel
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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07.01.2021
Surface treatment apparatus and method for surface treatment of patterning devices and other substrates
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.05.2020
Anhängig
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07.01.2021
Apparatus for and method of local control of a charged particle beam
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.06.2020
Anhängig
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07.01.2021
Sub-field control of a lithographic process and associated apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.06.2020
Anhängig
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07.01.2021
Non-Correctable Error in Metrology
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.06.2020
Anhängig
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06.01.2021
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2011
Erteilt am 06.01.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35