ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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20.02.2013
Trägerplattenvorrichtung, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2560050
Optik & Fototechnik
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13.02.2013
Zielmaterial, Quelle, Euv-Lithographievorrichtung und Geräteherstellungsverfahren unter deren Verwendung
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Status
Angemeldet am 20.03.2009
Erteilt am 13.02.2013
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13.02.2013
Systeme und Verfahren für den Schutz einer Zielmaterialausgabe in einer Laserproduzierten Plasma-Euv-Lichtquelle
EP2556514
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 01.04.2011
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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30.01.2013
Lithografische Vorrichtung und Filter mit Spektraler Reinheit
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23.01.2013
Projektionsbelichtungsvorrichtung zur EUV-Lithographie
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Status
Angemeldet am 18.09.2007
Erteilt am 23.01.2013
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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23.01.2013
Verfahren und Vorrichtung zur Rekonstruktion mikroskopischer Strukturen
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Status
Angemeldet am 08.09.2010
Erteilt am 23.01.2013
Vertretung
van de Ven, Jan-Piet · Eindhoven
van de Ven, Jan-Piet · Eindhoven
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16.01.2013
Spektralreinigungsfilter und Verfahren zur Herstellung eines Spektralreinigungsfilters
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Status
Angemeldet am 21.07.2010
Erteilt am 16.01.2013
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16.01.2013
Strahlungsquelle, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
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02.01.2013
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
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Status
Angemeldet am 05.11.2001
Erteilt am 02.01.2013
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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05.12.2012
Lithographische Vorrichtung mit einer Gasdusche
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Status
Angemeldet am 20.10.2006
Erteilt am 05.12.2012
Vertretung
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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05.12.2012
Strahlendetektor, Verfahren zur Herstellung des Strahlendetektors und lithografische Vorrichtung mit diesem Strahlendetektor
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Status
Angemeldet am 18.06.2008
Anhängig
Vertretung
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28.11.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 29.07.2005
Erteilt am 28.11.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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10.10.2012
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Polarisationseigenschaft einer Lithografischen Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 13.06.2006
Erteilt am 10.10.2012
Vertretung
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03.10.2012
Strahlungsquelle
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Status
Angemeldet am 20.08.2008
Erteilt am 03.10.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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26.09.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 17.10.2005
Erteilt am 26.09.2012
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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19.09.2012
Verfahren zum Schutz einer optischen Komponente, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Gerät enthaltend eine optische Komponente, und lithographisches Gerät
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Status
Angemeldet am 04.10.2005
Erteilt am 19.09.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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05.09.2012
Lithografisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 28.03.2007
Erteilt am 05.09.2012
Vertretung
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25.07.2012
Strahlungsquelle, Lithographiegerät und Methode zur Herstellung von Bauelementen
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Status
Angemeldet am 17.09.2003
Erteilt am 25.07.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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25.07.2012
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Lithographie mittels winkelaufgelöster Spektroskopie
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Status
Angemeldet am 18.09.2007
Erteilt am 25.07.2012
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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27.06.2012
Strahlungsquelle, Lithografische Vorrichtung und Strahlungserzeugungsverfahren
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Status
Angemeldet am 19.12.2008
Erteilt am 27.06.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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27.06.2012
Strahlungsquelle und lithografische Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 08.04.2009
Erteilt am 27.06.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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13.06.2012
Spektralfilter, Lithographievorrichtung mit einem Solchen Spektralfilter, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung und in Diesem Verfahren Hergestellte Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 26.09.2008
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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13.06.2012
Strahlungsquelle, Lithographieapparat und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
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Status
Angemeldet am 22.07.2009
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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06.06.2012
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung von Z-Positionsfehlern/-abweichungen und Substrattischebenheit
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Status
Angemeldet am 21.12.2005
Erteilt am 06.06.2012
Vertretung
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30.05.2012
Lithographischer Apparat und Testmethode
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Status
Angemeldet am 15.12.2004
Erteilt am 30.05.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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30.05.2012
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
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Status
Angemeldet am 05.03.2004
Erteilt am 30.05.2012
Vertretung
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30.05.2012
Verfahren und Anordnung zur Prognose von thermisch induzierten Substratdeformationen
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Status
Angemeldet am 12.10.2006
Erteilt am 30.05.2012
Vertretung
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09.05.2012
Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 15.12.2006
Erteilt am 09.05.2012
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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25.04.2012
Lithographischer Apparat
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Status
Angemeldet am 28.05.2004
Erteilt am 25.04.2012
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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25.04.2012
Lithografische Vorrichtung und Verfahren
EP2443514
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2010
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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18.04.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 11.05.2005
Erteilt am 18.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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18.04.2012
Markerstruktur, lithographische Projektionsvorrichtung, Verfahren zur Substratausrichtung mittels solch einer Struktur und Substrat mit solch einer Markerstruktur
EP2204697
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2003
Anhängig
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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11.04.2012
Lithographisches Gerät, Methoden zur Herstellung von Bauelementen, Methode zur Herstellung eines Reflektors sowie eine Phasenschiebermaske
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Status
Angemeldet am 17.05.2002
Erteilt am 11.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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11.04.2012
Spektraler Reinigungsfilter für einen mehrschichtigen Spiegel, lithografische Vorrichtung mit einem derartigen mehrschichtigen Spiegel, Verfahren zur Vergrößerung des Verhältnisses von erwünschter und unerwünschter Strahlung sowie Geräteherstellungsverfahren
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Status
Angemeldet am 26.04.2006
Erteilt am 11.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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04.04.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 17.08.2004
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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04.04.2012
Verfahren und Gerät zur Bestimmung des Werts von Prozessparametern auf der Basis von Streumessdaten, damit Hergestellte Halbleitervorrichtung
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Status
Angemeldet am 22.02.2005
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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04.04.2012
Optisches Element, Lithografievorrichtung mit Derartigem Optischen Element und Verfahren zur Herstellung eines Bauelements
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Status
Angemeldet am 24.02.2009
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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04.04.2012
Lithographischer Apparat
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Status
Angemeldet am 25.08.2004
Erteilt am 04.04.2012
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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28.03.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 18.05.2005
Erteilt am 28.03.2012
Vertretung
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28.03.2012
Beidseitiges Scannen
EP2433295
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.05.2010
Anhängig
Vertretung
Mooij, Maarten · Amsterdam
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20