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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
22.03.2012
Correction for flare effects in lithography system
WO2012034829 Optik & Fototechnik
14.03.2012
Verfahren zur Auswahl eines Gittermodells zur Korrektur von Gitterdeformationen in einem lithographischen Apparat und Verwendung desselben in einer lithographischen Anordnung
EP1744217 Optik & Fototechnik erteilt
29.02.2012
Strahlungserzeugungseinrichtung, Lithographische Vorrichtung, Bauelementeherstellungsverfahren und Dadurch Hergestelltes Bauelement
EP2014141 Elektronik & Schaltungstechnik erteilt
29.02.2012
Verfahren zur groben Wafer-Ausrichtung in einer lithografischen Vorrichtung
EP2103995 Optik & Fototechnik
02.02.2012
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2012013451 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.02.2012
Lithographischer Apparat
EP1197803 Optik & Fototechnik erteilt
01.02.2012
Substrathalter für einen lithographischen Apparat
EP1482370 Optik & Fototechnik erteilt
01.02.2012
Lithografische Vorrichtung mit mehrfachen Ausrichtungsanordnungen und Ausrichtungsmessverfahren
EP1674938 Optik & Fototechnik erteilt
01.02.2012
Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1804122 Optik & Fototechnik erteilt
01.02.2012
Strahlungsquelle, lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2199857 Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik erteilt
18.01.2012
Projektionssystem und Verfahren zu dessen Verwendung
EP1469348 Optik & Fototechnik erteilt
18.01.2012
Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1720073 Optik & Fototechnik erteilt
11.01.2012
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1477855 Optik & Fototechnik erteilt
11.01.2012
Lithographischer Projektionsapparat, Gasspülverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und Spülgasversorgungssystem
EP1649325 Optik & Fototechnik erteilt
14.12.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1491961 Optik & Fototechnik erteilt
30.11.2011
Halterungsanordnung und Verfahren zur Halterung und thermischen Konditionierung eines Substrats
EP1650604 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
02.11.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1486827 Optik & Fototechnik erteilt
02.11.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1720074 Optik & Fototechnik erteilt
12.10.2011
Messtechnische Trägerplattenvorrichtung für lithographische Anwendungen
EP1701216 Optik & Fototechnik erteilt
05.10.2011
Lithographische Projektionsvorrichtung mit einem einen Konkavspiegel und einen Konvexspiegel aufweisenden Kollektor
EP1469349 Optik & Fototechnik erteilt
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104180 Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104173 Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104175 Optik & Fototechnik
01.09.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011104178 Optik & Fototechnik
18.08.2011
Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011098169 Optik & Fototechnik
13.07.2011
Strahlungsquelle, Lithografiegerät und Herstellungsverfahren für ein Bauteil
EP2157584 Elektrische Energietechnik
06.07.2011
Lithographischer Apparat, optisches Element für einen lithographischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1624342 Optik & Fototechnik erteilt
30.06.2011
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2011076500 Optik & Fototechnik
22.06.2011
Lithographiegerät mit einem Mo/Si Mehrfachschichtenspiegel mit einer Schutzschicht
EP1394815 Elektrische Energietechnik erteilt
15.06.2011
Lithographische Vorrichtung mit Rotationsfiltervorrichtung
EP2188674 Optik & Fototechnik erteilt
25.05.2011
Lithographischer Apparat und Justierverfahren für den Apparat
EP1507173 Optik & Fototechnik erteilt
25.05.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2261741 Optik & Fototechnik
04.05.2011
Verfahren zur Reinigung eines Elements einer lithografischen Vorrichtung
EP1764653 Optik & Fototechnik erteilt
06.04.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1596421 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.04.2011
Lithographischer Apparat und Vorrichtungs-Halteverfahren
EP1530089 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
06.04.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1500986 Optik & Fototechnik erteilt
02.03.2011
Halter, lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1359469 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
09.02.2011
Lithografische Vorrichtung, Verfahren zum Steuern der Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP2221669 Optik & Fototechnik
09.02.2011
Lithografische Vorrichtung, Verfahren zum Steuern der Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels unter Anwendung einer lithografischen Vorrichtung
EP2264529 Optik & Fototechnik
19.01.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1903398 Optik & Fototechnik erteilt

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Elektronik & Schaltungstechnik
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132
Elektrische Energietechnik
125
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60
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37
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34
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33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20

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