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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
30.11.2005
Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
EP1065548
Optik & Fototechnik
30.11.2005
Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik
EP1245982
Optik & Fototechnik
23.11.2005
Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
EP1209501
Optik & Fototechnik
16.11.2005
Optisches Abbildungssystem mit Polarisationsmitteln
EP1258780
Optik & Fototechnik
10.11.2005
Microlithographic projection exposure apparatus and immersion liquid therefore
WO2005106589
Optik & Fototechnik
03.11.2005
Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
WO2005103826
Optik & Fototechnik
03.11.2005
Verfahren zum Verbinden eines Optischen Elements mit einer Haltestruktur
WO2005103788
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
27.10.2005
Support device for positioning an optical element
WO2005101131
Optik & Fototechnik
26.10.2005
Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
EP1209500
Optik & Fototechnik
26.10.2005
Projektionssystem für die Extrem-Ultraviolettlithographie
EP1393133
Optik & Fototechnik
20.10.2005
Imaging system with mirror group
WO2005098504
Optik & Fototechnik
20.10.2005
Verfahren zur Strukturierung eines Substrats durch Mehrfachbeleuchtung
WO2005098543
Optik & Fototechnik
20.10.2005
Optische Abbildungsvorrichtung
WO2005098482
Optik & Fototechnik
12.10.2005
Verzögerungsplatte
EP1583988
Optik & Fototechnik
12.10.2005
Verfahren zur Optimierung der Abbildungsgüte
EP1584982
Optik & Fototechnik
05.10.2005
Adaptronischer Spiegel
EP1120670
Optik & Fototechnik
05.10.2005
Geometrischer Strahlteiler und Verfahren zu seiner Herstellung
EP1278094
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
15.09.2005
Transmissionsfiltervorrichtung
WO2005085955
Optik & Fototechnik
14.09.2005
Messverfahren und Messsystem zur Vermessung der Abbildungsqualität eines Optischen Abbildungssystems
EP1573401
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
09.09.2005
Programmgesteuertes Nc-Datengenerierungsverfahren mit Korrekturdaten
WO2005083536
Steuerungs- & Regelungstechnik
09.09.2005
Gehäusestruktur
WO2005083487
Optik & Fototechnik
09.09.2005
Verfahren zum Ausrichten der Oberfl Che eines Substrats
WO2005083524
Optik & Fototechnik
09.09.2005
Beleuchtungssystem F R eine Mikrolithographie-Projektionsbel Ichtungsanlage
WO2005083512
Optik & Fototechnik
01.09.2005
Abbildungssystem F R eine Mikrolithographische Projektionsbe Lichtungsanlage
WO2005081068
Optik & Fototechnik
24.08.2005
Projektionslinse mit Unrunder Membran für die Mikrolithographie
EP1565769
Optik & Fototechnik
18.08.2005
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
WO2005076083
Optik & Fototechnik
18.08.2005
Maske zur Verwendung in einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2005076078
Optik & Fototechnik
17.08.2005
Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
EP1564594
Optik & Fototechnik
28.07.2005
Vorrichtung und Verfahren zur Wellenfrontvermessung eines Optischen Abbildungssystems und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
WO2005069079
Optik & Fototechnik
28.07.2005
Microlithographic projection exposure apparatus with immersion projection lens
WO2005069078
Optik & Fototechnik
21.07.2005
Optischer Schalter
WO2005066706
Optik & Fototechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation
20.07.2005
Vorrichtung zur Aufnahme eines Strahlteilerelements
EP1554622
Optik & Fototechnik
14.07.2005
Projection optical system
WO2005064406
Optik & Fototechnik
06.07.2005
Beleuchtungssystem mit einer Vorrichtung zur Einstellung der Lichtintensit T
EP1550004
Optik & Fototechnik
30.06.2005
Microlithography projection objective with crystal elements
WO2005059645
Optik & Fototechnik
30.06.2005
Microlithography projection objective with crystal lens
WO2005059618
Optik & Fototechnik
30.06.2005
Device and method for surface working
WO2005058544
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
16.06.2005
Optisches System und Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturierten Komponenten durch Mikrolithographie
WO2005054954
Optik & Fototechnik
16.06.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005054955
Optik & Fototechnik
08.06.2005
Vorrichtung zur präzisen Positionierung eines Bauteiles, insbesondere eines optischen Bauteiles
EP1160609
Optik & Fototechnik

Wer vertritt Carl Zeiss SMT?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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