ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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20.11.2019
Stützstruktur für einen Wafertisch
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.09.2012
Erteilt am 20.11.2019
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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20.11.2019
Beleuchtungsquelle für eine Inspektionsvorrichtung, Inspektionsvorrichtung und Inspektionsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2018
Anhängig
Vertretung
Willekens, Jeroen Pieter Frank · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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20.11.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Berechnung von Elektromagnetischen Streuungseigenschaften einer Struktur
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2018
Anhängig
Vertretung
Willekens, Jeroen Pieter Frank · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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20.11.2019
Schätzung eines Parameters eines Substrats
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.05.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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20.11.2019
Lithographisches System mit einem Modul zur Differentiellen Interferometrie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2012
Erteilt am 20.11.2019
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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20.11.2019
Photonenquelle, Messgerät, Lithographisches System und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.05.2013
Erteilt am 20.11.2019
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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13.11.2019
Objekthalter und Verfahren zur Herstellung eines Objekthalters
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.02.2014
Erteilt am 13.11.2019
Vertretung
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.11.2019
Prüfwerkzeug, Prüfverfahren und Computerprogrammprodukt
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.04.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.11.2019
Vorrichtung mit Verwendung mehrerer Geladener Teilchenstrahlen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.12.2017
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.11.2019
Herstellung von Einzigartigen Chips mit einem Lithografiesystem mit mehreren Ladungsträgerteilstrahlen
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 08.09.2017
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.11.2019
Durchführungsvorrichtung und Signalleiterbahnanordnung
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 07.12.2017
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.11.2019
Elektrostatische Klemme, Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Elektrostatischen Klemme
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.09.2008
Erteilt am 06.11.2019
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.11.2019
Verfahren und System zur Herstellung von Einzigartigen Chips unter Verwendung eines Lithografiesystems mit mehreren Ladungsträgerteilstrahlen
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.09.2017
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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30.10.2019
Verfahren zur Bestimmung einer Position eines Merkmals
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.11.2017
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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30.10.2019
Herstellung von Einzigartigen Chips mit einem Lithografiesystem mit mehreren Ladungsträgerteilstrahlen
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.12.2017
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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23.10.2019
Verfahren zur Bestimmung eines Wertes eines Interessierenden Parameters eines durch einen Strukturierungsprozess Gebildeten Ziels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.04.2018
Anhängig
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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16.10.2019
Modellbasierte Rekonstruktion von Halbleiterstrukturen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.04.2018
Anhängig
Vertretung
Willekens, Jeroen Pieter Frank · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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16.10.2019
Messverfahren und -Vorrichtung, Computerprogramm und Lithographisches System
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.04.2018
Anhängig
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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09.10.2019
Substrathalter, Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Substrathalters
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2013
Anhängig
Vertretung
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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02.10.2019
Substrathalter und Lithographische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2013
Erteilt am 02.10.2019
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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02.10.2019
Verfahren zur Bewertung von Steuerungsstrategien in einem Halbleiterherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.03.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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02.10.2019
Steuerungsverfahren für ein Abtastbelichtungsapparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.03.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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02.10.2019
Verfahren zur Bewertung von Steuerungsstrategien in einem Halbleiterherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.02.2019
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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25.09.2019
Trägervorrichtung, Lithografievorrichtung und Herstellungsverfahren für die Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2013
Erteilt am 25.09.2019
Vertretung
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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25.09.2019
Verfahren für Metrologie und Zugehörige Vorrichtungen
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 23.03.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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18.09.2019
Bestimmung einer Optimalen Betriebsparametereinstellung eines Metrologiesystems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.10.2017
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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18.09.2019
Verfahren zum Klemmen eines Substrats und Klemmenvorbereitungseinheit
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 18.02.2010
Erteilt am 18.09.2019
Vertretung
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18.09.2019
Inspektionswerkzeug, Lithografische Vorrichtung und Inspektionsverfahren
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 13.03.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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18.09.2019
Herstellung von Radioisotopen
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 03.11.2016
Erteilt am 18.09.2019
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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18.09.2019
Inspektionssystem, Lithografische Vorrichtung und Inspektionsverfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.03.2018
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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04.09.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Strukturierten Kohlenstoffschicht
Metallurgie & Oberflächentechnik
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04.09.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Formung einer Strukturierten Materialschicht
Optik & Fototechnik
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28.08.2019
Ausrichtungsmarkierungspositionierung in einem Lithographischen Prozess
Optik & Fototechnik
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28.08.2019
Steuerung basierend auf der Wahrscheinlichkeitsdichtefunktion eines Parameters
Optik & Fototechnik
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28.08.2019
Systeme und Verfahren zur Verbesserung von Resistmodellvorhersagen
Optik & Fototechnik
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28.08.2019
Metrologievorrichtung und Verfahren zum Bestimmen einer Eigenschaft einer oder mehrerer Strukturen auf einem Substrat
Optik & Fototechnik
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28.08.2019
Vorrichtung zum Bewegen eines Objekts in Und/oder aus einem Gehäuse
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.10.2017
Anhängig
Vertretung
Ketting, Alfred · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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21.08.2019
Haltevorrichtung, Lithographievorrichtung und Verfahren zur Verwendung der Haltevorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2012
Erteilt am 21.08.2019
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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21.08.2019
Metrologieverfahren und -Vorrichtung mit Erhöhter Bandbreite
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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21.08.2019
Metrologische Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Interessierenden Charakteristik einer Struktur auf einem Substrat
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
2.737
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20