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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
25.06.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1494075 Optik & Fototechnik erteilt
19.06.2008
Radiation system and lithographic apparatus
WO2008072962 Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
19.06.2008
Plasma radiation source with axial magnetic field
WO2008072966 Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
18.06.2008
Bilderzeugungsapparat
EP1280007 Optik & Fototechnik erteilt
12.06.2008
Shadowing Electrodes For Debris Suppression in an Euv Source
WO2008069653 Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
12.06.2008
Plasma radiation source with rotating electrodes and liquid metal provider
WO2008069654 Elektronik & Schaltungstechnik
11.06.2008
Verfahren, Inspektionssystem, Rechnerprogramm und Referenzsubstrat zum Erkennen von Maskenfehlern
EP1416326 Optik & Fototechnik erteilt
11.06.2008
Lithographischer Apparat mit einem radialen Polarisator
EP1574904 Optik & Fototechnik erteilt
11.06.2008
Lithographischer Apparat. Beleuchtungssystem und optisches Element zur Rotation einer Intensitätsverteilung
EP1582931 Optik & Fototechnik erteilt
29.05.2008
Gas analyzing system, lithographic apparatus and method of improving a sensitivity of a gas analyzing system
WO2008063056 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
29.05.2008
Verfahren zum Entfernen von Kontaminationen auf Optischen Oberflächen und Optische Anordnung
WO2008061690 Optik & Fototechnik
28.05.2008
Lithographievorrichtung, Herstellungsverfahren für eine Vorrichtung und Computerprogrammprodukt
EP1925981 Optik & Fototechnik
17.04.2008
Lithographic apparatus, and device manufacturing method
WO2008044925 Optik & Fototechnik
17.04.2008
Cleaning method, apparatus and cleaning system
WO2008044924 Optik & Fototechnik
09.04.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1424598 Optik & Fototechnik erteilt
03.04.2008
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008039060 Optik & Fototechnik
02.04.2008
Aktiv-Retikelwerkzeug und Lithographische Vorrichtung
EP1904896 Optik & Fototechnik
02.04.2008
Lithographisches Projektionssystem und Projektionslinsen-Polarisationssensor
EP1904895 Optik & Fototechnik
02.04.2008
Passiv-Retikel-Werkzeug, Lithographische Vorrichtung und Verfahren zum Strukturieren eines Bauelements in einem Lithographiewerkzeug
EP1904897 Optik & Fototechnik
19.03.2008
Optisches System zur Erzeugung von Strahlung im EUV-Wellenlängenbereich und Verfahren zur Messung des Kontaminationsstatus von EUV-reflektierenden Elementen
EP1901125 Optik & Fototechnik
19.03.2008
Systeme und Verfahren zum Ablenken von Plasmaerzeugten Ionen, um zu Verhindern, Dass die Ionen eine Innere Komponente einer Euv-Lichtquelle Erreichen
EP1899115 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
12.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1380897 Optik & Fototechnik erteilt
12.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1424599 Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik erteilt
05.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1372040 Optik & Fototechnik erteilt
05.03.2008
Methode zur Belichtung eines Substrats und lithographischer Projektionsapparat
EP1515189 Optik & Fototechnik
27.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1148389 Optik & Fototechnik erteilt
27.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1291721 Optik & Fototechnik erteilt
27.02.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1319986 Optik & Fototechnik erteilt
27.02.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1582928 Optik & Fototechnik erteilt
27.02.2008
Lithographische Vorrichtung und Reinigungsverfahren dafür
EP1891480 Optik & Fototechnik
20.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1647866 Optik & Fototechnik erteilt
13.02.2008
Lithographische Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1524555 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
13.02.2008
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und damit erzeugte Vorrichtung
EP1491962 Optik & Fototechnik erteilt
13.02.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1530090 Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik erteilt
30.01.2008
Lithografische Vorrichtung, Beleuchtungssystem und Debrisauffangsystem
EP1674932 Optik & Fototechnik erteilt
23.01.2008
Substratverarbeitungsverfahren
EP1548507 Optik & Fototechnik erteilt
03.01.2008
Lithographic apparatus comprising a cleaning arrangement, cleaning arrangement and method for cleaning a surface to be cleaned
WO2008002134 Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
02.01.2008
Lithographischer Apparat
EP1494079 Optik & Fototechnik erteilt
02.01.2008
Lithografisches Projektionsgerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1693708 Optik & Fototechnik erteilt
02.01.2008
Flüssigkeitsimmersions-Lithographiesystem mit einem Geneigten Duschkopf
EP1872175 Optik & Fototechnik

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