ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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25.06.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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Status
Angemeldet am 30.06.2003
Erteilt am 25.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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19.06.2008
Radiation system and lithographic apparatus
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Status
Angemeldet am 13.12.2007
Anhängig
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19.06.2008
Plasma radiation source with axial magnetic field
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Status
Angemeldet am 14.12.2007
Anhängig
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18.06.2008
Bilderzeugungsapparat
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Status
Angemeldet am 24.07.2002
Erteilt am 18.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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12.06.2008
Shadowing Electrodes For Debris Suppression in an Euv Source
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Status
Angemeldet am 21.11.2007
Anhängig
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12.06.2008
Plasma radiation source with rotating electrodes and liquid metal provider
WO2008069654
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2007
Anhängig
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11.06.2008
Verfahren, Inspektionssystem, Rechnerprogramm und Referenzsubstrat zum Erkennen von Maskenfehlern
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Status
Angemeldet am 27.10.2003
Erteilt am 11.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.06.2008
Lithographischer Apparat mit einem radialen Polarisator
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Status
Angemeldet am 08.03.2004
Erteilt am 11.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.06.2008
Lithographischer Apparat. Beleuchtungssystem und optisches Element zur Rotation einer Intensitätsverteilung
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Status
Angemeldet am 24.03.2005
Erteilt am 11.06.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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29.05.2008
Gas analyzing system, lithographic apparatus and method of improving a sensitivity of a gas analyzing system
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Status
Angemeldet am 08.11.2007
Anhängig
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29.05.2008
Verfahren zum Entfernen von Kontaminationen auf Optischen Oberflächen und Optische Anordnung
WO2008061690
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.11.2007
Anhängig
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28.05.2008
Lithographievorrichtung, Herstellungsverfahren für eine Vorrichtung und Computerprogrammprodukt
EP1925981
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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17.04.2008
Lithographic apparatus, and device manufacturing method
WO2008044925
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.09.2007
Anhängig
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17.04.2008
Cleaning method, apparatus and cleaning system
WO2008044924
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.09.2007
Anhängig
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09.04.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 26.11.2003
Erteilt am 09.04.2008
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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03.04.2008
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008039060
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.09.2007
Anhängig
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02.04.2008
Aktiv-Retikelwerkzeug und Lithographische Vorrichtung
EP1904896
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2006
Anhängig
Vertretung
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02.04.2008
Lithographisches Projektionssystem und Projektionslinsen-Polarisationssensor
EP1904895
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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02.04.2008
Passiv-Retikel-Werkzeug, Lithographische Vorrichtung und Verfahren zum Strukturieren eines Bauelements in einem Lithographiewerkzeug
EP1904897
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2006
Anhängig
Vertretung
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19.03.2008
Optisches System zur Erzeugung von Strahlung im EUV-Wellenlängenbereich und Verfahren zur Messung des Kontaminationsstatus von EUV-reflektierenden Elementen
EP1901125
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2006
Anhängig
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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19.03.2008
Systeme und Verfahren zum Ablenken von Plasmaerzeugten Ionen, um zu Verhindern, Dass die Ionen eine Innere Komponente einer Euv-Lichtquelle Erreichen
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Status
Angemeldet am 25.05.2006
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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12.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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12.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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05.03.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
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05.03.2008
Methode zur Belichtung eines Substrats und lithographischer Projektionsapparat
EP1515189
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.09.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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27.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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27.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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27.02.2008
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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27.02.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
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27.02.2008
Lithographische Vorrichtung und Reinigungsverfahren dafür
EP1891480
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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20.02.2008
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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13.02.2008
Lithographische Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 16.10.2003
Erteilt am 13.02.2008
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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13.02.2008
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und damit erzeugte Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 23.06.2004
Erteilt am 13.02.2008
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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13.02.2008
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 03.11.2004
Erteilt am 13.02.2008
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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30.01.2008
Lithografische Vorrichtung, Beleuchtungssystem und Debrisauffangsystem
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Status
Angemeldet am 21.12.2005
Erteilt am 30.01.2008
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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23.01.2008
Substratverarbeitungsverfahren
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03.01.2008
Lithographic apparatus comprising a cleaning arrangement, cleaning arrangement and method for cleaning a surface to be cleaned
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Angemeldet am 27.06.2007
Anhängig
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02.01.2008
Lithographischer Apparat
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02.01.2008
Lithografisches Projektionsgerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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02.01.2008
Flüssigkeitsimmersions-Lithographiesystem mit einem Geneigten Duschkopf
EP1872175
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.04.2006
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Hatzmann, Martin · Den Haag
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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