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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
04.06.2020
Membrane cleaning apparatus
WO2020109152
Optik & Fototechnik
03.06.2020
Ausrichtung eines Interferometrie-Moduls für ein Belichtungsgerät
EP2691734
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.06.2020
Verfahren zur Verringerung der Unsicherheit bei Modellvorhersagen des Maschinellen Lernens
EP3660744
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
03.06.2020
Systeme und Verfahren zur Kompensation der Dispersion eines Strahltrenners in einem Mehrstrahlgerät
EP3659172
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.05.2020
Methods and patterning devices and apparatuses for measuring focus performance of a lithographic apparatus, device manufacturing method
WO2020104114
Optik & Fototechnik
27.05.2020
Maskenloses Lithographiesystem mit Verbesserter Zuverlässigkeit
EP1913623
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.05.2020
Partikelkontaminationsmessverfahren und -Vorrichtung
EP2834709
Optik & Fototechnik
27.05.2020
Verfahren und Strukturierungsvorrichtungen sowie Vorrichtungen zur Messung der Fokusleistung einer Lithografievorrichtung, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
EP3657256
Optik & Fototechnik
27.05.2020
Verfahren zur Messung eines Fokusparameters in Bezug auf eine Struktur, die Mithilfe eines Lithographischen Verfahrens hergestellt Wurde
EP3657257
Optik & Fototechnik
22.05.2020
Method for obtaining training data for training a model of a semiconductor manufacturing process
WO2020099011
Optik & Fototechnik
22.05.2020
Method of determining the contribution of a processing apparatus to a substrate parameter
WO2020099010
Optik & Fototechnik
22.05.2020
A pellicle for euv lithography
WO2020099072
Optik & Fototechnik
22.05.2020
Method for monitoring lithographic apparatus
WO2020099050
Optik & Fototechnik
22.05.2020
Multiple-Pad Reticle Bumpers To Distribute Impact Load
WO2020099126
Optik & Fototechnik
20.05.2020
Verfahren zur Gewinnung von Trainingsdaten zum Trainieren eines Modells eines Halbleiterherstellungsprozesses
EP3654103
Optik & Fototechnik
20.05.2020
Verfahren zur Überwachung einer Lithographischen Vorrichtung
EP3654104
Optik & Fototechnik
14.05.2020
Systems and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus
WO2020094371
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.05.2020
Prediction of out of specification based on spatial characteristic of process variability
WO2020094385
Optik & Fototechnik
14.05.2020
Failure model for predicting failure due to resist layer
WO2020094389
Optik & Fototechnik
14.05.2020
Apparatus for and method cleaning a support inside a lithography apparatus
WO2020094388
Optik & Fototechnik
14.05.2020
Apparatus for and method of measuring distortion of a patterning device in a photolithographic apparatus
WO2020094369
Optik & Fototechnik
14.05.2020
A Method To Manufacture Nano Ridges in Hard Ceramic Coatings
WO2020094387
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.05.2020
Sensor array for real time detection of reticle position and forces
WO2020094467
Optik & Fototechnik
14.05.2020
Lithography support cleaning with cleaning substrate having controlled geometry and composition
WO2020094517
Optik & Fototechnik
13.05.2020
Vorhersage eines Wertes eines Halbleiterherstellungsverfahrensparameters
EP3650939
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
13.05.2020
Verfahren im Herstellungsverfahren einer Vorrichtung, Übergangsloses Computerlesbares Medium und zur Ausführung des Verfahrens Konfiguriertes System
EP3650940
Optik & Fototechnik
13.05.2020
Verfahren zum Bestimmen des Beitrags einer Verarbeitungsvorrichtung zu einem Substratparameter
EP3650941
Optik & Fototechnik
13.05.2020
Verbesserungen an Messzielen
EP3611567
Optik & Fototechnik
07.05.2020
Method to characterize post-processing data in terms of individual contributions from processing stations
WO2020088842
Optik & Fototechnik
07.05.2020
A method for controlling the dose profile adjustment of a lithographic apparatus
WO2020088835
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
07.05.2020
Method of determining a value of a parameter of interest of a patterning process, device manufacturing method
WO2020088906
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
06.05.2020
Tragetisch für eine Lithografische Vorrichtung, Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren für eine Vorrichtung
EP3137945
Optik & Fototechnik
06.05.2020
Verfahren zur Bestimmung eines Wertes eines Interessierenden Parameters eines Strukturierungsprozesses, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP3647871
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
06.05.2020
Verfahren zum Steuern der Einstellung des Dosisprofils einer Lithografischen Vorrichtung
EP3647872
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
06.05.2020
Verfahren zur Charakterisierung von Nachbearbeitungsdaten in Bezug auf Individuelle Beiträge von Verarbeitungsstationen
EP3647873
Optik & Fototechnik
06.05.2020
Optische Fasern und Herstellungsverfahren dafür
EP3647874
Anorganische Chemie & Werkstoffe Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
30.04.2020
Method and apparatus for adaptive alignment
WO2020083612
Software & Datenverarbeitung
30.04.2020
Apparatus for and method of reducing contamination from source material in an euv light source
WO2020086478
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
30.04.2020
Target material supply apparatus and method
WO2020086902
Elektronik & Schaltungstechnik
29.04.2020
Euv-Belichtungsgerät
EP2598947
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik

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Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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92
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67
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60
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55
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39
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35

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