ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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20.11.2025
Systems and methods for overlay measurement
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 22.04.2025
Anhängig
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20.11.2025
Systems and methods for evaluating data for training machine-learning models
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 22.04.2025
Anhängig
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20.11.2025
System and method for combined field and pupil intensity-based phase retrieval
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.04.2025
Anhängig
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20.11.2025
Processes And Systems For Droplet Detection in an Euv Light Source
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 01.05.2025
Anhängig
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19.11.2025
Träger, Beurteilungsvorrichtung und Verfahren zur Verwendung des Trägers
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.11.2025
Breitband-Strahlungsquellenanordnung und Verfahren zur Erzeugung von Breitband-Strahlung
Optik & Fototechnik
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19.11.2025
Vorrichtung zur Korrektur der Beleuchtungsgleichmässigkeit mit einer Durchlässigen Korrekturplatte mit Variierendem Parameterprofil
Optik & Fototechnik
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19.11.2025
Objekthalterung und Anordnung davon
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.11.2025
Substrate zur Kalibrierung eines Lithografischen Geräts
Optik & Fototechnik
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19.11.2025
Thermisches Konditionierungssystem und Lithographische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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19.11.2025
Elektrisches Verbindungssystem
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
An electrical connection system 300 comprising: a first body 310; a first electrical contact member 311 attached to the first body; a second body 320 movable relative to the first body; a second electrical contact member 321 attached to the second body; and a passive pneumatic actuator 322 configured to change length in a first direction in response to changes in the fluid pressure surrounding the pneumatic actuator; wherein, in a disconnected state, the pneumatic actuator has a first length whereby the first and second electrical contact members 311, 321 are not in electrical contact; wherein, in a connected state, the pneumatic actuator has a second length whereby the first and second electrical contact members 311, 321 are in electrical contact; wherein the system further comprises a first compliant member 315 through which the first electrical contact member 311 is attached to the first body 310, and the first compliant member 315 is configured to accommodate relative movements between the first and second bodies 310, 320 in a second direction different from the first direction. |
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19.11.2025
Belichtungsvorrichtung und Verfahren zur Durchführung eines Lithografischen Belichtungsverfahrens
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
An exposure apparatus configured to perform a lithographic exposure process, comprising an actuator, and a control unit configured to control the actuator, the control unit comprising a trained machine learning model. The control unit is configured to determine, within a predetermined amount of time, a control setting for controlling the actuator by: obtaining a desired correction of the lithographic exposure process; determining an initial control setting for the actuator based on the desired correction of the lithographic exposure process; and iteratively refining the initial control setting to approach the desired correction of the lithographic exposure process, thereby obtaining the control setting for the actuator. The control unit is configured to determine the initial control setting for the actuator by providing the desired correction of the lithographic exposure process as input to the trained machine learning model. |
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19.11.2025
Messungsladungsentfernung und Schichtweise Stapelgeometrieinferenz unter Verwendung von Diffusionsmodellen
Software & Datenverarbeitung
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Zusammenfassung
A method of updating images taken by charged-particle beam (CPB) tool of a feature of a wafer. The method includes generating a distortion map by a machine learning model trained on: a first CPB image of the feature, wherein the first image has a first resolution; a second CPB image of the feature, wherein the second image has a second resolution different from the first resolution and the second CPB image includes distortions; and a mask based on the first CPB image. The distortion map indicates how the second CPB image is distorted relative to the feature. A third image of the feature is generated by applying the distortion map to the second CPB image, wherein the third image has a third resolution higher than the first resolution and is used for performing metrology or defect detection. |
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19.11.2025
Gaszelle
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
A gas cell for a broadband light source, the gas cell comprising: a hollow core photonic crystal fiber, HC-PCF; a first clamping device coupled to a first end of the HC-PCF; and a first actuator coupled to the first clamping device, the first actuator controllable to move the first clamping device towards a first transparent window of the gas cell. |
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13.11.2025
Radiation source for generating euv light
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
System and method for die bonding with diffraction based alignment marks on the die
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Method of designing an optical component for coupling broadband radiation into an optical fiber
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Semiconductor bonding distortion adjustment systems and methods
Akustik, Musik & Datenspeicherung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Semiconductor bonding substrate holding systems and methods
Akustik, Musik & Datenspeicherung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Systems and methods for compact uniformity correction module (unicom)
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Semiconductor bonding alignment systems and methods
Akustik, Musik & Datenspeicherung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Target supply system
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 16.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Translation prior for image analysis
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 17.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Fixed Parallel Alignment Sensors in Combination With Fast Scanning
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.04.2025
Anhängig
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13.11.2025
Metrology method and associated apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.04.2025
Anhängig
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12.11.2025
Steuerungsverfahren, Positionierungssystem, Belichtungsvorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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12.11.2025
Breitbandstrahlungsquelle und Verfahren zur Erzeugung von Breitband-Ausgangsstrahlung
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a method of controlling a broadband radiation source comprising at least an optical fiber configured to receive pump radiation and generate broadband output radiation. The method comprises obtaining ambient pressure data describing an ambient pressure in an environment of the broadband radiation source; controlling at least one parameter of the pump radiation in dependence of the ambient pressure data; and generating the broadband output radiation using the pump radiation to excite the optical fiber and/or a working medium confined therein. |
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12.11.2025
Materialentfernungsvorrichtung und Verfahren zum Entfernen von Material von einem Objektträger
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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12.11.2025
Metrologieverfahren und Zugehörige Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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06.11.2025
Broadband radiation source assembly and method of generating broadband radiation
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2025
Anhängig
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06.11.2025
Digital holography system and method for diffraction based alignment
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.04.2025
Anhängig
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06.11.2025
Deformable mirror control for lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2025
Anhängig
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06.11.2025
Method and measurement system for determining data relating to aberrations caused by a projection system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2025
Anhängig
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05.11.2025
Objekthalter
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.11.2025
Optische Vorrichtung mit Geladenen Teilchen und Methode
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.11.2025
Verfahren in Verbindung mit einer Maskenanordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2016
Erteilt am 05.11.2025
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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05.11.2025
Modul für eine Metrologievorrichtung mit einer Öffnung mit einer von der Strahlungswellenlänge Abhängigen Grösse Und/oder Form
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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05.11.2025
Aufnahme und Platzierung auf Aussparungsbasis für Heterogene Integration
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.11.2025
Hybriddetektoren mit Oberflächenpassivierung bei Niedriger Temperatur
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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05.11.2025
Pick And Place mit Chipaktuatoren zur Heterogenen Integration
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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