ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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04.06.2025
Verfahren zur Bestimmung einer Korrektur für einen Belichtungsprozess, Lithographievorrichtung und Computerprogramm
EP4564095
Optik & Fototechnik
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04.06.2025
Elektronenoptisches System, Verfahren zur Herstellung eines Elektronenstrahlelements
EP4564396
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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04.06.2025
Verfahren zum Einrichten eines Lithographiegeräts
EP4564096
Optik & Fototechnik
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04.06.2025
Elektrolyseur mit Laminarer Strömung
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04.06.2025
Trainieren eines Modells zur Erzeugung Prädiktiver Daten
EP4562474
Optik & Fototechnik
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28.05.2025
Strahlungsquelle
EP4560393
Optik & Fototechnik
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28.05.2025
Vorrichtung und Verfahren zur Projektion mehrerer Geladener Teilchenstrahlen
EP4560682
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.05.2025
System und Verfahren zur Bereitstellung von Ausgangsstrahlung
EP4560394
Optik & Fototechnik
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28.05.2025
Anordnung zur Wellenlängenkalibrierung
EP4560401
Optik & Fototechnik
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28.05.2025
Verfahren zur Bestimmung einer Optischen Eigenschaft einer Mehrschichtigen Struktur
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28.05.2025
System und Verfahren zum Zählen von Partikeln auf einem Detektor Während der Inspektion
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28.05.2025
Verbesserte Kantendetektion mit Detektoreinfallstellen
EP4559016
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.05.2025
Detektor für Geladene Teilchen für Mikroskopie
EP4559015
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.05.2025
Verfahren und Anordnungen zur Wellenlängenkalibrierung
EP4556869
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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21.05.2025
Spiegelanordnung für Mikrospiegelarray
EP4555382
Optik & Fototechnik
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21.05.2025
Substrathalter, Lithografische Vorrichtung, Computerprogramm und Verfahren
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21.05.2025
Metrologie- und Steuerungssystem
EP4555832
Elektronik & Schaltungstechnik
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21.05.2025
Isolierender Abstandshalter für Elektronenoptische Anordnung
EP4555549
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.05.2025
Transiente Defektinspektion unter Verwendung eines Inspektionsbildes
EP4555474
Software & Datenverarbeitung
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21.05.2025
Verfahren und System zur Feinfokussierung Sekundärer Strahlpunkte auf einem Detektor für Mehrstrahlinspektionsvorrichtung
EP4555550
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.05.2025
Fokusmetrologieverfahren und Verfahren zum Entwurf eines Fokusziels für Fokusmetrologie
EP4553579
Optik & Fototechnik
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14.05.2025
Design einer Schaltung auf Sensorelementebene für eine Elektronenzähldetektionsvorrichtung
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14.05.2025
Quelle, Beurteilungsvorrichtung, Verfahren zur Reinigung einer Quelle Geladener Teilchen, Verfahren zur Reinigung einer Komponente einer Beurteilungsvorrichtung
EP4553885
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.05.2025
Beurteilungsvorrichtung und Verfahren
EP4552149
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.05.2025
Vorrichtung zur Breitbandstrahlungserzeugung
EP4548157
Optik & Fototechnik
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07.05.2025
Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen, Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen und Verfahren zur Herstellung einer Optischen Vorrichtung für Geladene Teilchen
EP4550382
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.05.2025
Vorwärtskopplungsrahmen eines Neuronalen Netzwerks zur Compliance-Kompensation
EP4550063
Steuerungs- & Regelungstechnik
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07.05.2025
Verfahren zur Bestimmung einer Absoluten Position eines Beweglichen Objekts, Interferometersystem, Projektionssystem und Lithografische Vorrichtung
EP4548039
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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07.05.2025
Seitenwandwinkelmetrologie
EP4550047
Optik & Fototechnik
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There is provided a method for determining angular information of one or more structures comprising: illuminating a first surface portion of said one or more structures with an illumination beam and measuring radiation scattered therefrom to determine a first signal; determining a first asymmetry metric value describing degree of asymmetry of the first signal; and determining the angular information based on at least the first asymmetry metric value, wherein the illumination beam comprises a spot size smaller in at least one dimension of a smallest element of the first surface portion. |
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30.04.2025
Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen und Verfahren zur Detektion von Signalgeladenen Teilchen
EP4546393
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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30.04.2025
Verfahren zur Metrologie und Zugehörige Vorrichtungen
EP4546049
Optik & Fototechnik
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23.04.2025
Positionsmesssystem, Positionsmessverfahren und Lithografische Vorrichtung
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23.04.2025
Substratträger und Lithographische Vorrichtung
EP4540659
Optik & Fototechnik
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23.04.2025
Substrat Unterstützung und Substrattisch
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16.04.2025
Verfahren zum Entwurf eines Fokusziels für Fokusmetrologie
EP4538793
Optik & Fototechnik
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16.04.2025
Metrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
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16.04.2025
Verfahren zur Bestimmung eines Abtastschemas und Zugehöriges Metrologieverfahren
EP4538797
Optik & Fototechnik
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16.04.2025
Verfahren zur Herstellung von Photonischen Kristallfasern
EP4536601
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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16.04.2025
Ladungsteilchenstrahlvorrichtung mit Schneller Fokuskorrektur und Verfahren dafür
EP4537381
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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16.04.2025
Ansichtsfensteranordnung für eine Extrem-Ultraviolett-Lichtquelle
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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