ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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26.07.2018
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.12.2017
Anhängig
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26.07.2018
Generating predicted data for control or monitoring of a production process
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2017
Anhängig
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26.07.2018
Knowledge recommendation for defect review
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.01.2018
Anhängig
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26.07.2018
Defect pattern grouping method and system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.01.2018
Anhängig
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26.07.2018
Defect displaying method
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 18.01.2018
Anhängig
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26.07.2018
Cascade Defect Inspection
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 18.01.2018
Anhängig
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25.07.2018
Substrattisch, Lithographievorrichtung, Inspektionsgerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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25.07.2018
Erzeugung von Vorhersagedaten zur Regelung oder Überwachung eines Produktionsprozesses
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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19.07.2018
Reducing Speckle in an Excimer Light Source
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.12.2017
Anhängig
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18.07.2018
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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18.07.2018
Substrathandhabungssystem und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.03.2015
Erteilt am 18.07.2018
Vertretung
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
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12.07.2018
Reducing an Optical Power Of A Reflected Light Beam
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.12.2017
Anhängig
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12.07.2018
Guiding device and associated system
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 05.01.2018
Anhängig
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05.07.2018
Methods of determining scattering of radiation by structures of finite thicknesses on a patterning device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2017
Anhängig
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05.07.2018
Methods of guiding process models and inspection in a manufacturing process
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2017
Anhängig
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05.07.2018
Lithographic process&apparatus and inspection process and apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.11.2017
Anhängig
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05.07.2018
Simulation-assisted alignment between metrology image and design
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2017
Anhängig
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05.07.2018
Metrology tool and method of using the same
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2017
Anhängig
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05.07.2018
Multi-image particle detection system and method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2017
Anhängig
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04.07.2018
Reflektor für Streifenden Einfall, Lithographiegerät, Verfahren zur Herstellung eines Reflektors für Streifenden Einfall und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 18.01.2012
Erteilt am 04.07.2018
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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04.07.2018
Lithographische Vorrichtung, Verfahren zur Übertragung eines Substrats und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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04.07.2018
Lithographisches Verfahren und Vorrichtung sowie Prüfverfahren und Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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28.06.2018
Metrology sensor, lithographic apparatus and method for manufacturing devices
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2017
Anhängig
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28.06.2018
Method and apparatus for pattern fidelity control
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2017
Anhängig
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28.06.2018
Charged particle beam inspection of ungrounded samples
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 04.12.2017
Anhängig
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27.06.2018
Niveausensor für ein lithografisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.02.2010
Erteilt am 27.06.2018
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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27.06.2018
Positionskalibrierung von Ausrichtungsköpfen in einem Mehrfach-Kopf-Ausrichtungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.07.2010
Erteilt am 27.06.2018
Vertretung
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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27.06.2018
Verfahren zum Optimierung eines Lithografischen Verfahrens
Optik & Fototechnik
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27.06.2018
Verfahren zur Bestimmung einer Position eines Merkmals
Optik & Fototechnik
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21.06.2018
Lithography apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
An optical device and associated systems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Radiation source apparatus and method, lithographic apparatus and inspection apparatus
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 22.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Method of measuring a structure, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Methods and apparatus for calculating electromagnetic scattering properties of a structure and for reconstruction of approximate structures
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Method for monitoring a characteristic of illumination from a metrology apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Method and apparatus for image analysis
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.11.2017
Anhängig
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21.06.2018
Method of measuring a property of a substrate, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.11.2017
Anhängig
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20.06.2018
Verfahren zur Messung einer Struktur, Inspektionsvorrichtung, Lithographiesystem und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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20.06.2018
Verfahren zur Überwachung der Eigenschaft von Beleuchtung aus einer Metrologievorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35