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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
29.03.2012
Euv microlithography projection exposure apparatus with a heat light source
WO2012038239
Optik & Fototechnik
28.03.2012
Katadioptrisches Projektionsobjektiv
EP2189848
Optik & Fototechnik
22.03.2012
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2012034571
Optik & Fototechnik
15.03.2012
Method for operating a projection exposure tool and control apparatus
WO2012031765
Optik & Fototechnik
08.03.2012
Projection exposure apparatus
WO2012028569
Optik & Fototechnik
08.03.2012
Substrat für Spiegel für die Euv-Lithographie
WO2012028613
Optik & Fototechnik
08.03.2012
Optical system for euv projection microlithography
WO2012028303
Optik & Fototechnik
08.03.2012
Verfahren und Vorrichtungen zur Positionsbestimmung
WO2012028389
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
08.03.2012
Messeinheit, Messsystem und Verfahren zum Ermitteln einer Relativposition und Relativorientierung
WO2012028388
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
07.03.2012
Optische Beleuchtungseinheit für die EUV-Mikrolithografie
EP2333611
Optik & Fototechnik
01.03.2012
Multi facet mirror of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2012025132
Optik & Fototechnik
01.03.2012
Optisches Abbildungssystem
WO2012025365
Optik & Fototechnik
01.03.2012
Aberrationskorrigiertes Mikroskop
WO2012025349
Optik & Fototechnik
22.02.2012
Spiegel für den Euv-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie mit einem Solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Mikrolithografie mit einem Solchen Projektionsobjektiv
EP2419769
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
09.02.2012
Microlithographic projection exposure apparatus
WO2012016577
Optik & Fototechnik
08.02.2012
Strahlvorrichtung für geladene Teilchen
EP1808882
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.02.2012
Untersuchungsverfahren und System für Geladene Teilchen
EP1943661
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.02.2012
Abbildungsoptik und Projektionsbelichtungsinstallation für Mikrolitografie mit einer Abbildungsoptik Dieses Typs
EP2414884
Optik & Fototechnik
02.02.2012
Facet mirror device
WO2012013227
Optik & Fototechnik
02.02.2012
Euv exposure apparatus
WO2012013751
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
02.02.2012
Euv exposure apparatus
WO2012013748
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
02.02.2012
Method and apparatus for qualifying optics of a projection exposure tool for microlithography
WO2012013320
Optik & Fototechnik
02.02.2012
Euv exposure apparatus
WO2012013746
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
02.02.2012
Anordnung und Verfahren zur Stossdämpfung in einem Optischen System
WO2012013559
Optik & Fototechnik
19.01.2012
Controllable transmission and phase compensation of transparent material
WO2012009108
Anorganische Chemie & Werkstoffe
18.01.2012
Teilchenstrahl-Raster-Instrument
EP1632980
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Nachrichtentechnik & Telekommunikation
18.01.2012
Optisches Element und Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie
EP2407828
Optik & Fototechnik
05.01.2012
Optical system and multi facet mirror
WO2012000528
Optik & Fototechnik
29.12.2011
Metrology system
WO2011161024
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
29.12.2011
Method and apparatus for analyzing and / or repairing of an euv mask defect
WO2011161243
Optik & Fototechnik
22.12.2011
Vorrichtung und Verfahren für Lokal Aufgelöste Messung einer Strahlungsverteilung durch eine Lithografiemaske
WO2011157407
Optik & Fototechnik
15.12.2011
Illumination optical system for euv projection lithography
WO2011154244
Optik & Fototechnik
08.12.2011
Substrate for optical elements
WO2011151381
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
24.11.2011
Illumination optics for a metrology system for examining an object using euv illumination light and metrology system comprising an illumination optics of this type
WO2011144389
Optik & Fototechnik
17.11.2011
Process of operating a lithographic system comprising a manipulation of an optical element of the lithographic system
WO2011141046
Optik & Fototechnik
17.11.2011
Okularsystem sowie Anzeigesystem mit einem Solchen Okularsystem
WO2011141284
Optik & Fototechnik
10.11.2011
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2011137917
Optik & Fototechnik
10.11.2011
Euv Collector
WO2011138259
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
10.11.2011
Substrates for mirrors for euv lithography and their production
WO2011138340
Anorganische Chemie & Werkstoffe
02.11.2011
Beleuchtungsmethode
EP2238513
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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