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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
26.07.2012
Method of operating a projection exposure tool
WO2012097833
Optik & Fototechnik
18.07.2012
Optisches Element mit Geringer Oberflächenprofildeformation
EP2476026
Optik & Fototechnik
11.07.2012
Beleuchtungssystem eines mikrolithographischen Projektionsbelichtungsgeräts
EP2317386
Optik & Fototechnik
05.07.2012
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2012089224
Optik & Fototechnik
04.07.2012
Messmodul für Lasersystem
EP2470939
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
28.06.2012
Arrangement For Mounting an Optical Element
WO2012084675
Optik & Fototechnik
27.06.2012
Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsverfahren und Verwendung eines Projektionsobjektivs
EP1855160
Optik & Fototechnik
27.06.2012
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP2041625
Optik & Fototechnik
27.06.2012
Teilchenoptische Komponente
EP2211368
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.06.2012
Substrate und Spiegel für Euv-Mikrolithografie und Herstellungsverfahren dafür
EP2467756
Optik & Fototechnik
21.06.2012
Verfahren zur Maskeninspektion sowie Maskeninspektionsanlage
WO2012079723
Optik & Fototechnik
14.06.2012
Method for measuring an optical system
WO2012076335
Optik & Fototechnik
14.06.2012
Illumination optical system for projection lithography
WO2012076454
Optik & Fototechnik
14.06.2012
Euv lithography system
WO2012076188
Optik & Fototechnik
13.06.2012
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP2126636
Optik & Fototechnik
07.06.2012
Method of determining a border of an intensity distribution
WO2012072090
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
31.05.2012
Method and arrangement for determining the heating condition of a mirror in an optical system
WO2012069351
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
30.05.2012
Abbildungseinrichtung in einer Projektionsbelichtungsanlage
EP1456891
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.05.2012
Spiegel für Euv-Wellenlängenbereich, Schutzobjektiv für Mikrolithografie mit Derartigem Spiegel und Projektionsbelichtungsgerät für Mikrolithografie mit einem Derartigen Projektionsobjektiv
EP2452229
Optik & Fototechnik
02.05.2012
Optisches Bildgebungssystem zur Abbildung eines Objektfeldes in einem Bildfeld und Optisches Beleuchtungssystem zur Beleuchtung eines Objektfeldes
EP2446313
Optik & Fototechnik
02.05.2012
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik
EP2447753
Optik & Fototechnik
25.04.2012
Projektionsobjektiv mit Einheitsvergrösserung
EP1912098
Optik & Fototechnik
25.04.2012
Optische Elementeinheit und Verfahren zum Stützen eines optischen Elements
EP2444829
Optik & Fototechnik
18.04.2012
Beleuchtungssystem einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP2115522
Optik & Fototechnik
18.04.2012
Verfahren zur Verbesserung von Bildgebungseigenschaften eines Optischen Systems und Optisches System
EP2126635
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Projection exposure system and projection exposure method
WO2012041341
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Projektionsbelichtungsanlage mit Optimierter Justagemöglichkeit
WO2012041589
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Projection exposure apparatus for euv microlithography and method for microlithographic exposure
WO2012041720
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Baugruppe einer Projektionsbelichtungsanlage für die Euv-Lithographie
WO2012041701
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure
WO2012041461
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Imaging optical system for microlithography
WO2012041459
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic imaging
WO2012041457
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Projection exposure tool for microlithography and method for microlithographic exposure
WO2012041458
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Arrangement for mirror temperature measurement and/or thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus
WO2012041744
Optik & Fototechnik
05.04.2012
Systems for aligning an optical element and method therefor
WO2012041462
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
04.04.2012
Optisches Abbildungssystem, insbesondere Katadioptrisches Reduktionsobjektiv
EP1532490
Optik & Fototechnik
04.04.2012
Projektionssystem mit einem polarisationsmodulierenden optischen Element mit variabler Dicke
EP1716457
Optik & Fototechnik
04.04.2012
Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
EP2100190
Optik & Fototechnik
04.04.2012
Verfahren zur Inspektion geladener Teilchen und geladenes Teilchensystem
EP2267752
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.03.2012
Beleuchtungsoptik mit einem Beweglichen Filterelement
WO2012038112
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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