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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
27.10.2011
Imaging optics, and a projection exposure apparatus for microlithography having such an imaging optics
WO2011131289
Optik & Fototechnik
19.10.2011
Beleuchtungssystem mit Zoomobjetiv
EP1845417
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.10.2011
Mikrolithographie-Projektionssystem mit einer zugänglichen Aperturblende
EP2192446
Optik & Fototechnik
06.10.2011
Method for operating a projection exposure apparatus with correction of imaging aberrations induced by the mask
WO2011120821
Optik & Fototechnik
05.10.2011
Projektionsbelichtungsanlage
EP1186956
Optik & Fototechnik
05.10.2011
Optische Anordnung zum Berührungslosen Messen oder Prüfen einer Körperoberfläche
EP2370780
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
29.09.2011
Optical system, exposure apparatus, and waverfront correction method
WO2011116792
Optik & Fototechnik
28.09.2011
Teilchenoptische Anordnung mit teilchenoptischer Komponente
EP1941528
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.09.2011
Optischer Integrator für eine Beleuchtungssystem einer Mikrolithographie-Projektions-Belichtungsvorrichtung
EP1984788
Optik & Fototechnik
14.09.2011
Verbesserungen in einem Teilchendetektor
EP1367630
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.09.2011
Verfahren zur Untersuchung eines Wafers Hinsichtlich eines Kontaminationslimits und Euv-Projektionsbelichtungssystem
EP2171541
Optik & Fototechnik
07.09.2011
Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit hoher Transmission und hoher Apertur sowie Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP2177934
Optik & Fototechnik
01.09.2011
Method for stress-adjusted operation of a projection exposure system and corresponding projection exposure system
WO2011104389
Optik & Fototechnik
25.08.2011
Illumination system and projection objective of a mask inspection apparatus
WO2011101331
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.08.2011
Projektionsobjektiv für eine Projektionsbelichtungsanlage
EP2341391
Optik & Fototechnik
11.08.2011
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2011095209
Optik & Fototechnik
04.08.2011
Facettenspiegel zum Einsatz in der Mikrolithografie
WO2011091900
Optik & Fototechnik
04.08.2011
Arrangement for and method of characterising the polarisation properties of an optical system
WO2011091891
Optik & Fototechnik
04.08.2011
Arrangement for use in a projection exposure tool for microlithography having a reflective optical element
WO2011092020
Optik & Fototechnik
14.07.2011
Optisches Element mit einer Mehrzahl von Reflektiven Facettenelementen
WO2011082872
Optik & Fototechnik
13.07.2011
Objektiv mit wenigstens einem optischen Element
EP1577693
Optik & Fototechnik
13.07.2011
Reflektives Optisches Element
EP2342601
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
06.07.2011
Beleuchtungssystem für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
EP1621930
Optik & Fototechnik
30.06.2011
Spiegelelemente für Euv-Lithografie und Herstellungsverfahren dafür
WO2011076527
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
22.06.2011
Lithographiegerät mit einem Mo/Si Mehrfachschichtenspiegel mit einer Schutzschicht
EP1394815
Elektrische Energietechnik
22.06.2011
Beleuchtungssystem eines mikrolithographischen Projektionsbelichtungsgeräts
EP2202580
Optik & Fototechnik
16.06.2011
Euv light source for an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2011069881
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
03.06.2011
Optical arrangement for homogenizing a laser pulse
WO2011064059
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.06.2011
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP1716458
Optik & Fototechnik
25.05.2011
Abbildungssystem, insbesondere Projektionsobjektiv einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP1913445
Optik & Fototechnik
11.05.2011
Projektionsobjektiv einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP1716455
Optik & Fototechnik
05.05.2011
Catadioptric projection objective comprising a reflective optical component and a measuring device
WO2011051069
Optik & Fototechnik
04.05.2011
Beleuchtungsvorrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einem optischen Element aus einem uniaxialen Kristall mit mehreren parallel oder senkrecht zur Kristallachse angeordneten refraktiven oder diffraktiven Strukturen
EP1835312
Optik & Fototechnik
20.04.2011
Optische Vorrichtung mit Korrigiertem Bzw. Verbessertem Abbildungsverhalten
EP2044487
Optik & Fototechnik
13.04.2011
Projektionsobjektive mit Spiegelelementen mit Reflexbeschichtungen
EP1930772
Optik & Fototechnik
13.04.2011
Optische Abbildungsvorrichtung, insbesondere Objektiv, mit wenigstens einer Systemblende
EP2090920
Optik & Fototechnik
07.04.2011
Catadioptric projection objective comprising deflection mirrors and projection exposure method
WO2011038840
Optik & Fototechnik
07.04.2011
Illumination system for microlithography
WO2011039261
Optik & Fototechnik
07.04.2011
Optical System, in Particular in A Microlithographic Projection Exposure Apparatus
WO2011039036
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
07.04.2011
Optical Arrangement in A Microlithographic Projection Exposure Apparatus
WO2011039103
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

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Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
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40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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