Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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14.08.2003
Spiegelfacette F R einen Facettenspiegel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.01.2003
Anhängig
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13.08.2003
Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes, z.B. einer Linse in einem Objektiv
Optik & Fototechnik
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06.08.2003
Optisches Element zur Bildung eines bogenförmigen Beleuchtungsfeldes
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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16.07.2003
8-Spiegel-Mikrolithographie-Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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26.06.2003
Katadioptisches Reduktionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.12.2002
Anhängig
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25.06.2003
Belichtungsgerät, insbesondere für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.09.2001
Anhängig
Vertretung
Dr. Weitzel & Partner · Heidenheim
Carl Zeiss AG - Patentabteilung · Oberkochen
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25.06.2003
Beleuchtungssystem insbesondere für Mikrolithographie
Elektrische Energietechnik
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25.06.2003
Beleuchtungssystem insbesondere für Mikrolithograpie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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25.06.2003
Beleuchtungssystem insbesondere für Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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19.06.2003
Spiegelfacette und Facettenspiegel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2002
Anhängig
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11.06.2003
Reflexionsminderungsbeschichtung für Ultraviolettlicht
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.12.2001
Anhängig
Vertretung
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05.06.2003
Verfahren zum Bestimmen von mindestens einer Kenngrösse, die für die Belauchtungswinkelverteilung einer der Beleuchtung eines Gegenstandes Dienenden Lichtquelle einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2002
Anhängig
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19.03.2003
Vorrichtung und Verfahren zur deformationsarmen Lagerung des optischen Elementes
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.11.2000
Anhängig
Vertretung
Lorenz, Werner · Heidenheim
Lorenz, Werner · Heidenheim
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27.02.2003
Optische Anordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2002
Anhängig
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27.02.2003
Vorrichtung zur Justage eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.08.2002
Anhängig
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13.02.2003
Objektiv, insbesondere Projektionsobjectiv für die Halbleiter-Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.07.2002
Anhängig
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13.02.2003
System zum Vermessen eines Optischen Systems, insbesondere eines Objektives
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.07.2002
Anhängig
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12.12.2002
Reflecting device for electromagnetic waves
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.05.2002
Anhängig
Vertretung
Lorenz, Werner · Heidenheim
Lorenz, Werner · Heidenheim
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04.12.2002
Verfahren zur Absolutkalibrierung eines Interferometers
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2002
Anhängig
Vertretung
Lorenz, Werner · Heidenheim
Lorenz, Werner · Heidenheim
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11.09.2002
Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines Beleuchtungssystems
Optik & Fototechnik
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14.08.2002
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Messung von Wellenfront-Aberrationen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2002
Anhängig
Vertretung
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10.07.2002
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung optischer Elemente
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2001
Anhängig
Vertretung
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03.07.2002
Mehrspiegelsystem für Beleuchtungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.07.2000
Anhängig
Vertretung
Dr. Weitzel & Partner · Heidenheim
Carl Zeiss AG - Patentabteilung · Oberkochen
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20.06.2002
Maskenhalter und Verfahren zum Beschichten von Substraten
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2001
Anhängig
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12.06.2002
Verfahren und Vorrichtung zur In-situ-Dekontamination eines EUV-Lithographiegerätes
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2001
Anhängig
Vertretung
Werner, Anne-Estelle · Münster
Fuchs Mehler Weiss & Fritzsche · Wiesbaden
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06.06.2002
Catadioptric projection system for 157 nm lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2001
Anhängig
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24.04.2002
8-Spiegel-Mikrolithographie-Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.07.2001
Anhängig
Vertretung
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16.08.2001
Optisches Projektionslinsensystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.09.2000
Anhängig
Vertretung
Müller-Rissmann, Werner Albrecht, Dr · Oberkochen
Schultz, Jörg Martin · Oberkochen
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28.03.2001
Verstellbare Baugruppe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2000
Anhängig
Vertretung
Lorenz, Werner · Heidenheim
Lorenz, Werner · Heidenheim
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
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