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Soitec Patente

🇫🇷 Frankreich

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

801
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

801 gesamt
Patent
05.09.2007
Verfahren zur Behandlung der Oberfläche eines Wafers
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.09.2007
Verfahren zum Transfer einer Schaltung zu einer Masseverbindungsebene
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.08.2007
Verfahren zur Übertragung einer auf einem Substrat mit Kristallverursachten Teilchen (COPs) ausgebildeten dünnen Schicht.
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.08.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Halbleiterplatten
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
25.07.2007
Verfahren zur Herstellung eines Verbundsubstrats mit verbesserten elektrischen Eigenschaften
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.07.2007
Verfahren zur Herstellung eines Verbundsubstrats
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.06.2007
Dünnschicht-Transferverfahren, Wobei ein Coimplantierungsschritt Gemäss Bedingungen zur Vermeidung der Blasenbildung und Begrenzung der Rauhigkeit Durchgeführt Wird
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.06.2007
Verfahren zum Erhalten einer Dünnen Schicht durch Implemenieren von Coimplantation und Nachfolgender Implantation
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.12.2006
Präparieren einer Oberfläche eines Halbleiterwafers für das Bonden mit einem Anderen Wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.11.2006
Wärmebehandlung nach Smart-Cut-Trennung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.11.2006
Behandlungsmethode und Vorrichtung für die Aktive Schicht einer Mehlagenstruktur
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.11.2006
Verfahren zur Verbesserung der Qualität einer Genommenen Dünnen Schicht
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.10.2006
Behandlung von Halbleiter-Wafern
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.10.2006
Verfahren zur Herstellung eines Freigabesubstrats
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.08.2006
Oberflächenbehandlung für Mehrschichtige Wafer, die aus aus Halbleitermaterialien Ausgewählten Materialschichten gebildet Werden
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.07.2006
Verfahren zur Herstellung von Substraten für Optoelektronischen Anwendungen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.06.2006
Indirekte Bondierung mit Verschwinden der Bondierungsschicht
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.06.2006
Prozess zur Herstellung einer aus Halbleitenden Materialien Gefertigten Mehrschichtstruktur
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.05.2006
Mehrzweck-Metallabdichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.05.2006
Verfahren zur Herstellung von Dünnen Schichten aus Halbleitermaterial aus einem Doppelseitigen Spender-Wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.05.2006
Verfahren zum Ablösen einer Halbeiterschicht
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.05.2006
Verfahren zum Erhalten einer Qualitativ Hochwertigen Dünnschicht durch Coimplantation und Thermisches Ausheizen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.04.2006
Substratanordnung für verspannte Systeme
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.03.2006
Verbessertes Erhitzungsverfahren zur Stabilisation
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.03.2006
Verfahren zur Gleichzeitigen Herstellung eines mit einer Nutzschicht Bedeckten Substratpaars.
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.03.2006
Substrat für Verspannte Systeme und Verfahren des Kristallwachstums auf einem Solchen Substrat
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.02.2006
Verfahren zur Wärmevorbehandlung zweier zu Bondender Scheiben.
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.01.2006
Verfahren zur Herstellung einer Hableiterstruktur auf einem Substrat
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.12.2005
Verfahren zur Herstellung von Substraten oder Bauelementen auf Substraten mittels Übertragung einer Nützlichen Schicht für Mikroelektronik, Optoelektronik oder Optik.
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.12.2005
Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterwafers
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.11.2005
Spannungsentlastung einer Dünnschicht nach Ihrem Transfer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.11.2005
Relaxation einer Dünnschicht bei einer Hohen Temperatur nach Ihrem Transfer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.11.2005
Verfahren zur Herstellung einer Heterogenen struktur und eine damit erzeugte Struktur
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.09.2005
Herstellungsverfahren eines Substrates
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.08.2005
Herstellungsverfahren für Mehrschichtenstruktur
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.06.2005
Herstellungsverfahren eines Sicoi-Substrats mit einem Epitaxieschritt
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.06.2005
Bildung einer Spannungsfreien Nutzschicht von einer Halbleiterscheibe ohne Pufferschicht
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.05.2005
Mechanische Wiederverwertung einer Halbleiterscheibe, die eine Pufferschicht Enthält, nach der Entfernung einer Dünnen Schicht Daher
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.02.2005
Verfahren zur Herstellung von Substrate mit Lösbarem Temporärem Träger und Zugehöriges Substrat
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2004
Verfahren zur Herstellung von Trennbaren Halbleiter-Zusammensetzungen, zur Herstellung von Substraten für Elektronische, Optoelektronische und Optische Anwendungen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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