Tokyo Electron Patente
🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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6.250 gesamt| Patent | |||
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15.12.2005
Pressure Control And Plasma Confinement in A Plasma Processing Chamber
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.03.2005
Anhängig
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15.12.2005
Plasma Cvd Equipment
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.05.2005
Anhängig
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15.12.2005
Gas treating device and film forming device
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.06.2005
Anhängig
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14.12.2005
Befestigungsmechanismus für Testsondenkarte
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 29.10.2003
Anhängig
Vertretung
Gleiss, Alf-Olav · Stuttgart
Gleiss, Alf-Olav · Stuttgart
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14.12.2005
Halbleiterverarbeitungsverfahren zur Verarbeitung eines zu Verarbeitenden Substrats und Vorrichtung dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik
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14.12.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Thermischen Isolierung von Benachbarten, Temperaturkontrollierten Behandlungskammern
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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08.12.2005
Liquid treatment system and liquid treatment method
Verfahrens- & Trenntechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 31.03.2005
Anhängig
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08.12.2005
Substrate processing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.05.2005
Anhängig
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07.12.2005
Prüfanordnung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 15.10.2003
Anhängig
Vertretung
Gleiss, Alf-Olav · Stuttgart
Gleiss, Alf-Olav · Stuttgart
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07.12.2005
Verfahren zur Automatischen Konfiguration einer Prozessanlage
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.12.2005
Method and device for measuring whether a process kit part meets a prescribed tolerance
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 27.01.2005
Anhängig
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01.12.2005
Laminated board and probe card
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.05.2005
Anhängig
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30.11.2005
Inline-Verbindungseinrichtverfahren und Einrichtung und Substratverarbeitungseinrichtung und Substratverarbeitungssystem
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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24.11.2005
Method and system of dry cleaning a processing chamber
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.02.2005
Anhängig
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24.11.2005
Development apparatus and development method
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.05.2005
Anhängig
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23.11.2005
Beschleunigungssensor und Neigungserfassungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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23.11.2005
Substratverarbeitungsverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.11.2005
Method for processing substrate and apparatus for processing substrate
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.04.2005
Anhängig
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17.11.2005
Exhaust gas collection device
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.05.2005
Anhängig
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17.11.2005
Substrate for electronic device and method for processing same
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.05.2005
Anhängig
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10.11.2005
Vacuum treatment device
Verpackungs- & Fördertechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 12.04.2005
Anhängig
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10.11.2005
Method and apparatus for temperature control
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.02.2005
Anhängig
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09.11.2005
Inspektionsverfahren und -vorrichtung durch Sinterung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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09.11.2005
Element einer Plasmabehandlungsvorrichtung, Element einer Behandlungsvorrichtung, Vorrichtung zur Plasmabehandlung, Behandlungsvorrichtung und Verfahren zur Plasmabehandlung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.11.2005
Ferroelektrischer Film, Halbleiterbauelement, Herstellungsverfahren für einen Ferroelektrischen Film und Herstellungsvorrichtung für einen Ferroelektrischen Film
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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03.11.2005
Method and processing system for plasma-enhanced cleaning of system components
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.01.2005
Anhängig
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03.11.2005
Wafer Heater Assembly
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
System and method of removing chamber residues from a plasma processing system in a dry cleaning process
Verfahrens- & Trenntechnik
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Angemeldet am 28.01.2005
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03.11.2005
Method and system for fastening components used in plasma processing
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Angemeldet am 27.01.2005
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03.11.2005
A method for processing a substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2005
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03.11.2005
Low Reflection Microwave Window
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
A method of forming a tantalum-containing gate electrode structure
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.02.2005
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03.11.2005
Method for extending time between chamber cleaning processes
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.01.2005
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03.11.2005
Honeycomb optical window deposition shield and method for a plasma processing system
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.01.2005
Anhängig
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03.11.2005
Method of improving the wafer to wafer uniformity and defectivity of a deposited dielectric film
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
Ionized Physical Vapor Deposition (ipvd) Process
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
Method and system for performing atomic layer deposition
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 03.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
Method of controlling trimming of a gate elecrode structure
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
Substrate processing method and substrate processing apparatus
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.04.2005
Anhängig
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02.11.2005
Verfahren und Vorrichtung zum Verwenden einer Beschichtung Zumerweiterten Halten eines Halbleitersubstrats Während Hochdruckverarbeitung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Wer vertritt Tokyo Electron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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