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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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6.250 gesamt
Patent
02.11.2005
Filmherstellungsverfahren und Vorrichtung unter Verwendung von Plasma-Cvd
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2005
Cvd-Verfahren zur Ausbildung eines Siliziumnitridfilms auf einem Zielsubstrat
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.10.2005
Substrate processing equipment and substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.10.2005
Rinse treatment method and development process method
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.10.2005
Processing equipment for object to be processed
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.10.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabeschichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
Equipment and method for processing semiconductor
Verpackungs- & Fördertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
20.10.2005
Substrate processing equipment, substrate processing method, recording medium and software
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
Substrate loading table and heat treating apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2005
Method for forming ti film and tin film, contact structure, computer readable storing medium and computer program
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.10.2005
Silizium-Germanium-Obrflächenschicht für die Integration von Dielektrika mit Hohem K
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.10.2005
Silicon-germanium thin layer semiconductor structure with variable silicon-germanium composition and method of fabrication
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.10.2005
Magnetically enhanced capacitive plasma source for ionized physical vapour deposition - ipvd
Metallurgie & Oberflächentechnik
13.10.2005
Method and apparatus for forming metal silicate film, and method for manufacturing semiconductor device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.10.2005
Flusssteuerverfahren zur Fluidclusterung und Flusssteuereinrichtung zur Fluidclusterung
Steuerungs- & Regelungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.10.2005
Replacing Chamber Components in A Vacuum Environment
Metallurgie & Oberflächentechnik
06.10.2005
Method and system for treating a hard mask to improve etch characteristics
05.10.2005
Ein Verfahren und eine Vorrichtung um ein Materialherstellungssystem zu Überwachen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.09.2005
Method for detecting transfer shift of transfer mechanism and semiconductor processing equipment
Verpackungs- & Fördertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.09.2005
Waferbearbeitungssystem
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.09.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung eines Plasmas in einem Materialbearbeitungssystem
Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.09.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Berwachung Einesmaterialverarbeitungssystems
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.09.2005
Verfahren Undvorrichtung zur Überwachung von Teilen in einem Materialverarbeitungssystem
Steuerungs- & Regelungstechnik Software & Datenverarbeitung
28.09.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Berwachungeines Materialverarbeitungssystems
Software & Datenverarbeitung
22.09.2005
Distributor and distributing method, plasma processing system and method, and process for fabricating lcd
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.09.2005
Beschichtungsvorrichtung und Herstellungsverfahren für Beschichtungsfilm
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
15.09.2005
Mechanism and method for supplying liquid, and apparatus and method for developing treatment
Verfahrens- & Trenntechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
15.09.2005
Film forming method
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.09.2005
Hochdruckverarbeitungskammer für ein Halbleitersubstrat mit Strömungsverbesserungsmerkmalen
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.09.2005
Method for manufacturing semiconductor device and plasma oxidation method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.09.2005
Semiconductor treating device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.09.2005
Production method for semiconductor device and semiconductor device
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.09.2005
Method for separating resist film and rework process
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.09.2005
Method for cleaning treatment chamber in substrate treating apparatus and method for detecting endpoint of cleaning
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.08.2005
System und Verfahren zur Plasmaverarbeitung und Elektrodenplatte für Plasmaverarbeitungssystem
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.08.2005
Plasma processing apparatus and plasma processing method
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.08.2005
Method and apparatus for determining chemistry of part's residual contamination
Software & Datenverarbeitung
18.08.2005
Structure comprising amorphous carbon film and method of forming thereof
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.08.2005
Method and system for monitoring component consumption
Software & Datenverarbeitung
18.08.2005
Substrate holder having a fluid gap and method of fabricating the substrate holder

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