Versum Materials US Patente
🇺🇸 USA
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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393 gesamt| Patent | |||
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05.12.2018
Verfahren zur Herstellung Kohlenstoffdotierter Siliciumhaltiger Filme
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.02.2016
Erteilt am 05.12.2018
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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21.11.2018
System und Verfahren zur Rückgewinnung von Xenon
Verfahrens- & Trenntechnik
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 03.10.2014
Erteilt am 21.11.2018
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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31.10.2018
Zusammensetzungen und Verfahren mit Verwendung davon zur Abscheidung von Siliciumhaltigem Film
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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24.10.2018
Verfahren zur Herstellung von Siliziumoxidschichten aus Organoaminosilanvorläuferverbindungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.05.2007
Erteilt am 24.10.2018
Vertretung
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24.10.2018
Verfahren zur Herstellung von Siliziumoxidschichten aus Organoaminosilanvorläuferverbindungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.05.2007
Erteilt am 24.10.2018
Vertretung
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17.10.2018
Organoaminofunktionalisierte Lineare und Cyclische Oligosiloxane zur Abscheidung von Siliciumhaltigen Filmen
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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04.10.2018
Heating jacket and method of making heating jacket
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 27.03.2018
Anhängig
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26.09.2018
Lösungsmittelfreie wässrige Polyurethan-Dispersionen und Verfahren zur Herstellung und Verwendung davon
Kunststoff- & Polymertechnik
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 14.12.2010
Erteilt am 26.09.2018
Vertretung
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19.09.2018
Vorläufer für GST-Filme in ALD/CVD-Verfahren
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 13.08.2013
Erteilt am 19.09.2018
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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05.09.2018
Zusammensetzungen und Verfahren mit Verwendung davon zur Abscheidung von Siliciumhaltigem Film
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.10.2015
Erteilt am 05.09.2018
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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05.09.2018
Kümpelverringerung Beim Chemisch-Mechanischen Polieren von Wolfram
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 12.02.2016
Erteilt am 05.09.2018
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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29.08.2018
Verfahren zur Herstellung von Siliziumoxidschichten aus Organoaminosilanvorläuferverbindungen
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.05.2007
Erteilt am 29.08.2018
Vertretung
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29.08.2018
Chemisch-Mechanische Planarisierung von Folien mit Elementarem Silicium
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.02.2018
Anhängig
Vertretung
Merck Patent Association · Darmstadt
Beck Greener · London
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08.08.2018
Alkyl-Alkoxysilacyclische Verbindungen und Verfahren zur Ablagerung von Filmen damit
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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23.05.2018
Verfahren zum Herstellen von siliziumhaltigen dielektrischen Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 15.03.2010
Erteilt am 23.05.2018
Vertretung
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16.05.2018
Spritzschutz und Einlaufdiffusor für ein Rührgefäß mit hohem Vakuum und hohem Durchfluss
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2007
Erteilt am 16.05.2018
Vertretung
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16.05.2018
Vorläufer für Gst-Filme in Ald/cvd-Verfahren
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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02.05.2018
Disubstituierte Alkin-Dicobalt-Hexacarbonyl-Verbindungen, Verfahren zur Herstellung und Verfahren zur Verwendung davon
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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18.04.2018
Kupferkorrosionshemmungssystem
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.07.2015
Erteilt am 18.04.2018
Vertretung
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04.04.2018
Flüchtige Monoamino-dialkoxysilane und deren Verwendung zur Herstellung von Silizium-haltigen Filmen
Organische Chemie
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
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Status
Angemeldet am 25.01.2013
Erteilt am 04.04.2018
Vertretung
Zusammenfassung
Alkoxyaminosilane compounds having formula I, and processes and compositions for depositing a silicon-containing film, are described herein: (R<1>R<2>)NSiR<3>OR<4>OR<5> Formula (I) wherein R<1>is independently selected from a linear or branched C<1>to C<10>alkyl group; a C<2>to C<12>alkenyl group; a C<2>to C<12>alkynyl group; a C<4>to C<10>cyclic alkyl group; and a C<6>to C<10>aryl group; R<2>and R<3>are each independently selected from hydrogen; a linear or branched C<1>to C<10>alkyl group; a C<3>to C<12>alkenyl group, a C<3>to C<12>alkynyl group, a C<4>to C<10>cyclic alkyl group, and a C<6>to C<10>aryl group; and R<4>and R<5>are each independently selected from a linear or branched C<1>to C<10>alkyl group; a C<2>to C<12>alkenyl group; a C<2>to C<12>alkynyl group; a C<4>to C<10>cyclic alkyl group; and a C<6>to C<10>aryl group. |
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28.03.2018
Abscheidung einer dielektrischen Sperre mittels stickstoffhaltigem Vorläufer
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.05.2010
Erteilt am 28.03.2018
Vertretung
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28.03.2018
Verfahren zur Ablagerung von Filmen durch Alkyl-Alkoxysilacyclische Verbindungen
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 16.06.2015
Erteilt am 28.03.2018
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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21.03.2018
Chemisch-Mechanische Polierzusammensetzung
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.09.2016
Erteilt am 21.03.2018
Vertretung
Beck Greener · London
Beck Greener LLP · London
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14.03.2018
Chemisch-mechanische Polierzusammensetzung mit chemischen Zusatzstoffen und Verfahren zur Verwendung davon
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.05.2013
Erteilt am 14.03.2018
Vertretung
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07.03.2018
Verfahren zur Abscheidung von Siliciumhaltigen Filmen unter Verwendung von Organoaminodisilanvorläufern
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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28.02.2018
Zusammensetzungen und Verfahren zur Ablagerung von Kohlenstoffdotierten Siliciumhaltigen Filmen
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2012
Erteilt am 28.02.2018
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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28.02.2018
Harte Titannitridmaske und Ätzrestentfernung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.07.2015
Erteilt am 28.02.2018
Vertretung
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28.02.2018
Verfahren zur Entfernung von Kohlenstoff aus einem Organosilikatmaterial
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 08.12.2009
Erteilt am 28.02.2018
Vertretung
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21.02.2018
Flüchtige Gruppe 2 Metallvorläufer
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 28.05.2010
Erteilt am 21.02.2018
Vertretung
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24.01.2018
Verfahren zum Entfernen von Kohlenstoff von einem Organosilikatmaterial
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.01.2018
Verfahren zur Ablagerung Poröser Organosilikatglasfilme zur Verwendung als Resistiver Direktzugriffsspeicher
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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27.12.2017
Verfahren und Ausrüstung zum selektiven Auffangen von Prozessabgasen
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 28.01.2011
Erteilt am 27.12.2017
Vertretung
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27.12.2017
Entschichtungsmittel mit Hoher Wn-/w-Ätzselektivität
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.12.2015
Erteilt am 27.12.2017
Vertretung
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20.12.2017
Verfahren zur Ablagerung von Silizium-enthaltenden Schichten mit Organoaminodisilan-Vorläufern
Organische Chemie
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2013
Erteilt am 20.12.2017
Vertretung
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22.11.2017
Doppeldurchflussventil und Behandlungsbehälter mit Innenisolationssystem
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 18.04.2006
Erteilt am 22.11.2017
Vertretung
Kador & Partner Part mbB · München
Kador & Partner · München
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15.11.2017
Ausgabebehälter mit Strömungsverteiler
Metallurgie & Oberflächentechnik
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18.10.2017
Ultraschall-Flüssigkeitsstandmesssysteme
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 13.05.2014
Erteilt am 18.10.2017
Vertretung
Beck Greener LLP · London
Beck Greener · London
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11.10.2017
Elektrochemisches Verfahren und Zelle für die Herstellung von Monogerman
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.09.2011
Erteilt am 11.10.2017
Vertretung
Zusammenfassung
The invention relates to the electrolysis of aqueous electrolyte solutions containing GeO<2>; hydroxide and water with metal alloy electrodes, such as copper or tin rich alloy electrodes with alloying elements such as Sn, Pb, Zn, Cu etc, to generate Germane (GeH<4>). Cu-rich alloy electrodes have been demonstrated to increase the GeH<4> current efficiency by almost 20 % compared to Cu metal electrodes. Germanium deposition has been found to be either absent or minimal by using Cu-rich alloy electrodes. Several different methods for maintaining the cell performance or restoring the cell performance after a reduction in current efficiency over time have been identified. A titration-based method for the analysis of the electrolyte to obtain the concentration of GeO<2> and the concentration of hydroxide is also disclosed. <img class="EMIRef" id="80433273-iaf01" /> |
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11.10.2017
Mechanische Verstärkung von dichten und porösen Organosilikatmaterialien durch UV-Bestrahlung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 02.03.2004
Erteilt am 11.10.2017
Vertretung
Kador & Partner · München
Kador & Partner Part mbB · München
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11.10.2017
Verbesserte Haftung an Kupfer für verbesserten Kupfer-Elektromigrationswiderstand
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 23.03.2009
Erteilt am 11.10.2017
Vertretung
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Wer vertritt Versum Materials US?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Versum Materials US vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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