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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
07.04.2011
Optical Arrangement in an Optical System, in Particular in A Microlithographic Projection Exposure Apparatus
WO2011039093
Maschinenelemente & Fluidtechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
30.03.2011
Verfahren zur Herstellung einer Mehrschichtigen Beschichtung, eines Optisches Elements und einer Optischen Anordnung
EP2300876
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
24.03.2011
Mirror for use in a microlithography projection exposure apparatus
WO2011032813
Optik & Fototechnik
23.03.2011
Kollektor für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge </= 193 Nm
EP1938150
Optik & Fototechnik
23.03.2011
Kalibrierung einer Positionsmesseinrichtung einer Optischen Einrichtung
EP2193404
Optik & Fototechnik
17.03.2011
Optische Anordnung in einer Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Euv-Lithographie
WO2011029761
Optik & Fototechnik
16.03.2011
Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie
EP1649324
Optik & Fototechnik
24.02.2011
Method for producing a mirror having at least two mirror surfaces, mirror of a projection exposure apparatus for microlithography, and projection exposure apparatus
WO2011020690
Optik & Fototechnik
23.02.2011
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1921505
Optik & Fototechnik
23.02.2011
Teilchenoptische Komponente
EP2267755
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.02.2011
Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP1730596
Optik & Fototechnik
03.02.2011
Component of an euv or uv lithography apparatus and method for producing it
WO2011012144
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
03.02.2011
Optical beam deflecting element and method of adjustment
WO2011012148
Optik & Fototechnik
03.02.2011
Holding Arrangement For an Optical Element
WO2011012264
Optik & Fototechnik
03.02.2011
Holding Arrangement For an Optical Element
WO2011012263
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.02.2011
Vergrössernde Abbildende Optik sowie Metrologiesystem mit einer Derartigen Abbildenden Optik
WO2011012267
Optik & Fototechnik
26.01.2011
Filtereinrichtung zur Kompensation einer asymmetrischen Pupillenbeleuchtung
EP2278403
Optik & Fototechnik
26.01.2011
Ladungsträgerteilchenoptische Komponente
EP2270833
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.01.2011
Teilchenoptische Komponente
EP2267753
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.01.2011
Mikrospiegelanordnung mit Beschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung
WO2011006685
Optik & Fototechnik
20.01.2011
Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
WO2011006581
Optik & Fototechnik
20.01.2011
Wabenkondensor, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2011006710
Optik & Fototechnik
05.01.2011
Ladungsträgerteilchenoptische Komponente
EP2267751
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.12.2010
Illumination optical unit with a reflective optical element comprising a measuring device
WO2010149436
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
15.12.2010
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Mikrolithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils
EP1927892
Optik & Fototechnik
25.11.2010
Projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising an optical correction arrangement
WO2010133231
Optik & Fototechnik
17.11.2010
Substratmaterial für Röntgenoptische Komponenten
EP1417159
Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektrische Energietechnik
10.11.2010
Reflektives Roentgenmikroskop zur Untersuchung von Objekten mit Wellenlaengen = 100NM in Reflexion
EP1446813
Elektrische Energietechnik
27.10.2010
Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP1890193
Optik & Fototechnik
14.10.2010
Verfahren zur Kontaminationsvermeidung und Euv-Lithographieanlage
WO2010115526
Optik & Fototechnik
07.10.2010
Abbildungsoptik und Projektionsbelichtungsinstallation zur Mikrolithografie mit Abbildungsoptik Dieses Typs
WO2010112328
Optik & Fototechnik
30.09.2010
Illumination optical system for euv microlithography and euv attenuator for an illumination optical system of this kind, illumination system and projection exposure installation having an illumination optical system of this kind
WO2010108516
Optik & Fototechnik
30.09.2010
Optical Assembly
WO2010108612
Optik & Fototechnik
23.09.2010
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2010105640
Optik & Fototechnik
23.09.2010
Measurement method and measurement system for measuring birefingence
WO2010105757
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16.09.2010
Microlithographic projection exposure apparatus
WO2010102649
Optik & Fototechnik
10.09.2010
Beleuchtungsoptik sowie Optische Systeme für die Mikrolithographie
WO2010099807
Optik & Fototechnik
10.09.2010
Imaging optics and projection exposure installation for microlithography with an imaging optics of this type
WO2010099899
Optik & Fototechnik
26.08.2010
Projection exposure apparatus comprising an actuator system
WO2010094684
Optik & Fototechnik
26.08.2010
Monitoring von Kippbaren Spiegeln
WO2010094658
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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