Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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19.08.2010
Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Derartigen Optischen Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.02.2010
Anhängig
Vertretung
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19.08.2010
Aktuator mit mindestens einem Magneten für eine Projektionsbelichtungsanlage und Herstellungsverfahren Hierfür, sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einem Magneten
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.02.2010
Anhängig
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18.08.2010
Korrektureinrichtung zur Kompensation von Störungen der Polarisationsverteilung sowie Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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18.08.2010
Projektionsbelichtungsverfahren, Projektionsbelichtungssystem und Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2009
Anhängig
Vertretung
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11.08.2010
Transresistanzverstärker für einen Detektor für Geladene Teilchen
Elektronik & Schaltungstechnik
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29.07.2010
Dämpfungsvorrichtung
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.01.2010
Anhängig
Vertretung
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28.07.2010
Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie
Optik & Fototechnik
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22.07.2010
Euv lithography system and cable for the same
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.01.2010
Anhängig
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15.07.2010
Einzelspiegel zum Aufbau eines Facettenspiegels, insbesondere zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.01.2010
Anhängig
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07.07.2010
Optisches Element eines Beleuchtungssystems mit einer Elektrisch Leitfähigen Region
Optik & Fototechnik
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07.07.2010
Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage dafür
Optik & Fototechnik
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17.06.2010
Gravitationskompensation für Optische Elemente in Projektionsbelichtungsanlagen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.12.2009
Anhängig
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16.06.2010
Chromatisch korrigiertes katadioptrisches Objektiv und Projektionsbelichtungsvorrichtung, die dieses enthält
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.12.2008
Anhängig
Vertretung
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26.05.2010
Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie, Projektionsbelichtungsvorrichtung, Projektionsbelichtungsverfahren und Optische Korrekturplatte
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.07.2008
Anhängig
Vertretung
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19.05.2010
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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19.05.2010
Mikrolithographie-Projektionssystem mit einer Zugänglichen Membran- oder Aperturblende
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.03.2006
Erteilt am 19.05.2010
Vertretung
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06.05.2010
Optische Baugruppe zur Führung eines Strahlungsbündels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.10.2009
Anhängig
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06.05.2010
Beleuchtungsoptik für die Euv-Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2009
Anhängig
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05.05.2010
Steuerbares Optisches Element und Verfahren zum Betrieb eines Optischen Elements mit Thermischen Stellgliedern und Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Halbleiterlithografie
Optik & Fototechnik
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22.04.2010
Euv- Lithographievorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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14.04.2010
Kollektor mit Ungenutztem Bereich für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge Kleiner oder Gleich 193 Nm.
Elektrische Energietechnik
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14.04.2010
Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.12.2002
Erteilt am 14.04.2010
Vertretung
Lorenz, Werner · Heidenheim
Lorenz, Werner · Heidenheim
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14.04.2010
Teilchenoptische Komponente
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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08.04.2010
Projection exposure apparatus for microlithography for the production of semiconductor components
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.09.2009
Anhängig
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08.04.2010
Feldfacettenspiegel zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Euv-Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.06.2009
Anhängig
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08.04.2010
Illumination system for euv microlithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.07.2009
Anhängig
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08.04.2010
Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure appratus for euv microlithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.08.2009
Anhängig
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08.04.2010
Stützelemente für ein Optisches Element
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.09.2009
Anhängig
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07.04.2010
Strahlenvorrichtung und Verfahren mit einer Partikelstrahlenvorrichtung und optischem Mikroskop
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.04.2010
Microlithography projection exposure apparatus having at least two operating states
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.08.2009
Anhängig
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01.04.2010
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.09.2009
Anhängig
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01.04.2010
Dielektrischer Spiegel und Verfahren zu dessen Herstellung, sowie eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Solchen Spiegel
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.07.2009
Anhängig
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31.03.2010
Teilchenstrahlinstrument und Verfahren zur Detektion geladener Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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31.03.2010
EUV-Projektionssystem mit sechs Spiegeln
Optik & Fototechnik
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31.03.2010
Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgerätes
Optik & Fototechnik
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25.03.2010
Optical assembly with a temperature -control device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2009
Anhängig
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24.03.2010
Verfahren zur Verringerung einer Laserstrahlabweichung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.09.2008
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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18.03.2010
Imaging optical system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.08.2009
Anhängig
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10.03.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.10.2004
Erteilt am 10.03.2010
Vertretung
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04.03.2010
Detection Of Contaminating Substances in an Euv Lithography Apparatus
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.07.2009
Anhängig
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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