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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
19.08.2010
Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Derartigen Optischen Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
19.08.2010
Aktuator mit mindestens einem Magneten für eine Projektionsbelichtungsanlage und Herstellungsverfahren Hierfür, sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einem Magneten
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.08.2010
Korrektureinrichtung zur Kompensation von Störungen der Polarisationsverteilung sowie Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
18.08.2010
Projektionsbelichtungsverfahren, Projektionsbelichtungssystem und Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
11.08.2010
Transresistanzverstärker für einen Detektor für Geladene Teilchen
Elektronik & Schaltungstechnik
29.07.2010
Dämpfungsvorrichtung
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
28.07.2010
Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie
Optik & Fototechnik
22.07.2010
Euv lithography system and cable for the same
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.07.2010
Einzelspiegel zum Aufbau eines Facettenspiegels, insbesondere zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
Optik & Fototechnik
07.07.2010
Optisches Element eines Beleuchtungssystems mit einer Elektrisch Leitfähigen Region
Optik & Fototechnik
07.07.2010
Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage dafür
Optik & Fototechnik
17.06.2010
Gravitationskompensation für Optische Elemente in Projektionsbelichtungsanlagen
Optik & Fototechnik
16.06.2010
Chromatisch korrigiertes katadioptrisches Objektiv und Projektionsbelichtungsvorrichtung, die dieses enthält
Optik & Fototechnik
26.05.2010
Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie, Projektionsbelichtungsvorrichtung, Projektionsbelichtungsverfahren und Optische Korrekturplatte
Optik & Fototechnik
19.05.2010
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
19.05.2010
Mikrolithographie-Projektionssystem mit einer Zugänglichen Membran- oder Aperturblende
Optik & Fototechnik
06.05.2010
Optische Baugruppe zur Führung eines Strahlungsbündels
Optik & Fototechnik
06.05.2010
Beleuchtungsoptik für die Euv-Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
05.05.2010
Steuerbares Optisches Element und Verfahren zum Betrieb eines Optischen Elements mit Thermischen Stellgliedern und Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Halbleiterlithografie
Optik & Fototechnik
22.04.2010
Euv- Lithographievorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
14.04.2010
Kollektor mit Ungenutztem Bereich für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge Kleiner oder Gleich 193 Nm.
Elektrische Energietechnik
14.04.2010
Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten
Optik & Fototechnik
14.04.2010
Teilchenoptische Komponente
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Projection exposure apparatus for microlithography for the production of semiconductor components
Optik & Fototechnik
08.04.2010
Feldfacettenspiegel zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Euv-Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
08.04.2010
Illumination system for euv microlithography
Optik & Fototechnik
08.04.2010
Field facet mirror for use in an illumination optics of a projection exposure appratus for euv microlithography
Optik & Fototechnik
08.04.2010
Stützelemente für ein Optisches Element
Optik & Fototechnik
07.04.2010
Strahlenvorrichtung und Verfahren mit einer Partikelstrahlenvorrichtung und optischem Mikroskop
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Microlithography projection exposure apparatus having at least two operating states
Optik & Fototechnik
01.04.2010
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
01.04.2010
Dielektrischer Spiegel und Verfahren zu dessen Herstellung, sowie eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Solchen Spiegel
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
31.03.2010
Teilchenstrahlinstrument und Verfahren zur Detektion geladener Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.03.2010
EUV-Projektionssystem mit sechs Spiegeln
Optik & Fototechnik
31.03.2010
Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgerätes
Optik & Fototechnik
25.03.2010
Optical assembly with a temperature -control device
Optik & Fototechnik
24.03.2010
Verfahren zur Verringerung einer Laserstrahlabweichung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.03.2010
Imaging optical system
Optik & Fototechnik
10.03.2010
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
04.03.2010
Detection Of Contaminating Substances in an Euv Lithography Apparatus
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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