ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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11.01.2024
Method of determining a parasitic force of an actuator of an optical component, control method for an actuator, optical system, projection system and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.06.2023
Anhängig
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10.01.2024
Membran und Zugehöriges Verfahren und Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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10.01.2024
Verfahren zur Bestimmung einer Parasitären Kraft eines Aktuators einer Optischen Komponente, Steuerverfahren für einen Aktuator, Optisches System, Projektionssystem und Lithographisches Gerät
Optik & Fototechnik
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10.01.2024
Verfahren zur Korrektur von Metrologiesignaldaten
Optik & Fototechnik
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10.01.2024
Substratrückhaltesystem
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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10.01.2024
Membran für eine Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Verfahrens- & Trenntechnik
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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10.01.2024
Beurteilungsvorrichtung, die eine Vielzahl von Strahlen Geladener Teilchen Verwenden
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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10.01.2024
Substrathalter und Verfahren zur Herstellung eines Substrathalters
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.07.2017
Erteilt am 10.01.2024
Vertretung
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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04.01.2024
Focus measurment and control in metrology and associated wedge arrangement
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.04.2023
Anhängig
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04.01.2024
Material, method and apparatus for forming a patterned layer of 2d material
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.05.2023
Anhängig
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04.01.2024
Freeze Valve in A Target Material Generator
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 31.05.2023
Anhängig
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04.01.2024
Plasma shielding for an electrostatic mems device
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Status
Angemeldet am 23.05.2023
Anhängig
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04.01.2024
Calibration of digital analog converter to control deflectors in charged particle beam system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2023
Anhängig
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03.01.2024
Verfahren zum Verarbeiten von von einer Probe Abgeleiteten Daten
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.01.2024
Fokusmessung und -Steuerung in der Metrologie und Zugehörige Keilanordnung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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03.01.2024
Maschinenlernmodell mit Verwendung eines Zielmusters und Referenzschichtmusters zur Bestimmung der Optischen Näherungskorrektur für eine Maske
Optik & Fototechnik
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03.01.2024
Vorrichtung zur Breitbandstrahlungserzeugung
Optik & Fototechnik
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03.01.2024
Vorrichtung zur Befestigung eines Pellikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2015
Erteilt am 03.01.2024
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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03.01.2024
Maskenanordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2015
Erteilt am 03.01.2024
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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03.01.2024
Neuartige Schnittstellendefinition für Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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28.12.2023
Method and apparatus for determining a physical quantity
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.05.2023
Anhängig
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28.12.2023
Design for multiple off-axis illumination beams for wafer alignment sensor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2023
Anhängig
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28.12.2023
Control method and control system for controlling a position of an object with an electromagnetic actuator
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.05.2023
Anhängig
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27.12.2023
Anordnung zur Trennung von Strahlung im Fernfeld
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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27.12.2023
Verfahren zum Ausrichten eines Beleuchtungsdetektionssystems einer Messvorrichtung und Zugehörige Messvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a method of determining an illumination-detection system alignment of an illumination-detection system describing alignment of at least one detector and/or measurement illumination of a metrology apparatus in terms of two or more illumination-detection system alignment parameters, each illumination-detection system alignment parameter relating to a respective degree of freedom for aligning the detector and/or the measurement illumination. The method comprises obtaining a diffraction pattern relating to diffraction of broadband radiation from a structure; transforming each of one or more diffraction orders of the diffraction pattern to a respective region coordinate system, each region coordinate system comprising a first axis and a second axis, each region coordinate system being such that said first axis is aligned in relation to a direction of an intensity metric of each transformed diffraction order; and determining illumination-detection system alignment parameter values for the illumination-detection system alignment parameters. |
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27.12.2023
Bildgebungsverfahren und Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Zusammenfassung
Disclosed is an imaging method comprising obtaining a set of primary deconvolution kernels or a set of impulse responses relating to an optical system used to capture said image; obtaining said image signal, said image signal being subject to one or more imaging effects including at least one or more non-isoplanatic imaging effects;performing a low-rank approximation on said set of primary deconvolution kernels or impulse responses to determine respectively a set of deconvolution modes or a set of impulse response modes, each deconvolution mode comprising a modal secondary deconvolution kernel and a modal weight function and each impulse response mode comprising a modal impulse response and a modal inverse weight function; obtaining at least approximated imaging effect-free object information related to said object by applying said modal secondary deconvolution kernels and modal weight functions or said modal impulse responses and modal inverse weight functions to said image signal. |
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21.12.2023
Systems and methods of defect detection by voltage contrast imaging
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.05.2023
Anhängig
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21.12.2023
Calibration method and apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.05.2023
Anhängig
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21.12.2023
Method of spatially aligning a patterning device and a substrate
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.05.2023
Anhängig
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21.12.2023
Integrated optical system for scalable and accurate inspection systems
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.06.2023
Anhängig
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20.12.2023
Verfahren zur Räumlichen Ausrichtung einer Strukturierungsvorrichtung und eines Substrats
Optik & Fototechnik
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20.12.2023
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Lithografischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.09.2016
Erteilt am 20.12.2023
Vertretung
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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14.12.2023
Electron-optical device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.06.2023
Anhängig
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14.12.2023
Method and system for reducing charging artifact in inspection image
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 08.05.2023
Anhängig
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14.12.2023
Multi-Wavelength Shadowgraphy For an Euv Radiation Source
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2023
Anhängig
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13.12.2023
Verfahren und System zur Vorhersage von Aberrationen in einem Projektionssystem
Optik & Fototechnik
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13.12.2023
Verfahren zur Herstellung von Photonischen Kristallfasern
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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13.12.2023
System, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Oxidation oder Entfernung von Oxid auf einem Substratträger
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.06.2018
Erteilt am 13.12.2023
Vertretung
Verhoeven, Johannes Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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13.12.2023
Verfahren zur Bestimmung von Kontrollparametern eines Herstellungsverfahrens für Bauelemente
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.08.2018
Erteilt am 13.12.2023
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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13.12.2023
Verfahren und Vorrichtungen zur Räumlichen Filterung von Optischen Impulsen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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