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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
28.10.2015
Immersionsobjektiv
EP1695148
Optik & Fototechnik
22.10.2015
Flows of optimization for lithographic processes
WO2015158444
Optik & Fototechnik
22.10.2015
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2015158487
Optik & Fototechnik
22.10.2015
Lithographic apparatus, method for positioning an object in a lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2015158793
Optik & Fototechnik
21.10.2015
Plasma-Euv-Lichtquelle mit Laserproduziertem Plasma
EP2095693
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektronik & Schaltungstechnik
08.10.2015
Control system, positioning system, lithographic apparatus, control method, device manufacturing method and control program
WO2015150466
Optik & Fototechnik
07.10.2015
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP2264409
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
07.10.2015
Lithografievorrichtung, Substrathaltesystem, Vorrichtungsherstellungsverfahren und Steuerungsprogramm
EP2926198
Optik & Fototechnik
01.10.2015
Housing for an array of densely spaced components and associated manufacturing method
WO2015144370
Optik & Fototechnik
30.09.2015
Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterartikels
EP1783556
Optik & Fototechnik
24.09.2015
Fuel Stream Generator
WO2015139900
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
24.09.2015
Pattern Placement Error Aware Optimization
WO2015139951
Optik & Fototechnik
24.09.2015
Apparatus for and method of active cleaning of euv optic with rf plasma field
WO2015139964
Optik & Fototechnik
17.09.2015
Radiation Source
WO2015135912
Optik & Fototechnik
16.09.2015
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
EP2745174
Optik & Fototechnik
11.09.2015
Lithographic apparatus with data processing apparatus
WO2015131969
Optik & Fototechnik
03.09.2015
Adaptive laser system for an extreme ultraviolet light source
WO2015128297
Elektronik & Schaltungstechnik
02.09.2015
Bestimmung der Position eines Substrats in der Lithografie
EP2912521
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.08.2015
Lithographic system
WO2015124372
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
27.08.2015
Optimization of target arrangement and associated target
WO2015124397
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
27.08.2015
Measuring a process parameter for a manufacturing process involving lithography
WO2015124391
Optik & Fototechnik
27.08.2015
Lithographic apparatus and method
WO2015124457
Optik & Fototechnik
26.08.2015
Sensorsystem für die Lithografie
EP2909677
Optik & Fototechnik
20.08.2015
Method of clamping articles and lithographic apparatus
WO2015120923
Optik & Fototechnik
20.08.2015
Method of determining edge placement error, inspection apparatus, patterning device, substrate and device manufacturing method
WO2015121045
Optik & Fototechnik
19.08.2015
Lithografische Vorrichtung für Verschiebungsmesssysteme
EP1865291
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.08.2015
Euv Optical Element Having Blister-Resistant Multilayer Cap
WO2015117887
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
12.08.2015
Steuerungssystem, lithografisches Projektionsgerät, Verfahren zur Steuerung einer Stützstruktur und Computerprogramm
EP2006740
Optik & Fototechnik
12.08.2015
Optisches EUV-Element mit einer blasenresistenten mehrschichtigen Kappe
EP2905637
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
06.08.2015
Metrology method and apparatus, substrate, lithographic system and device manufacturing method
WO2015113724
Optik & Fototechnik
06.08.2015
Catalytic Conversion Of an Optical Amplifier Gas Medium
WO2015113843
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.07.2015
Method of determining a measurement subset of metrology points on a substrate, associated apparatus and computer program
WO2015110191
Optik & Fototechnik
30.07.2015
Apparatus operable to perform a measurement operation on a substrate, lithographic apparatus, and method of performing a measurement operation on a substrate
WO2015110210
Optik & Fototechnik
30.07.2015
Radiation Source
WO2015110238
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Optik & Fototechnik
30.07.2015
Coil assembly, electromagnetic actuator, stage positioning device, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2015110240
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
30.07.2015
Extreme Ultraviolet Light Source
WO2015110380
Elektronik & Schaltungstechnik
29.07.2015
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1420300
Optik & Fototechnik
23.07.2015
Substrate holder and support table for lithography
WO2015106860
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.07.2015
Support device, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2015106925
Optik & Fototechnik
22.07.2015
Prägelithografie -Gerät und -Verfahren
EP2364462
Optik & Fototechnik

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