ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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31.10.2018
Gashandhabungssystem für eine Euv-Lichtquelle auf der Basis von Lasererzeugtem Plasma
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.08.2008
Erteilt am 31.10.2018
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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31.10.2018
Topografiemesssystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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31.10.2018
Verfahren zur Überwachung und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
Optik & Fototechnik
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31.10.2018
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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31.10.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Optimierung eines Lithographieverfahrens
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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25.10.2018
Method of performance testing a fluid handling structure
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.03.2018
Anhängig
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25.10.2018
Temporal wavelength modulated metrology system, metrology method and lithographic apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.03.2018
Anhängig
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25.10.2018
Support structure, method and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.03.2018
Anhängig
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25.10.2018
Maintaining a set of process fingerprints
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.04.2018
Anhängig
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24.10.2018
Membrananordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2016
Anhängig
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24.10.2018
Membran zur Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2016
Anhängig
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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24.10.2018
Bewahrung eines Satzes von Prozessabdrücken
Optik & Fototechnik
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18.10.2018
Mirror Array
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.03.2018
Anhängig
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18.10.2018
Method of measuring
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.03.2018
Anhängig
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17.10.2018
Herstellungsverfahren für einen Finfet, Finfet und Vorrichtung mit einem Finfet
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.10.2018
Verfahren zur Messung
Optik & Fototechnik
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11.10.2018
Radiation receiving system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.03.2018
Anhängig
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11.10.2018
Lithographic method and apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.03.2018
Anhängig
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11.10.2018
Anti-Reflection Coating
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.03.2018
Anhängig
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10.10.2018
Verfahren zum Entwurf von Metrologiemarken, Substrate mit Metrologiemarken, Überdeckungsmessverfahren und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.08.2014
Erteilt am 10.10.2018
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
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10.10.2018
Vorrichtung mit mehreren Geladenen Teilchenstrahlen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 30.11.2016
Anhängig
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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10.10.2018
Strahlungsempfangssystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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04.10.2018
Optimizing an apparatus for multi-stage processing of product units
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 22.02.2018
Anhängig
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04.10.2018
Apparatus, substrate handler, patterning device handler, damping system and method of manufacturing a damping system
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2018
Anhängig
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03.10.2018
Messsubstrat und Messverfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.11.2016
Anhängig
Vertretung
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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03.10.2018
Optimierung einer Vorrichtung für Mehrstufige Verarbeitung von Produkteinheiten
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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27.09.2018
Methods of modelling systems or performing predictive maintenance of systems, such as lithographic systems and associated lithographic systems
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2018
Anhängig
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27.09.2018
Method of determining pellicle degradation compensation corrections, and associated lithographic apparatus and computer program
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.02.2018
Anhängig
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27.09.2018
Position measurement system, zeroing method, lithographic apparatus and device manufacturing method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.02.2018
Anhängig
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27.09.2018
Lithographic system, euv radiation source, lithographic scanning apparatus and control system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2018
Anhängig
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27.09.2018
Object identification and comparison
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.03.2018
Anhängig
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27.09.2018
Asymmetry monitoring of a structure
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2018
Anhängig
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27.09.2018
Metrology system for an extreme ultraviolet light source
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2018
Anhängig
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27.09.2018
Optical Pulse Generation For an Extreme Ultraviolet Light Source
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.03.2018
Anhängig
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26.09.2018
Lithografische Vorrichtung Eingerichtet zur Bestimmung von Korrekturen zur Kompensierung von Pellikelverschlechterung
Optik & Fototechnik
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26.09.2018
Verfahren zur Modellierung von Lithographischen Systemen zur Durchführung von Prädiktiver Wartung
Steuerungs- & Regelungstechnik
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20.09.2018
Apparatus for delivering gas and illumination source for generating high harmonic radiation
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2018
Anhängig
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20.09.2018
Methods of determining stress in a substrate, control system for controlling a lithographic process, lithographic apparatus and computer program product
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2018
Anhängig
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20.09.2018
Stage system and metrology tool
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2018
Anhängig
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19.09.2018
Verfahren zur Bestimmung der Korrekturen für ein Strukturierungsverfahren, Vorrichtungsherstellungsverfahren, Steuerungssystem für Lithografievorrichtung und Lithografievorrichtung
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35