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KLA Corporation Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
24
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.908 gesamt
Patent
27.02.2019
Frequenzumwandlungssystem mit Hoher Schadensschwelle
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2019
On-device metrology using target decomposition
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2019
Machine Learning in Metrology Measurements
Software & Datenverarbeitung
20.02.2019
Verfahren und System zur Ladungskontrolle zur Bildgebung Schwimmender Metallstrukturen auf Nicht-Leitfähigen Substraten
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.02.2019
Variable Aperture Mask
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.02.2019
Bandgap measurements of patterned film stacks using spectroscopic metrology
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
14.02.2019
Nuisance reduction using location-based attributes
Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.02.2019
Vorrichtung und Verfahren zur Messung von Eigenschaften in einer Tsv-Struktur mit Strahlprofilreflektometrie
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.02.2019
Overlay metrology using multiple parameter configurations
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.02.2019
Overlay metrology using multiple parameter configurations
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.01.2019
Multilayer Film Metrology Using an Effective Media Approximation
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
31.01.2019
High Power Broadband Illumination Source
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
31.01.2019
Multilayer Film Metrology Using an Effective Media Approximation
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
31.01.2019
Laser sustained plasma light source with forced flow through natural convection
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2019
System und Verfahren zur Driftkompensation bei einem Elektronenstrahlbasierten Charakterisierungswerkzeug
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.01.2019
Identifying a source of nuisance defects on a wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.01.2019
Image-based metrology overlay metrology and monitoring using through-focus imaging
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.01.2019
Tool health monitoring and matching
Steuerungs- & Regelungstechnik
17.01.2019
Methods and systems for semiconductor metrology based on polychromatic soft x-ray diffraction
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.01.2019
Estimating Amplitude And Phase Asymmetry in Imaging Technology For Achieving High Accuracy in Overlay Metrology
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.01.2019
Generating high resolution images from low resolution images for semiconductor applications
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.01.2019
Systems and methods for predicting defects and critical dimension using deep learning in the semiconductor manufacturing process
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.01.2019
Broad band plasma inspection based on a nuisance map
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.01.2019
System and method for x-ray imaging and classification of volume defects
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
02.01.2019
Analyse der Grundursachen von Prozessabweichungen in der Scatterometrie
Optik & Fototechnik
13.12.2018
Multi-column scanning electron microscopy system
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.12.2018
Repeater Defect Detection
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.12.2018
System und Verfahren für Hyperspektrale Bildgebungsmetrologie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
12.12.2018
Feldkrümmungskorrektur für Mehrstrahlige Inspektionssysteme
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.12.2018
Process monitoring for deep structures with x-ray scatterometry
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.12.2018
Verwendung einer Wafergeometrie zur Verbesserung der Wirksamkeit einer Scannerkorrektur zur Überlagerungssteuerung
Optik & Fototechnik
05.12.2018
Optisches Bildgebungssystem mit Katroptischem Objektiv, Breitbandobjektiv mit Spiegel sowie Brechungslinsen und Optisches Breitband-Bildgebungssystem mit Zwei oder Mehr Abbildungswegen
Optik & Fototechnik
29.11.2018
Wafer inspection using difference images
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.11.2018
Zonal analysis for recipe optimization and measurement
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.11.2018
Scalable and flexible job distribution architecture for semiconductor inspection and metrology systems
Software & Datenverarbeitung
22.11.2018
High accuracy of relative defect locations for repeater analysis
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.11.2018
Apparatus and methods for inspecting reticles
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.11.2018
A learning based approach for aligning images acquired with different modalities
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
15.11.2018
Floating Wafer Chuck
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.11.2018
A learning based approach for aligning images acquired with different modalities
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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