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Siltronic Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

281
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
25
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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281 gesamt
Patent
01.07.2010
Filter zur Entfernung Molekularer Verunreinigungen aus Gasen
WO2010072333 Verfahrens- & Trenntechnik
23.06.2010
Getemperter Wafer und Herstellungsverfahren für einen getemperten Wafer
EP2199435 Metallurgie & Oberflächentechnik
19.05.2010
Verfahren zur Herstellung einer Schichtenstruktur
EP1852901 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
07.04.2010
Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbid
EP2172967 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.01.2010
Alkalisches Ätzverfahren für einen Halbleiterwafer
EP1898454 Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
06.01.2010
Silicium-Wafer und dessen Herstellungsmethode
EP1928016 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
19.11.2009
Träger zur Aufnahme von Halbleiterscheiben
WO2009138185 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.11.2009
Siliciumwafer für Halbleiter und Verfahren zu seiner Herstellung
EP1914795 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
11.11.2009
Halbleiterschichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschichtstruktur
EP1816672 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
30.09.2009
Epitaxialsiliciumwafer und Herstellungsverfahren dafür
EP2105523 Metallurgie & Oberflächentechnik
02.09.2009
Verfahren zur Herstellung eines Epitaxial-Siliciumwafers
EP2096196 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.08.2009
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterstruktur
WO2009095173 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.07.2009
Hoch reine alkalische Ätzenlösung für Silizium-Wafern und alkalisches Ätzverfahren eines Silizium-Wafers
EP1548812 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
02.07.2009
Method of manufacturing semiconductor substrate
WO2009080177 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.07.2008
Reinigungsflüssigkeit und Reinigungsverfahren für elektronisches Material
EP1950792 Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.06.2008
Verfahren zur Herstellung von Sgoi- und Geoi-Halbleiterstrukturen
WO2008071328 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.03.2008
Mehrschichtiger Halbleiterwafer und Verfahren zu dessen Herstellung
EP1901345 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.03.2008
Multilayered semiconductor wafer and process for manufacturing the same
22.11.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung einer Halbleiterscheibe durch Ätzen
WO2007131635 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.11.2007
SOI-Scheibe
EP1626440 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
14.11.2007
Poröser Suszeptor, Verfahren damit zur Beschichtung einer Halbleiterscheibe und Halbleiterscheibe
EP1672094 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
29.08.2007
Verfahren zur Herstellung eines SOI-Substrats
EP1487010 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
08.08.2007
Verfahren zur Züchtung von Siliziumkristall
EP1555336 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
13.06.2007
Quarzglastiegel und Verfahren zur Herstellung Desselben
EP1497484 Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
29.11.2006
Scheibe mit einer Rückseitendichtung aus Zweischicht-Niedrigtemperatur-Oxyd und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP1543545 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
29.11.2006
Halbleiter-Schichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Schichtstruktur
EP1727190 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.07.2006
Halbleiterscheibe mit einer Halbleiterschicht und einer darunter liegenden elektrisch isolierenden Schicht sowie Verfahren zu deren Herstellung
EP1683897 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.07.2006
Halbleiterscheibe mit Silicium-Germanium-Schicht und Verfahren zu deren Herstellung
EP1681711 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.05.2006
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Schichtstruktur und Entsprechende Struktur
EP1435110 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
26.04.2006
Film oder Schicht aus Halbleitendem Material und Verfahren zur Herstellung des Films oder der Schicht
EP1402567 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
22.03.2006
Impf-Kristall für die Herstellung von Siliciumeinkristallen und Verfahren zur Herstellung von Siliciumeinkristallen
EP1321544 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
08.02.2006
Siliziumhalbleitersubstrat und Vefahren zu seiner Herstellung
EP1284311 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
11.01.2006
Verfahren zur Verfügungstellung von ozonenthaltendem Wasser
EP1538129 Anorganische Chemie & Werkstoffe erteilt
30.11.2005
Halbleitersubstrat aus Silizium und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1293591 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
03.08.2005
Halbleitersubstrat aus Silizium und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1293592 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
13.07.2005
Silizium-Germanium SOI-Struktur und deren Herstellungsverfahren
EP1553624 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.06.2005
Methode zum Weiterleiten ozoniertes Wasser
EP1535882 Anorganische Chemie & Werkstoffe
13.04.2005
Verfahren zur chemischen Behandlung von Halbleiterscheiben
EP1176632 Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
24.11.2004
Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Einkristalls aus Silicium
EP1225255 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
13.10.2004
Verfahren zur Montage von Planaren Werkstücken
EP1330841 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt

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