Siltronic Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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281 gesamt| Patent | |||
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01.07.2010
Filter zur Entfernung Molekularer Verunreinigungen aus Gasen
WO2010072333
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2009
Anhängig
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23.06.2010
Getemperter Wafer und Herstellungsverfahren für einen getemperten Wafer
EP2199435
Metallurgie & Oberflächentechnik
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19.05.2010
Verfahren zur Herstellung einer Schichtenstruktur
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07.04.2010
Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbid
EP2172967
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.01.2010
Alkalisches Ätzverfahren für einen Halbleiterwafer
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06.01.2010
Silicium-Wafer und dessen Herstellungsmethode
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19.11.2009
Träger zur Aufnahme von Halbleiterscheiben
WO2009138185
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.05.2009
Anhängig
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18.11.2009
Siliciumwafer für Halbleiter und Verfahren zu seiner Herstellung
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11.11.2009
Halbleiterschichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschichtstruktur
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30.09.2009
Epitaxialsiliciumwafer und Herstellungsverfahren dafür
EP2105523
Metallurgie & Oberflächentechnik
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02.09.2009
Verfahren zur Herstellung eines Epitaxial-Siliciumwafers
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06.08.2009
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterstruktur
WO2009095173
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.01.2009
Anhängig
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22.07.2009
Hoch reine alkalische Ätzenlösung für Silizium-Wafern und alkalisches Ätzverfahren eines Silizium-Wafers
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02.07.2009
Method of manufacturing semiconductor substrate
WO2009080177
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.12.2008
Anhängig
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30.07.2008
Reinigungsflüssigkeit und Reinigungsverfahren für elektronisches Material
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19.06.2008
Verfahren zur Herstellung von Sgoi- und Geoi-Halbleiterstrukturen
WO2008071328
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.12.2007
Anhängig
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19.03.2008
Mehrschichtiger Halbleiterwafer und Verfahren zu dessen Herstellung
EP1901345
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.03.2008
Multilayered semiconductor wafer and process for manufacturing the same
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Status
Angemeldet am 22.08.2007
Anhängig
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22.11.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung einer Halbleiterscheibe durch Ätzen
WO2007131635
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.05.2007
Anhängig
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14.11.2007
SOI-Scheibe
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14.11.2007
Poröser Suszeptor, Verfahren damit zur Beschichtung einer Halbleiterscheibe und Halbleiterscheibe
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29.08.2007
Verfahren zur Herstellung eines SOI-Substrats
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Status
Angemeldet am 03.06.2004
Erteilt am 29.08.2007
Vertretung
Rimböck, Karl-Heinz, Dr · München
Rimböck, Karl-Heinz · München
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08.08.2007
Verfahren zur Züchtung von Siliziumkristall
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Status
Angemeldet am 16.12.2004
Erteilt am 08.08.2007
Vertretung
Rimböck, Karl-Heinz · München
Rimböck, Karl-Heinz, Dr · München
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13.06.2007
Quarzglastiegel und Verfahren zur Herstellung Desselben
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Status
Angemeldet am 03.04.2003
Erteilt am 13.06.2007
Vertretung
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29.11.2006
Scheibe mit einer Rückseitendichtung aus Zweischicht-Niedrigtemperatur-Oxyd und Verfahren zu Ihrer Herstellung
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29.11.2006
Halbleiter-Schichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Schichtstruktur
EP1727190
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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26.07.2006
Halbleiterscheibe mit einer Halbleiterschicht und einer darunter liegenden elektrisch isolierenden Schicht sowie Verfahren zu deren Herstellung
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19.07.2006
Halbleiterscheibe mit Silicium-Germanium-Schicht und Verfahren zu deren Herstellung
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03.05.2006
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Schichtstruktur und Entsprechende Struktur
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Status
Angemeldet am 11.10.2002
Erteilt am 03.05.2006
Vertretung
Rimböck, Karl-Heinz · München
Rimböck, Karl-Heinz, Dr · München
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26.04.2006
Film oder Schicht aus Halbleitendem Material und Verfahren zur Herstellung des Films oder der Schicht
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Status
Angemeldet am 27.06.2002
Erteilt am 26.04.2006
Vertretung
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22.03.2006
Impf-Kristall für die Herstellung von Siliciumeinkristallen und Verfahren zur Herstellung von Siliciumeinkristallen
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Status
Angemeldet am 05.12.2002
Erteilt am 22.03.2006
Vertretung
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08.02.2006
Siliziumhalbleitersubstrat und Vefahren zu seiner Herstellung
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Status
Angemeldet am 08.08.2002
Erteilt am 08.02.2006
Vertretung
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11.01.2006
Verfahren zur Verfügungstellung von ozonenthaltendem Wasser
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Status
Angemeldet am 18.11.2004
Erteilt am 11.01.2006
Vertretung
Rimböck, Karl-Heinz · München
Rimböck, Karl-Heinz, Dr · München
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30.11.2005
Halbleitersubstrat aus Silizium und Verfahren zu ihrer Herstellung
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Status
Angemeldet am 05.09.2002
Erteilt am 30.11.2005
Vertretung
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03.08.2005
Halbleitersubstrat aus Silizium und Verfahren zu ihrer Herstellung
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Status
Angemeldet am 05.09.2002
Erteilt am 03.08.2005
Vertretung
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13.07.2005
Silizium-Germanium SOI-Struktur und deren Herstellungsverfahren
EP1553624
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.06.2005
Methode zum Weiterleiten ozoniertes Wasser
EP1535882
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 18.11.2004
Anhängig
Vertretung
Rimböck, Karl-Heinz · München
Rimböck, Karl-Heinz, Dr · München
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13.04.2005
Verfahren zur chemischen Behandlung von Halbleiterscheiben
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Status
Angemeldet am 28.06.2001
Erteilt am 13.04.2005
Vertretung
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24.11.2004
Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Einkristalls aus Silicium
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Status
Angemeldet am 10.01.2002
Erteilt am 24.11.2004
Vertretung
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13.10.2004
Verfahren zur Montage von Planaren Werkstücken
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Status
Angemeldet am 25.10.2001
Erteilt am 13.10.2004
Vertretung
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Wer vertritt Siltronic?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Siltronic vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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