Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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17.06.2021
Projektionsbelichtungsgerät für Halbleiterlithografie
Optik & Fototechnik
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16.06.2021
Verfahren und Anordnung zur Charakterisierung einer Maske oder eines Wafers für die Mikrolithographie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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02.06.2021
Spiegel für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum Betreiben eines Deformierbaren Spiegels
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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27.05.2021
Vorrichtung und Verfahren zur Messung von Substraten für die Halbleiterlithografie
Optik & Fototechnik
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26.05.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Optischen Elements
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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19.05.2021
Verfahren zur Herstellung einer Reflektierenden Optischen Komponente für ein Euv-Projektionsbelichtungsgerät und Komponente Dieser Art
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.03.2012
Erteilt am 19.05.2021
Vertretung
Witte, Weller & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
Witte, Weller & Partner · Stuttgart
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14.05.2021
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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12.05.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Strahlanalyse
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 05.10.2016
Erteilt am 12.05.2021
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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22.04.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Optischen Elements
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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22.04.2021
Verfahren zum Bestimmen einer Optischen Phasendifferenz von Messlicht einer Messlichtwellenlänge über eine Oberfläche eines Strukturierten Objekts
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.10.2020
Anhängig
Vertretung
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22.04.2021
Verfahren zur Messung eines Reflexionsvermögens eines Objekts zur Lichtmessung und Messsystem zur Durchführung des Verfahrens
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 08.10.2020
Anhängig
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21.04.2021
Optische Baugruppe zur Verringerung einer Spektralen Bandbreite eines Ausgabestrahls eines Lasers
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.05.2019
Anhängig
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14.04.2021
Messanordnung zur Messung Optischer Eigenschaften eines Reflektiven Optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.11.2014
Erteilt am 14.04.2021
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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14.04.2021
Optisches Beleuchtungssystem für Mikrolithografie und Projektionsbeleichtungssystem mit einem Derartigen Optischen Beleuchtungssystem
Optik & Fototechnik
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14.04.2021
Blende zur Anordnung in einer Engstelle eines Euv-Beleuchtungsbündels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.05.2019
Anhängig
Vertretung
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14.04.2021
Messanordnung zur Frequenzbasierten Positionsbestimmung einer Komponente
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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14.04.2021
Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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08.04.2021
Messvorrichtung zur Interferometrischen Bestimmung einer Oberflächenform
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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07.04.2021
Verfahren zur Echtzeitüberwachung eines Prozess und Massenspektrometer
Medizintechnik & Gesundheit
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.02.2017
Erteilt am 07.04.2021
Vertretung
Norton, Ian Andrew · Burgess Hill
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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07.04.2021
Beleuchtungssystem und Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.02.2011
Erteilt am 07.04.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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07.04.2021
Strahlführungsoptik für ein Vielstrahlsystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.04.2013
Erteilt am 07.04.2021
Vertretung
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31.03.2021
Facettenspiegel zur Verwendung in einer Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Mikrolithografie
Optik & Fototechnik
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24.03.2021
Strahlpropagationskamera und Verfahren zur Lichtstrahlanalyse
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2014
Erteilt am 24.03.2021
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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24.03.2021
Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein Optisches Element und Reflektierendes Optisches Element
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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24.03.2021
Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Halbleiterlithografie mit Erhöhter Thermischer Robustheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.09.2017
Erteilt am 24.03.2021
Vertretung
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17.03.2021
Optisches System zur Übertragung von Originalstrukturabschnitten einer Lithografiemaske, Optische Projektionseinheit zur Bildgebung eines Objektfeldes, in dem mindestens ein Originalstrukturabschnitt der Lithografiemaske Anzuordnen Ist, und Lithografiemaske
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.05.2019
Anhängig
Vertretung
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11.03.2021
Spiegelanordnung und Optische Anordnung damit
Optik & Fototechnik
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11.03.2021
Spiegelanordnung mit Wasserstoff-Barriere und Optische Anordnung
Optik & Fototechnik
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04.03.2021
Optisches Element zur Reflexion von Euv-Strahlung, Euv-Lithographiesystem und Verfahren zum Versiegeln einer Lücke
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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04.03.2021
Optisches Element und Euv-Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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03.03.2021
Spiegel, Optisches System für ein Euv Projektionssystem und Verfahren zur Herstellung eines Bauelements
Optik & Fototechnik
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25.02.2021
Verfahren zum Kalibrieren eines Interferometers
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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24.02.2021
Verfahren zur Strahlanalyse
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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18.02.2021
Optisches Beleuchtungssystem zur Führung von Euv-Strahlung
Optik & Fototechnik
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06.01.2021
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2011
Erteilt am 06.01.2021
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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30.12.2020
Optische Elemente enthaltend Magnetostriktives Material
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 14.03.2013
Erteilt am 30.12.2020
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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30.12.2020
Messvorrichtung zum Bestimmen eines Polarisationsparameters
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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24.12.2020
Spiegel, insbesondere zur Verwendung in einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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24.12.2020
Feldfacettensystem, Optische Anordnung und Lithografievorrichtung
Optik & Fototechnik
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16.12.2020
Optische Bildgebungseinheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.05.2012
Erteilt am 16.12.2020
Vertretung
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11