Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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16.12.2020
Optische Bildgebungseinheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.05.2012
Erteilt am 16.12.2020
Vertretung
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09.12.2020
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Absorption bei einem Zuschnitt
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 12.06.2012
Erteilt am 09.12.2020
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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02.12.2020
Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einem Derartigen Optischen Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
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19.11.2020
Verfahren zum Erzeugen eines Mathematischen Modells zum Positionieren von Einzelspiegeln eines Facettenspiegels in einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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05.11.2020
Mess-Beleuchtungsoptik zur Führung von Beleuchtungslicht in ein Objektfeld einer Projektionsbelichtungsanlage für die Euv-Lithografie
Optik & Fototechnik
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21.10.2020
Vorrichtung, Verfahren und Computerprogramm zur Bestimmung einer Position eines Elements auf einer Photolithografischen Maske
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
The present application relates to an apparatus (200) for determining a position of at least one element (130, 540, 940) on a photolithographic mask (110), said apparatus comprising: (a) at least one scanning particle microscope (210) comprising a first reference object (240), wherein the first reference object (240) is disposed on the scanning particle microscope (210) in such a way that the scanning particle microscope (210) can be used to determine a relative position of the at least one element (130, 540, 940) on the photolithographic mask (110) relative to the first reference object (240); and (b) at least one distance measuring device (270), which is embodied to determine a distance between the first reference object (240) and a second reference object (250), wherein there is a relationship between the second reference object (250) and the photolithographic mask (110). |
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30.09.2020
Vorrichtungen zur Schichtdickenbestimmung Und/oder zur Bestimmung eines Verschmutzungsgrads eines Bandes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 02.08.2012
Erteilt am 30.09.2020
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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24.09.2020
Sample holder, system and method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 17.03.2020
Anhängig
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24.09.2020
Method for imaging a region of interest of a sample using a tomographic x-ray microscope, microscope, system and computer program
Software & Datenverarbeitung
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 19.03.2020
Anhängig
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24.09.2020
Mess- oder Inspektionsvorrichtung und Verfahren zum Vermessen oder zum Inspizieren einer Oberfläche
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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24.09.2020
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Optischen Element mit Sensorreferenz und Verfahren zur Ausrichtung der Sensorreferenz
Optik & Fototechnik
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16.09.2020
Optische Bildgebungsanordnung mit Individuell Aktiv Unterstützten Komponenten
Optik & Fototechnik
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16.09.2020
Optisches Element und Optische Anordnung damit
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.03.2017
Erteilt am 16.09.2020
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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16.09.2020
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2016
Erteilt am 16.09.2020
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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10.09.2020
Aktuatoreinrichtung und Verfahren zur Ausrichtung eines Optischen Elements, Optische Baugruppe sowie Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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02.09.2020
Sonde, sowie Verfahren, Vorrichtung und Computerprogramm zur Herstellung einer Sonde für Rastersondenmikroskope
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 11.12.2019
Anhängig
Vertretung
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20.08.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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06.08.2020
Verarbeitung von Bilddatensätzen
Software & Datenverarbeitung
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06.08.2020
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einer Optischen Anordnung
Optik & Fototechnik
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29.07.2020
Steuerungsvorrichtung und Verfahren zur Steuerung eines Manipulators Bezüglich einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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29.07.2020
Fokussierung eines Abbildungssystems mit Geladenen Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.02.2012
Erteilt am 29.07.2020
Vertretung
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
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23.07.2020
Schutzvorrichtung für Leitungen in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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22.07.2020
Verfahren zum Betreiben einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.07.2013
Erteilt am 22.07.2020
Vertretung
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
Ostertag & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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16.07.2020
Verfahren zum in Situ Dynamischen Schutz einer Oberfläche und Optische Anordnung
Optik & Fototechnik
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15.07.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Moiré-Vermessung eines Optischen Prüflings
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.01.2017
Erteilt am 15.07.2020
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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01.07.2020
Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.03.2013
Erteilt am 01.07.2020
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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24.06.2020
Verfahren zum Betrieb einer Optischen Vorrichtung und Optische Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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17.06.2020
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.07.2014
Erteilt am 17.06.2020
Vertretung
Zusammenfassung
Eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes (3) mit Beleuchtungslicht (8) einer primären Lichtquelle (6). Die Beleuchtungsoptik hat eine Rasteranordnung (12, 16) zur Vorgabe einer Form des Beleuchtungsfeldes (3), eine Übertragungsoptik (17) zur überlagernden Übertragung des Beleuchtungslichts (8) hin zum Beleuchtungsfeld (3), und eine Beleuchtungswinkel-Variationseinrichtung (14). Diese lenkt das Beleuchtungslicht (8) mit unterschiedlichen Ablenkwinkeln ab. Die Beleuchtungswinkel-Variationseinrichtung (14) hat mindestens eine verlagerbare Beleuchtungswinkel-Variationseinheit (14b) zur Erzeugung eines Ablenkwinkels für das Beleuchtungslicht (8). Die verlagerbare Beleuchtungswinkel-Variationseinheit (14b) ist relativ zur Rasteranordnung (12, 16) zur Beeinflussung einer Größe eines zweiten Ablenkwinkels, den die verlagerbare Beleuchtungswinkel-Variationseinheit (14b) erzeugt, in der Ablenkebene (xz) senkrecht zu einer Objektverlagerungsrichtung (y) verlagerbar. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, bei der eine Beleuchtungsintensität über das Beleuchtungsfeld beleuchtungswinkelabhängig gezielt beeinflusst werden kann. |
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11.06.2020
Optisches Element zur Reflexion von Vuv-Strahlung und Optische Anordnung
Optik & Fototechnik
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11.06.2020
Verfahren zum Bilden von Nanostrukturen an einer Oberfläche und Optisches Element
Optik & Fototechnik
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11.06.2020
Verfahren zum in Situ Schutz einer Aluminiumschicht und Optische Anordnung für den Vuv-Wellenlängenbereich
Optik & Fototechnik
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11.06.2020
Wafer-Inspektionssystem mit Wasserterminierter Optik
Optik & Fototechnik
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11.06.2020
Verfahren zum Ersetzen eines Spiegels in einem Projektionsbelichtungsgerät sowie Positions- und Orientierungsdatenmessvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
Optik & Fototechnik
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04.06.2020
Modul für eine Projektionsbelichtungsvorrichtung für Halbleiterlithographie mit einem Semiaktiven Abstandshalter und Verfahren zur Verwendung des Semiaktiven Abstandshalters
Optik & Fototechnik
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04.06.2020
Optisches Beleuchtungssystem für Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
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27.05.2020
Verfahren und Vorrichtungen zur Entsorgung von Überschüssigem Material einer Fotolithografischen Maske
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.07.2018
Anhängig
Vertretung
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13.05.2020
Verfahren zum Entfernen einer Kontaminationsschicht durch ein Atomlagenätzverfahren
Optik & Fototechnik
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29.04.2020
Euv-Belichtungsgerät
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.07.2011
Erteilt am 29.04.2020
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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29.04.2020
Dämpfungsfilter für Projektionsobjektiv, Projektionsobjektiv mit Dämpfungsfilter für Projektionsbelichtungsvorrichtung und Projektionsbelichtungsvorrichtung mit Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.03.2017
Erteilt am 29.04.2020
Vertretung
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29.04.2020
Optisch transparente und elektrisch leitfähige Beschichtungen und Verfahren zu ihrer Ablagerung auf einem Substrat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.10.2011
Erteilt am 29.04.2020
Vertretung
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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