Carl Zeiss SMT Logo

Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

2.391 gesamt
Patent
13.03.2024
Verfahren zum Kalibrieren einer Sphärischen Welle, sowie Prüfsystem zur Interferometrischen Bestimmung der Oberflächenform eines Prüflings
EP4336139
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
29.02.2024
Zwischenprodukt zur Herstellung eines Optischen Elements für eine Projektionsbelichtungsanlage, Optisches Element für eine Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung eines Zwischenprodukts und Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elements
WO2024041875
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
28.02.2024
Segmentierung oder Querschnitt von Strukturen mit Hohem Aspektverhältnis
EP4327274
Software & Datenverarbeitung
28.02.2024
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Optischen Elements in einem Optischen System für die Mikrolithographie
EP4212962
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
21.02.2024
Reflektives Optisches Element für die Euv-Lithographie
EP3491468
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
15.02.2024
Device and method for sensor-based measurement of chemical and/or physical properties of an adhesive layer and/or of a medium in contact with the adhesive layer, and method for producing a corresponding device and method for sensorbased measurement
WO2024033081
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
15.02.2024
Ansteuervorrichtung, Optisches System und Lithographieanlage
WO2024033320
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
15.02.2024
Verfahren zur Stabilisierung einer Klebstoffverbindung einer Optischen Baugruppe, Optische Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
WO2024033083
Optik & Fototechnik
14.02.2024
Verfahren, Vorrichtung und Computerprogramm zur Verarbeitung einer Oberfläche eines Objekts
EP4320481
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
14.02.2024
Metrologiesystem und Verfahren zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer Euv-Plasmaquelle
EP3861310
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
14.02.2024
Verfahren zur Herstellung eines Spiegels einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP4320467
Optik & Fototechnik
08.02.2024
Method of characterizing a fault in a scanning electron microscope
WO2024028468
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.02.2024
Vorrichtung und Verfahren zur Aufbringung eines Fluids und Komponente
WO2024028170
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.02.2024
Method and device for correcting image errors when scanning a charged particle beam over a sample
WO2024028233
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.02.2024
Optisches System für eine Lithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP4314949
Optik & Fototechnik
07.02.2024
Facettensystem und Lithografievorrichtung
EP4314948
Optik & Fototechnik
01.02.2024
Verfahren zur Verzerrungsmessung und Parametereinstellung für Ladungsteilchenstrahlbildgebungsvorrichtungen und Entsprechende Vorrichtungen
WO2024023116
Software & Datenverarbeitung
01.02.2024
Euv-Reflektometer und Messverfahren
WO2024022822
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
01.02.2024
Verfahren, Vorrichtung und Computerimplementiertes Verfahren zur Inspektion eines Bauteils, insbesondere eines Bauteils eines Lithografiesystems, sowie Lithografiesystem
WO2024022835
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.02.2024
Optisches System, Lithographieanlage mit einem Optischen System und Verfahren zum Herstellen eines Optischen Systems
WO2024023010
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
01.02.2024
Method, lithography mask, use of a lithography mask, and processing arrangement
WO2024023165
Optik & Fototechnik
25.01.2024
Optisches System und Projektionsbelichtungsanlage
WO2024017836
Optik & Fototechnik
25.01.2024
Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen Zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, Optisches Vermessungssystem und Verfahren
WO2024017914
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
25.01.2024
Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen eines Passformfehlers bei einem Hohlspiegel
WO2024017688
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
25.01.2024
Restgasanalysator, Projektionsbelichtungsanlage mit einem Restgasanalysator und Verfahren zur Restgasanalyse
WO2024017560
Optik & Fototechnik
24.01.2024
Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elements für eine Lithographievorrichtung
EP4310592
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
24.01.2024
Verfahren zum Reinigen einer Oberfläche, Reinigungsvorrichtung und Optische Anordnung
EP4309003
Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
24.01.2024
Verfahren zur Herstellung eines Reflektierenden Optischen Elements für den Extrem-Ultravioletten Wellenlängenbereich und Reflektierendes Optisches Element
EP4308981
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
18.01.2024
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
WO2024013177
Optik & Fototechnik
18.01.2024
Vorrichtung und Verfahren zur Bereitstellung von Sensordaten eines Optischen Systems, Optisches System und Lithographievorrichtung mit einem Optischen System
WO2024013190
Optik & Fototechnik
18.01.2024
Zapfen für ein Spannsystem
WO2024012749
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
18.01.2024
Linse für eine zum Betrieb im Duv Ausgelegte Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren und Anordnung zum Ausbilden einer Antireflexschicht
WO2024012820
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
11.01.2024
Optisches Element und Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
WO2024008360
Optik & Fototechnik
11.01.2024
Optisches Element mit Schwingungsmindernden Abschnitten von Fluidleitungen, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines Optischen Elementes
WO2024008677
Optik & Fototechnik
11.01.2024
Verfahren zum Regeln einer Position einer Optischen Komponente einer Lithographieanlage
WO2024008732
Optik & Fototechnik
11.01.2024
Grundkörper für ein Optisches Element mit einer Anbindungsgeometrie und Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines Optischen Elementes sowie Projektionsbelichtungsanlage
WO2024008674
Optik & Fototechnik
11.01.2024
Optische Baugruppe, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und Verfahren
WO2024008352
Optik & Fototechnik
10.01.2024
Euv-Reflektometer
EP4100721
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
04.01.2024
Verfahren sowie Messanordnung zur Interferometrischen Bestimmung der Oberflächenform eines Prüflings
WO2024002799
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
04.01.2024
Euv collector for an euv projection exposure apparatus
WO2024002672
Optik & Fototechnik

Wer vertritt Carl Zeiss SMT?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

Zum Anmelder-Profil

Technologiefelder

Optik & Fototechnik
2.073
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
303
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
219
Elektrische Energietechnik
199
Metallurgie & Oberflächentechnik
54
Software & Datenverarbeitung
53
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
50
Elektronik & Schaltungstechnik
41
Anorganische Chemie & Werkstoffe
37
Maschinenelemente & Fluidtechnik
35
Verfahrens- & Trenntechnik
19
Kunststoff- & Polymertechnik
13

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen