Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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2.391 gesamt| Patent | |||
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20.06.2024
Interferometrisches Messverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2023
Anhängig
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20.06.2024
Interferometervorrichtung zur Vermessung einer Oberfläche, Verfahren zur Interferometrischen Vermessung einer Oberfläche und Lithografiesystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2023
Anhängig
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20.06.2024
Kühlvorrichtung für eine Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.12.2023
Anhängig
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19.06.2024
Antriebsvorrichtung, Optisches System und Lithographiegerät
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 23.04.2021
Erteilt am 19.06.2024
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19.06.2024
Optisches Element, Optische Projektionseinheit und Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.08.2022
Anhängig
Vertretung
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19.06.2024
Vorrichtung zur Analyse Und/oder Bearbeitung einer Probe mit einem Teilchenstrahl und Verfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.08.2022
Anhängig
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19.06.2024
Optisches Element, Optisches System, Lithographieanlage und Verfahren zum Betreiben eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.07.2021
Erteilt am 19.06.2024
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13.06.2024
Mirror arrangement for absorbing radiation, and lithography system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.12.2023
Anhängig
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13.06.2024
Spiegelanordnung mit Gekühlten Spiegelelementen und Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.12.2023
Anhängig
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13.06.2024
Spiegelfassung, Optisches System und Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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12.06.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Reparatur eines Defekts einer Probe unter Verwendung eines Fokussierten Teilchenstrahls
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.09.2022
Anhängig
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06.06.2024
Method for three-dimensional determination of an aerial image of a measurement object with the aid of a metrology system and metrology system for carrying out the determination method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.11.2023
Anhängig
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05.06.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Optischen Eigenschaften von für Lithographische Masken Verwendeten Abscheidungsmaterialien
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 30.07.2021
Anhängig
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30.05.2024
Projection exposure apparatus with manipulators
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2023
Anhängig
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30.05.2024
Optisches System, Lithographieanlage mit einem Optischen System und Anordnung mit einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.11.2023
Anhängig
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30.05.2024
Optisches System, Lithographieanlage und Verfahren zum Betreiben eines Optischen Systems einer Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2023
Anhängig
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23.05.2024
Verfahren zur Ermittlung von Bildfehlern Hochauflösender Abbildungssysteme Per Wellenfrontmessung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 06.11.2023
Anhängig
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23.05.2024
Baugruppe eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.10.2023
Anhängig
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23.05.2024
Baugruppe eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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23.05.2024
Euv-Optikmodul für eine Euv-Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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23.05.2024
Verbesserte Bearbeitung von Tiefen, Mehrschichtigen Strukturen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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22.05.2024
Sensor-Einrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2017
Erteilt am 22.05.2024
Vertretung
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16.05.2024
Spiegelelement, Lithographieanlage und Verfahren zum Bereitstellen eines Spiegelelements
Optik & Fototechnik
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16.05.2024
Assembly for a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.09.2023
Anhängig
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16.05.2024
Production control method for a projection exposure apparatus, projection exposure apparatus, and projection exposure method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2023
Anhängig
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16.05.2024
Sensorfusion zur Dünnschichtsegmentierung
Software & Datenverarbeitung
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16.05.2024
Optisches System und Lithographieanlage mit einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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10.05.2024
Optisches System, sowie Verfahren zum Betreiben eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.09.2023
Anhängig
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10.05.2024
Adaptiver Spiegel mit Mechanischer Vermittlerschicht und Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.09.2023
Anhängig
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02.05.2024
Projection exposure apparatus comprising a manipulator system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.10.2023
Anhängig
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02.05.2024
Verbessertes Verfahren und Vorrichtung zur Segmentierung von Halbleiterinspektionsbildern
Software & Datenverarbeitung
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02.05.2024
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.10.2023
Anhängig
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02.05.2024
Verfahren zum Betreiben eines Optischen Bauelements, Optisches Bauelement
Optik & Fototechnik
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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Status
Angemeldet am 23.10.2023
Anhängig
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01.05.2024
Verfahren zur Massenspektrometrischen Untersuchung eines Gases und Massenspektrometer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.03.2016
Erteilt am 01.05.2024
Vertretung
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24.04.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Partikelstrahlinduzierten Behandlung eines Defekts einer Mikrolithographischen Photomaske
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2022
Anhängig
Vertretung
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24.04.2024
Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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17.04.2024
Optische Abbildungseinheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2022
Anhängig
Vertretung
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17.04.2024
Optische Abbildungseinheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2022
Anhängig
Vertretung
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17.04.2024
Verfahren zur Herstellung eines Diffraktiven Optischen Elements und Diffraktives Optisches Element
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.04.2023
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
A method of manufacturing a diffractive optical element effective at an operating wavelength, comprising the following steps: providing a first substrate (SUB1) made of a first substrate material; depositing a layer of a first material on a free surface of the first substrate (SUB1) or one a free surface of an auxiliary layer (AL) formed on the free surface of the first substrate; patterning the layer of the first material to generate a patterned structure comprising a plurality of ridges of the first material and intermediate spaces between the ridges; filling the intermediate spaces with a second material (M2) differing from the first material (M1) to form a patterned layer comprising adjacent portions alternately consisting of the first material (M1) and the second material (M2) to form a multilayer unit (MU) comprising the first substrate (SUB1) and the patterned layer (PL) on the first substrate, the multilayer unit comprising a free surface opposite to the first substrate; providing a second substrate (SUB2) made of a second substrate material (MS2), the second substrate (SUB2) comprising a free surface (FS2) prepared as a contact surface; bonding the multilayer unit (MU) to the free surface (FS2) of the second substrate (SUB2) so that the free surface of the multilayer unit is adjacent to the free surface (FS2) of the second substrate. The diffractive optical element may be designed as a computer generated hologram for use in an interferometric measuring device for interferometrically measuring a shape of a surface of a test object. |
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11.04.2024
Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, and method of processing a mirror
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.09.2023
Anhängig
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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