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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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2.391 gesamt
Patent
15.05.2025
Modular metrology apparatus for interchangeable process modules
WO2025098761
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.05.2025
Projektionsbelichtungsgerät für Halbleiterlithografie
EP4124208
Optik & Fototechnik
14.05.2025
Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines Optischen Elementes für die Halbleiterlithografie und Grundkörper für ein Optisches Element
EP4551533
Anorganische Chemie & Werkstoffe
08.05.2025
Euv-Spiegelsystem, Verfahren zum Betreiben eines Euv-Spiegelsystems, Projektionsobjektiv für eine Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage
WO2025093185
Optik & Fototechnik
08.05.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Temperierung eines Sensorrahmens in einem Mikrolithografischen Projektionssystem
WO2025093537
Optik & Fototechnik
08.05.2025
Compensation of operationally induced thermal deformations in the manufacturing process of an optical element under thermal control during operation
WO2025093552
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
08.05.2025
Optischer Stab zur Lichtmischung von Beleuchtungslicht in einer Beleuchtungsoptik einer Lithografischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2025093492
Optik & Fototechnik
08.05.2025
Optisches Abbildungssystem mit Vorgebbarer Wellenlängen-Bandbreite des Abbildungslichts
WO2025093491
Optik & Fototechnik
08.05.2025
Verfahren zur Temperierung von Mems-Mikrospiegeln
WO2025093416
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
08.05.2025
Adaptives Optisches Modul für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2025093373
Optik & Fototechnik
08.05.2025
Projektionssystem mit Minimierten Thermisch Induzierten Oszillierenden Aberrationen
WO2025093229
Optik & Fototechnik
07.05.2025
Röntgeninspektionssystem zur Inspektion eines Objekts
EP4549919
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.05.2025
Optisches Element und Euv-Lithographiesystem
WO2025087653
Optik & Fototechnik
01.05.2025
Computer-implemented method and apparatus for processing a sample with a nanomanipulator
WO2025088205
Optik & Fototechnik
01.05.2025
Computer-implemented method and apparatus for processing a sample using a nanomanipulator
WO2025088206
Optik & Fototechnik
01.05.2025
Transport- und Testsystem für eine Kamera, Verfahren zum Testen einer Kamera
WO2025087622
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
30.04.2025
Pupillenfacettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage
EP4204902
Optik & Fototechnik
30.04.2025
Verfahren zur Behandlung eines Defekts einer Mikrolithographischen Photomaske
EP4546047
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.04.2025
Verfahren zum Herstellen eines Spiegels für eine Lithographieanlage
EP3268790
Optik & Fototechnik
23.04.2025
Verfahren zum Betreiben einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, Mikrolithographische Maske und Projektionsbelichtungsanlage
EP4542302
Optik & Fototechnik
23.04.2025
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
EP4540660
Optik & Fototechnik
23.04.2025
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
EP4540661
Optik & Fototechnik
23.04.2025
Verfahren zum Heizen eines Optischen Elements sowie Optisches System
EP4540662
Optik & Fototechnik
17.04.2025
Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage
WO2025078370
Optik & Fototechnik
16.04.2025
Vorrichtung zur Detektion von Ionen
EP3455873
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.04.2025
Beleuchtungsoptik für ein Maskeninspektionssystem zur Verwendung mit Euv-Beleuchtungslicht
EP4537157
Optik & Fototechnik
10.04.2025
Measurement system, measurement method with the aid of such a measurement system, and projection exposure apparatus comprising such a measurement system
WO2025073458
Optik & Fototechnik
10.04.2025
Komponente für eine Anlage der Halbleitertechnologie und Verfahren zur Herstellung einer Komponente für eine Anlage der Halbleitertechnologie
WO2025073746
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
10.04.2025
Facettenspiegel für eine als Erster Facettenspiegel Einsetzbare Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
EP4789069
Optik & Fototechnik
10.04.2025
Komponente für eine Anlage der Halbleitertechnologie und Verfahren zur Herstellung einer Komponente für eine Anlage der Halbleitertechnologie
EP4789071
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
10.04.2025
Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Vorgabe einer Beleuchtungspupille
EP4789068
Optik & Fototechnik
10.04.2025
Messsystem, Messverfahren mit Hilfe eines Solchen Messsystems und Projektionsbelichtungsvorrichtung mit einem Solchen Messsystem
EP4789067
Optik & Fototechnik
10.04.2025
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie sowie Verfahren zum Überwachen einer Derartigen Beleuchtungsoptik
WO2025073462
Optik & Fototechnik
10.04.2025
Beleuchtungsoptik sowie Verfahren zur Vermessung einer Abhängigkeit einer Intensität von auf ein Objektfeld Auftreffendem Beleuchtungslicht von mindestens einer Detektions-Objektfeldkoordinate unter Nutzung einer Derartigen Beleuchtungsoptik
WO2025073461
Optik & Fototechnik
10.04.2025
Optical system for a projection exposure apparatus, and method for specifying an illumination pupil
WO2025073460
Optik & Fototechnik
10.04.2025
Facet mirror for an illumination optical unit for projection lithography suitable for use as first facet mirror
WO2025073457
Optik & Fototechnik
09.04.2025
Verfahren und Substrat zur Integration von Temperier-Hohlstrukturen in ein Substrat
EP4534494
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
09.04.2025
Verfahren zur Herstellung einer Temperierenden Hohlstruktur in einem Substrat unter Verwendung eines Bearbeitungslichtstrahls
EP4534493
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
03.04.2025
Mikro-Elektro-Mechanisches System mit Fixierung
WO2025068439
Optik & Fototechnik
03.04.2025
Stabilization of a repaired region of an object for lithography
WO2025067865
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
2.073
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
303
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
219
Elektrische Energietechnik
199
Metallurgie & Oberflächentechnik
54
Software & Datenverarbeitung
53
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
50
Elektronik & Schaltungstechnik
41
Anorganische Chemie & Werkstoffe
37
Maschinenelemente & Fluidtechnik
35
Verfahrens- & Trenntechnik
19
Kunststoff- & Polymertechnik
13

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