Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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20.03.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Additiven Fertigung
Kunststoff- & Polymertechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 19.06.2018
Erteilt am 20.03.2024
Vertretung
Witte, Weller & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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13.03.2024
Verfahren zum Kalibrieren einer Sphärischen Welle, sowie Prüfsystem zur Interferometrischen Bestimmung der Oberflächenform eines Prüflings
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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13.03.2024
Interferometrisches Messverfahren und Interferometrisches Messsystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 21.08.2023
Anhängig
Vertretung
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28.02.2024
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Optischen Elements in einem Optischen System für die Mikrolithographie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.05.2019
Erteilt am 28.02.2024
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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28.02.2024
Segmentierung oder Querschnitt von Strukturen mit Hohem Aspektverhältnis
Software & Datenverarbeitung
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21.02.2024
Reflektives Optisches Element für die Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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15.02.2024
Verfahren zur Stabilisierung einer Klebstoffverbindung einer Optischen Baugruppe, Optische Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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15.02.2024
Ansteuervorrichtung, Optisches System und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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14.02.2024
Metrologiesystem und Verfahren zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer Euv-Plasmaquelle
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.08.2019
Erteilt am 14.02.2024
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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14.02.2024
Verfahren, Vorrichtung und Computerprogramm zur Verarbeitung einer Oberfläche eines Objekts
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2022
Anhängig
Vertretung
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14.02.2024
Verfahren zur Herstellung eines Spiegels einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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07.02.2024
Optisches System für eine Lithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.03.2022
Anhängig
Vertretung
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07.02.2024
Facettensystem und Lithografievorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.03.2022
Anhängig
Vertretung
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01.02.2024
Optisches System, Lithographieanlage mit einem Optischen System und Verfahren zum Herstellen eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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01.02.2024
Verfahren zur Verzerrungsmessung und Parametereinstellung für Ladungsteilchenstrahlbildgebungsvorrichtungen und Entsprechende Vorrichtungen
Software & Datenverarbeitung
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25.01.2024
Restgasanalysator, Projektionsbelichtungsanlage mit einem Restgasanalysator und Verfahren zur Restgasanalyse
Optik & Fototechnik
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25.01.2024
Messanordnung zum Erfassen eines Abstands zwischen Zwei Elementen, Abstandsmessvorrichtung, Optisches Vermessungssystem und Verfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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24.01.2024
Verfahren zum Reinigen einer Oberfläche, Reinigungsvorrichtung und Optische Anordnung
Verfahrens- & Trenntechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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24.01.2024
Verfahren zur Herstellung eines Reflektierenden Optischen Elements für den Extrem-Ultravioletten Wellenlängenbereich und Reflektierendes Optisches Element
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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24.01.2024
Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elements für eine Lithographievorrichtung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.07.2023
Anhängig
Vertretung
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18.01.2024
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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18.01.2024
Vorrichtung und Verfahren zur Bereitstellung von Sensordaten eines Optischen Systems, Optisches System und Lithographievorrichtung mit einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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11.01.2024
Grundkörper für ein Optisches Element mit einer Anbindungsgeometrie und Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines Optischen Elementes sowie Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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10.01.2024
Euv-Reflektometer
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 05.02.2021
Erteilt am 10.01.2024
Vertretung
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03.01.2024
Verfahren zur Montage eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.11.2020
Erteilt am 03.01.2024
Vertretung
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28.12.2023
Vorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten einer Oberfläche eines Optischen Elements einer Lithographieanlage in einem Atomlagen-Depositionsprozess oder einen Atomlagen-Ätzprozess
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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21.12.2023
Verfahren zum Heizen eines Optischen Elements sowie Optisches System
Optik & Fototechnik
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20.12.2023
Verfahren zur Herstellung eines Mehrteiligen Spiegels einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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14.12.2023
Verfahren zum Betreiben einer Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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13.12.2023
Strahlungsquelle und Vorrichtung zur Rückkopplung von Emittierter Strahlung in eine Laserquelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.07.2019
Erteilt am 13.12.2023
Vertretung
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13.12.2023
Elektrooptische Leiterplatte zur Kontaktierung von Integrierten Photonischen Schaltungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 08.04.2019
Erteilt am 13.12.2023
Vertretung
Kraus & Lederer PartGmbB · München
Kraus & Weisert Patentanwälte PartGmbB · München
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13.12.2023
Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elements, Vorrichtung zur Herstellung eines Optischen Elements, Optisches Element und Lithografiesystem
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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07.12.2023
Zweistrahlsysteme und Verfahren zur Entkopplung des Arbeitsabstandes einer Teilchenstrahlvorrichtung von durch Fokussierte Ionenstrahlgeometrie Induzierten Einschränkungen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.12.2023
Verfahren zum Bilden einer Schicht, Optisches Element und Optisches System
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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30.11.2023
Optisches Element sowie Anordnung und Optisches System damit
Optik & Fototechnik
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30.11.2023
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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29.11.2023
Bildsensor, Positionssensorvorrichtung, Lithographieanlage und Verfahren zum Betreiben eines Bildsensors
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2019
Erteilt am 29.11.2023
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29.11.2023
Optisches Bauelement und Optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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15.11.2023
Anordnung mit Entkopplungsverbindung zur Mechanischen Befestigung eines Elements
Optik & Fototechnik
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15.11.2023
Mehrstrahliger 3D-Fokusgenerator
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.04.2023
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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