Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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2.391 gesamt| Patent | |||
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30.07.2025
Facettenspiegel, Beleuchtungsoptik, Anordnung eines Facettenspiegels, Projektionsbelichtungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Nanostrukturierten Bauteils
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2023
Anhängig
Vertretung
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30.07.2025
Baugruppe eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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17.07.2025
Disturbance compensation for charged particle beam devices
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.01.2024
Anhängig
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16.07.2025
Optische Inspektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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16.07.2025
Computer-Generiertes Hologramm (cgh), sowie Verfahren zur Auslegung eines Cgh
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.09.2022
Erteilt am 16.07.2025
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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16.07.2025
Mikroelektromechanische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.08.2023
Anhängig
Vertretung
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16.07.2025
Verfahren zum Vereinzeln eines Wafers und Geeignete Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 28.08.2023
Anhängig
Vertretung
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09.07.2025
Gasvermittelte Sekundärelektronenerzeugung und Sammlungsverstärkung für Verbesserte Endpunktdetektion mit Edelionen zur Schaltungsbearbeitung in Halbleiterwafern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
An ion beam system with increased secondary electron yield is provided. The increase of a secondary electron yield is achieved by utilizing during ion beam scanning a combination of at least two individual gases adapted to material compositions present in a semiconductor wafer or lithography mask. The improved system and method can be applied for inspection, circuit edit or repair of semiconductor wafers or lithography masks. |
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02.07.2025
Messverfahren und Messanordnung für ein Abbildendes Optisches System
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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26.06.2025
Laserlichtquelle, insbesondere zur Verwendung in einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.12.2024
Anhängig
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26.06.2025
Vorrichtung zur Beprobung für eine Bestimmung eines Korrosionszustandes eines Moduls für die Halbleiterlithografie, Anordnung und Verfahren zur Bestimmung eines Modulzustandes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2024
Anhängig
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26.06.2025
Verfahren zum Glätten einer Oberfläche eines Substrats
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 29.10.2024
Anhängig
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26.06.2025
Verfahren zum Schützen einer Kleberschicht vor Streustrahlung, Optische Komponente und Anlage der Halbleitertechnologie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2024
Anhängig
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25.06.2025
Vergrössernde Abbildende Optik für ein Metrologiesystem zur Untersuchung von Objekten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.11.2024
Anhängig
Vertretung
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25.06.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Maskenreparatur
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.03.2023
Erteilt am 25.06.2025
Vertretung
Zusammenfassung
The present disclosure relates to methods, to an apparatus and to a computer program for processing of a lithography object. More particularly, the present invention relates to a method for removing a material, to a corresponding apparatus and to a method for lithographic processing of a wafer, and to a computer program for performing the methods. A method for processing a lithography object comprises, for example: providing a first gas comprising first molecules; providing a particle beam in a working region of the object for removal of a first material in the working region based at least partly on the first gas, wherein the first material comprises ruthenium. |
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25.06.2025
Mikrooptisches Element
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.08.2023
Anhängig
Vertretung
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19.06.2025
Verfahren zur Übersprechmodellierung bei einer Vielspiegel-Anordnung mit Verlagerbaren Einzelspiegeln
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2024
Anhängig
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19.06.2025
Verfahren zur Herstellung eines Kühlelements, Kühlelement für Optische Anordnungen und Optische Anordnungen für die Mikrolithographie mit einem Kühlelement
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2023
Anhängig
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19.06.2025
Verfahren zum Platzieren und Befestigen mindestens einer Mikrospiegelmatrix
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.11.2024
Anhängig
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19.06.2025
Euv-Spiegelsystem, Verfahren zum Betreiben eines
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.11.2024
Anhängig
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18.06.2025
Baugruppe für eine Optische Komponente
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2024
Anhängig
Vertretung
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18.06.2025
Optische Anordnung für den Fuv/vuv-Wellenlängenbereich
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2022
Erteilt am 18.06.2025
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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12.06.2025
Vorrichtung zur Messung einer Telezentrie eines Optischen Abbildungssystems
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2024
Anhängig
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12.06.2025
Verbindung eines Halteelements mit einem Optischen Element mittels eines Verbindungsmaterials
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2024
Anhängig
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12.06.2025
Verfahren und Rechenvorrichtung zum Kompensieren von Flüssigkeitsübertragenen Akustischen Störanregungen einer Flüssigkeitstemperierten Optischen Komponente einer Lithographieanlage, Kompensationssystem, Lithographieanlage und Verfahren zum Herstellen einer Reglereinrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2024
Anhängig
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05.06.2025
Verfahren zum Herstellen einer Euv-Spiegelkomponente, Zwischenprodukt einer Euv-Spiegelkomponente
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 11.11.2024
Anhängig
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05.06.2025
Method for adjusting at least one sensor for a projection exposure apparatus and projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2024
Anhängig
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04.06.2025
Facettenspiegel-Baugruppe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.07.2023
Anhängig
Vertretung
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04.06.2025
Verfahren zum Betreiben einer Ansteuervorrichtung, Ansteuervorrichtung, Optisches System und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.09.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Ein Verfahren zum Betreiben einer Ansteuervorrichtung (100) zum Ansteuern und zum Vermessen einer Mehrzahl N von Aktuatoren (201-225) zum Aktuieren zumindest eines optischen Elements (310) eines optischen Systems (300), wobei während eines bestimmten Vermessungszeitraums ein einzelner zu vermessender Aktuator (201) der N Aktuatoren (201-225) vermessen wird, in dem der zu vermessende Aktuator (201) mittels einer von einer Ansteuereinheit (110) bereitgestellten Anregungsspannung (UA) angeregt wird (S1), ein für einen zeitabhängigen Strom (IA) des mittels der Anregungsspannung (UA) angeregten Aktuators (201) indikativer Messstrom (IM) durch eine Strommesseinheit (120) bereitgestellt wird (S2), eine für eine zeitabhängige Spannung des mittels der Anregungsspannung (UA) angeregten Aktuators (201) indikative Messspannung (UM) durch eine Spannungsmesseinheit (130) bereitgestellt wird (S3), ein Impedanz-Messergebnis (M) basierend auf dem bereitgestellten Messstrom (IM) und der bereitgestellten Messspannung (UM) ermittelt wird (S4) und eine für einen Fehler (F) in der Ansteuervorrichtung (100) indikative Abweichung basierend auf dem ermittelten Impedanz-Messergebnis (M) bestimmt wird (S5), wobei die N-1 weiteren Aktuatoren (202-225) der N Aktuatoren (201-225) auf einem bestimmten Spannungslevel gehalten werden, während der zu vermessende Aktuator (201) mittels der Anregungsspannung (UA) angeregt wird. |
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30.05.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Elements, Element, insbesondere Optisches Element, und Lithografiesystem
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.11.2024
Anhängig
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30.05.2025
Imaging Optical Unit For Imaging an Object Field Into an Image Field, And Projection Exposure Apparatus Having Such an Imaging Optical Unit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2024
Anhängig
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28.05.2025
Restgasanalysator, Projektionsbelichtungsvorrichtung mit einem Restgasanalysator und Verfahren zur Restgasanalyse
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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22.05.2025
Lithographiesystem mit einer Kupplung zum Trennen von Leitungsabschnitten und Verfahren zur Dichtigkeitsprüfung
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.08.2024
Anhängig
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22.05.2025
Heizkopf, Heizvorrichtung und Optisches System, insbesondere Euv-Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.10.2024
Anhängig
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21.05.2025
Verfahren zur Charakterisierung eines Diffraktiven Optischen Elements sowie Verfahren zur Herstellung eines Diffraktiven Optischen Elements unter Durchführung des Charakterisierungs-Verfahrens
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.07.2023
Anhängig
Vertretung
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21.05.2025
Spiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.07.2023
Anhängig
Vertretung
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15.05.2025
Modular metrology apparatus for interchangeable process modules
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.10.2024
Anhängig
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15.05.2025
X-ray inspection system for inspection of an object
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.11.2023
Anhängig
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15.05.2025
Method for adjustment of an illumination system of a projection exposure apparatus, and illumination system for carrying out the method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2024
Anhängig
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15.05.2025
Verfahren zum Bestimmen wenigstens eines Manipulatorfreiheitsgrads, Verfahren zum Definieren wenigstens eines Virtuellen Manipulators, Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage sowie Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.11.2024
Anhängig
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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