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KLA Corporation Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
24
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.908 gesamt
Patent
09.01.2020
Dual-Interferometry Sample Thickness Gauge
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
26.12.2019
Correlating sem and optical images for wafer noise nuisance identification
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung
26.12.2019
Process and metrology control, process indicators and root cause analysis tools based on landscape information
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.12.2019
Hybrid Design Layout To Identify Optical Proximity Correction-Related Systematic Defects
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.12.2019
Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.12.2019
Embedded particle depth binning based on multiple scattering signals
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
25.12.2019
Verfahren und System zur Objektbasierten Metrologie für Erweiterte Waferoberflächen-Nanotopographie
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.12.2019
Euv-Licht-Quelle mit Kryogenen Tröpfchen-Targets in der Maskeninspektion
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
19.12.2019
Integrated scanning electron microscopy and optical analysis techniques for advanced process control
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.12.2019
Elektronenstrahlgerät mit Doppel-Linsen-Elektronenkanone und Verfahren zur Hochauflösenden Bilderzeugung mit Hohen und Niedrigen Strahlströmen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.12.2019
Facettenspiegelvorrichtung zur Bildgebung und Verfahren zur Verwendung davon
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.12.2019
Cw-Duv-Laser mit Verbesserter Stabilität
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.12.2019
Overlay measurement using phase and amplitude modeling
Optik & Fototechnik
12.12.2019
Active learning for defect classifier training
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.12.2019
Cross layer common-unique analysis for nuisance filtering
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.12.2019
High Resolution Electron Energy Analyzer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.12.2019
In-situ temperature sensing substrate, system, and method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.12.2019
Neutral atom imaging system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.12.2019
Prozessstabile Überlagerungsmetrologie auf Basis Optischer Scatterometrie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
05.12.2019
Charge control device for a system with multiple electron beams
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.12.2019
Space Charge Insensitive Electron Gun Designs
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.12.2019
System and method for pumping laser sustained plasma with a frequency converted illumination source
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.11.2019
Performance monitoring of design-based alignment
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.11.2019
Reflection-mode electron-beam inspection using ptychographic imaging
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.11.2019
Target selection improvements for better design alignment
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.11.2019
Euv-Prüfsystem mit Hohem Durchlauf zur Fehlererkennung auf Strukturierten Euv-Masken, Maskenrohlinge und Wafer
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
21.11.2019
Phase Filter For Enhanced Defect Detection in Multilayer Structure
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.11.2019
Creating defect samples for array regions
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.11.2019
Capture of repeater defects on a semiconductor wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.11.2019
Capture of repeater defects on a semiconductor wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.11.2019
Verfahren zur Prüfung einer Probe mit verschiedenen Prüfparametern
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
06.11.2019
Halbleitermetrologiesysteme mit mehreren Einfallswinkeln und Verfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.10.2019
Multi-spot analysis system with multiple optical probes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
31.10.2019
Process-Induced Displacement Characterization During Semiconductor Production
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.10.2019
Vorrichtung und Verfahren zur Retikelhandhabung in einem Euv-Retikelinspektionswerkzeug
Optik & Fototechnik
30.10.2019
Rückbeleuchteter Sensor mit Borschicht
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.10.2019
Shape metric based scoring of wafer locations
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.10.2019
Verfahren und System zur Aberrationskorrektur in einem Elektronenstrahlsystem
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.10.2019
System und Verfahren zur Messung der Substrat- und Schichtdickenverteilung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.10.2019
Reduzierte Coulomb-Interaktionen in einer Mehrstrahlensäule
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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