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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
25
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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2.414 gesamt
Patent
09.08.2007
Microwave plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
08.08.2007
Verfahren und System zur Abscheidung von Metallschichten aus Metallcarbonylvorläufern
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.08.2007
Belichtungsbedingungs-Einrichtverfahren, Substratverarbeitungseinrichtung und Computerprogramm
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.07.2007
Substrate processing device, license management program, license information provision device, license information provision program, license management system and recording medium
Software & Datenverarbeitung
26.07.2007
Plasma processing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.07.2007
Impedanzmessungsschaltkreis, -Detektor und Verfahren zur Impedanzmessung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
19.07.2007
Vacuum treating device and vacuum treating method
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.07.2007
Method of forming porous film and computer-readable recording medium
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.07.2007
Method for cleaning/drying apparatus for transferring subject to be processed, cleaning/drying apparatus and storing medium
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.07.2007
Plasmafilmbildungsverfahren und Plasmafilmbildungseinrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.07.2007
System zur Messung der Elektronendichte und Plasma-Prozesssteuerung, das Änderungen in der Resonanzfrequenz eines Plasma Enthaltenden Offen Resonators Verwendet
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.07.2007
Substrate processing device and substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.07.2007
Film forming apparatus, film forming method, precoating layer, and method for precoating layer formation
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.06.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Substratverarbeitung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.06.2007
Verfahren zur Siliziumeinlagerung in Cvd-Metallfilme
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.05.2007
Substrate processing apparatus, substrate cleaning/drying apparatus, substrate processing method and substrate processing program
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Optik & Fototechnik
30.05.2007
Vorrichtung und Verfahren zur Substratbehandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.05.2007
Substratverarbeitungsverfahren
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.05.2007
Interposer und Verfahren zur Herstellung eines Interposers
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.05.2007
Plasmaverarbeitungseinrichtung und Verfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.04.2007
Substrate treating apparatus, method of substrate treatment, program, and recording medium in which program is recorded
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.04.2007
Universelle Rückwandvorrichtung und Verfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.04.2007
Method for integrating a ruthenium layer with bulk copper in copper metallization
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.04.2007
Method and system for etching silicon oxide and silicon nitride with high selectivity relative to silicon
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.04.2007
Plasma-assisted vapor phase treatment of low dielectric constant films using a batch processing system
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.04.2007
Hyperthermal neutral beam source and method of operating
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
12.04.2007
Plural treatment step process for treating dielectric films
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.04.2007
A method for metallic dry-filling
Metallurgie & Oberflächentechnik
05.04.2007
Substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.03.2007
Substrate-processing apparatus, substrate-processing method, substrate-processing program, and computer-readable recording medium recorded with such program
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.02.2007
Low temperature formation of patterned epitaxial si containing films
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.02.2007
Substrate processing method and substrate processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.02.2007
Semiconductor device, semiconductor device fabrication method, semiconductor device fabrication method program and semiconductor fabrication device
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.01.2007
Mehrsäulige Ladungspartikel-Optikbaugruppe
Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.01.2007
Removal of residues for low-k dielectric materials in wafer processing
Verfahrens- & Trenntechnik
20.12.2006
Verfahren und System zur Run-To-Run-Steuerung
Steuerungs- & Regelungstechnik Software & Datenverarbeitung
23.11.2006
Plasma treatment apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.11.2006
Sonde und Sondenherstellungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.10.2006
Abscheidung von Titannitridfilm
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.10.2006
Film forming method and film forming apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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