Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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15.10.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung einer Ausrichtung einer Photomaske auf einem um mindestens eine Achse Drehbaren Probentisch
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.07.2021
Anhängig
Vertretung
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08.10.2025
Verfahren und Entsprechende Systeme zur Vorhersage von Defekten in Wafern und zur Offline-Qualifikation von Waferlosen Prozessfenstern
Optik & Fototechnik
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01.10.2025
Verfahren zur Optimierung der Emission Elektromagnetischer Strahlung eines Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage, Beleuchtungssystem, Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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24.09.2025
Hochgradig Flexibles Leitungselement und Verfahren zur Herstellung eines Flexiblen Leitungselements
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Angemeldet am 21.03.2024
Anhängig
Vertretung
LBP Lemcke, Brommer & Partner Patentanwälte mbB · Karlsruhe
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17.09.2025
Verfahren zur Korrektur Lokaler Oberflächenerhebungen auf Spiegelnden Oberflächen
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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10.09.2025
Arbeitsablauf zum Ausrichten einer Halbleiterprobe Und/oder zum Messen Ihrer Fehlausrichtung in einer Fib-Sem- oder Fib-Him-Vorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.09.2025
Euv-Belichtungsgerät
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.07.2011
Erteilt am 03.09.2025
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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03.09.2025
Strahlwinkeldrehung und Probenrotation
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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27.08.2025
Optisches Element, insbesondere zur Reflexion von Euv-Strahlung, Optische Anordnung und Verfahren zum Herstellen eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 05.10.2021
Erteilt am 27.08.2025
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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20.08.2025
Verfahren zur Gewinnung von Informationen zur Steuerung eines Herstellungsverfahrens für eine Gestapelte Halbleitervorrichtung und Detektionssystem mit Solch einem Verfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 28.09.2023
Anhängig
Vertretung
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13.08.2025
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen eines Topographie-Kontrasts Und/oder eines Materialkontrasts einer Probe
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2025
Anhängig
Vertretung
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06.08.2025
Verfahren, Ansteuereinrichtung, Optisches System und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 22.03.2021
Erteilt am 06.08.2025
Vertretung
HKW Intellectual Property PartG mbB · München
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06.08.2025
Dynamische Potenzialanpassung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.07.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
The present disclosure relates to a method for processing and/or examining a sample (100) using a particle beam (E), including the following steps: determining an electrostatic charge state of the sample (100); applying a voltage to an element (H) in surroundings of the sample, based at least in part on the determined electrostatic charge state; wherein the element (H) comprises two or more segments; and/or wherein the element (H) is movable relative to the sample (100).The disclosure also relates to a corresponding computer program and a device. |
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06.08.2025
System, Verfahren und Marker zur Positionsbestimmung eines Beweglichen Objektes im Raum
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2018
Erteilt am 06.08.2025
Vertretung
Witte, Weller & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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06.08.2025
Projektionsbelichtungsgerät für Halbleiterlithografie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.09.2020
Erteilt am 06.08.2025
Vertretung
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06.08.2025
Kühlvorrichtung zum Kühlen einer Positionssensitiven Komponente einer Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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30.07.2025
Baugruppe eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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30.07.2025
Facettenspiegel, Beleuchtungsoptik, Anordnung eines Facettenspiegels, Projektionsbelichtungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Nanostrukturierten Bauteils
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2023
Anhängig
Vertretung
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30.07.2025
Verfahren zum Betreiben einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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30.07.2025
Verfahren, Systeme, Computerprogramme und Computerlesbare Medien zum Automatischen Entwurf eines Arbeitsablaufs zur Durchführung einer Halbleiterinspektionsaufgabe
Software & Datenverarbeitung
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16.07.2025
Computer-Generiertes Hologramm (cgh), sowie Verfahren zur Auslegung eines Cgh
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.09.2022
Erteilt am 16.07.2025
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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16.07.2025
Verfahren zum Vereinzeln eines Wafers und Geeignete Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 28.08.2023
Anhängig
Vertretung
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16.07.2025
Mikroelektromechanische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.08.2023
Anhängig
Vertretung
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16.07.2025
Optische Inspektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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09.07.2025
Gasvermittelte Sekundärelektronenerzeugung und Sammlungsverstärkung für Verbesserte Endpunktdetektion mit Edelionen zur Schaltungsbearbeitung in Halbleiterwafern
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
An ion beam system with increased secondary electron yield is provided. The increase of a secondary electron yield is achieved by utilizing during ion beam scanning a combination of at least two individual gases adapted to material compositions present in a semiconductor wafer or lithography mask. The improved system and method can be applied for inspection, circuit edit or repair of semiconductor wafers or lithography masks. |
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02.07.2025
Messverfahren und Messanordnung für ein Abbildendes Optisches System
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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25.06.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Maskenreparatur
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.03.2023
Erteilt am 25.06.2025
Vertretung
Zusammenfassung
The present disclosure relates to methods, to an apparatus and to a computer program for processing of a lithography object. More particularly, the present invention relates to a method for removing a material, to a corresponding apparatus and to a method for lithographic processing of a wafer, and to a computer program for performing the methods. A method for processing a lithography object comprises, for example: providing a first gas comprising first molecules; providing a particle beam in a working region of the object for removal of a first material in the working region based at least partly on the first gas, wherein the first material comprises ruthenium. |
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25.06.2025
Mikrooptisches Element
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.08.2023
Anhängig
Vertretung
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25.06.2025
Vergrössernde Abbildende Optik für ein Metrologiesystem zur Untersuchung von Objekten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.11.2024
Anhängig
Vertretung
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18.06.2025
Optische Anordnung für den Fuv/vuv-Wellenlängenbereich
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2022
Erteilt am 18.06.2025
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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18.06.2025
Baugruppe für eine Optische Komponente
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2024
Anhängig
Vertretung
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04.06.2025
Verfahren zum Betreiben einer Ansteuervorrichtung, Ansteuervorrichtung, Optisches System und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.09.2024
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Ein Verfahren zum Betreiben einer Ansteuervorrichtung (100) zum Ansteuern und zum Vermessen einer Mehrzahl N von Aktuatoren (201-225) zum Aktuieren zumindest eines optischen Elements (310) eines optischen Systems (300), wobei während eines bestimmten Vermessungszeitraums ein einzelner zu vermessender Aktuator (201) der N Aktuatoren (201-225) vermessen wird, in dem der zu vermessende Aktuator (201) mittels einer von einer Ansteuereinheit (110) bereitgestellten Anregungsspannung (UA) angeregt wird (S1), ein für einen zeitabhängigen Strom (IA) des mittels der Anregungsspannung (UA) angeregten Aktuators (201) indikativer Messstrom (IM) durch eine Strommesseinheit (120) bereitgestellt wird (S2), eine für eine zeitabhängige Spannung des mittels der Anregungsspannung (UA) angeregten Aktuators (201) indikative Messspannung (UM) durch eine Spannungsmesseinheit (130) bereitgestellt wird (S3), ein Impedanz-Messergebnis (M) basierend auf dem bereitgestellten Messstrom (IM) und der bereitgestellten Messspannung (UM) ermittelt wird (S4) und eine für einen Fehler (F) in der Ansteuervorrichtung (100) indikative Abweichung basierend auf dem ermittelten Impedanz-Messergebnis (M) bestimmt wird (S5), wobei die N-1 weiteren Aktuatoren (202-225) der N Aktuatoren (201-225) auf einem bestimmten Spannungslevel gehalten werden, während der zu vermessende Aktuator (201) mittels der Anregungsspannung (UA) angeregt wird. |
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04.06.2025
Facettenspiegel-Baugruppe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.07.2023
Anhängig
Vertretung
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28.05.2025
Restgasanalysator, Projektionsbelichtungsvorrichtung mit einem Restgasanalysator und Verfahren zur Restgasanalyse
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.05.2025
Spiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.07.2023
Anhängig
Vertretung
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21.05.2025
Verfahren zur Charakterisierung eines Diffraktiven Optischen Elements sowie Verfahren zur Herstellung eines Diffraktiven Optischen Elements unter Durchführung des Charakterisierungs-Verfahrens
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.07.2023
Anhängig
Vertretung
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14.05.2025
Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines Optischen Elementes für die Halbleiterlithografie und Grundkörper für ein Optisches Element
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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14.05.2025
Projektionsbelichtungsgerät für Halbleiterlithografie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.12.2020
Erteilt am 14.05.2025
Vertretung
Zusammenfassung
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08.05.2025
Compensation of operationally induced thermal deformations in the manufacturing process of an optical element under thermal control during operation
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
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07.05.2025
Röntgeninspektionssystem zur Inspektion eines Objekts
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.10.2024
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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