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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
02.01.2013
Optisches Rasterelement, optischer Integrator und Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgerätes
EP2354853
Optik & Fototechnik
27.12.2012
Facet mirror device
WO2012175116
Optik & Fototechnik
27.12.2012
Projektionsanordnung
WO2012175501
Optik & Fototechnik
13.12.2012
Measuring system
WO2012168272
Optik & Fototechnik
06.12.2012
Bewegung eines Optischen Elements in einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2012163643
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
29.11.2012
Illumination Optical Unit
WO2012159880
Optik & Fototechnik
29.11.2012
Illumination optical unit for projection lithography
WO2012160061
Optik & Fototechnik
29.11.2012
Illumination Optical Unit
WO2012159968
Optik & Fototechnik
21.11.2012
Teilchenoptisches Inspektionssystem
EP2267754
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.11.2012
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2012152294
Optik & Fototechnik
15.11.2012
Anordnung zum Betätigen eines Elements bei einer Projektionsbelichtungsvorrichtung
WO2012152520
Optik & Fototechnik
14.11.2012
Optisches Projektionssystem
EP2040123
Optik & Fototechnik
08.11.2012
Optisches Modul mit einer Messvorrichtung
WO2012150215
Optik & Fototechnik
07.11.2012
Optisches Mikrolithographie-Projektionssystem sowie Werkzeug und Herstellungsverfahren
EP2005250
Optik & Fototechnik
31.10.2012
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und Optische Partikelkomponenten für Solche Systeme und Anordnungen
EP1668662
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.10.2012
Arrangement For Actuating an Element in A Microlithographic Projection Exposure Apparatus
WO2012143275
Optik & Fototechnik
10.10.2012
Beleuchtungssystem mit einem Detektor zur Aufnahme einer Lichtintensität
EP2064597
Optik & Fototechnik
10.10.2012
Teilchenoptische Komponente
EP2270836
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.10.2012
Teilchenoptische Komponente
EP2270835
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2012
Mikrolithographie-Projektionsobjektiv
EP1886190
Optik & Fototechnik
03.10.2012
Verbundstoffstruktur für die Mikrolithografie und Optische Anordnung
EP1940748
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
27.09.2012
Array of controllable mirrors
WO2012126803
Optik & Fototechnik
27.09.2012
Deflection mirror and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a deflection mirror
WO2012126867
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
27.09.2012
Optical Element
WO2012126830
Optik & Fototechnik
27.09.2012
Lithography apparatus
WO2012126621
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
27.09.2012
Optische Vorrichtung
WO2012126887
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
20.09.2012
Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus
WO2012123000
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.09.2012
Method for correcting the surface form of a mirror
WO2012123240
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
19.09.2012
Bildgebungsoptik
EP2499529
Optik & Fototechnik
07.09.2012
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2012116710
Optik & Fototechnik
29.08.2012
Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgerätes
EP2146248
Optik & Fototechnik
23.08.2012
Optical mount and euv exposure apparatus
WO2012110406
Optik & Fototechnik
22.08.2012
Hochaperturiges Objektiv mit Obskurierter Pupille
EP1828829
Optik & Fototechnik
09.08.2012
Method and apparatus for correcting errors in an euv lithography system
WO2012103933
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
09.08.2012
Mirror for the euv wavelength range, method for producing such a mirror, projection lens for microlithography comprising such a mirror, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens
WO2012104136
Optik & Fototechnik
08.08.2012
Optisches Reflexionselement und Verfahren für den Betrieb eines Euv-Lithografiegeräts
EP2483746
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
02.08.2012
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2012100791
Optik & Fototechnik
02.08.2012
Process for producing a substrate for a reflective optical element for euv lithography
WO2012101090
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
01.08.2012
Optisches System mit Austauschbarer Manipulierbarer Korrekturanordnung zur Verminderung von Bildfehlern
EP2097789
Optik & Fototechnik
01.08.2012
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP2198344
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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