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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
25.04.2013
Microlithographic exposure method and illumination device
Optik & Fototechnik
25.04.2013
Mirror with piezoelectric substrate, optical arrangement therewith and associated method
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
18.04.2013
Collector
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
17.04.2013
Verfahren zur Verbesserung der Abbildungseigenschaften eines Projektionsobjektivs
Optik & Fototechnik
17.04.2013
Optisches system
Optik & Fototechnik
11.04.2013
Verfahren zur Steuerung einer Bewegung von Optischen Elementen in Lithographiesystemen
Optik & Fototechnik
11.04.2013
Method for setting the intensity distribution in an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and optical system
Optik & Fototechnik
10.04.2013
Optisches System für eine Mikrolithografische Projektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
10.04.2013
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektrische Energietechnik
10.04.2013
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektrische Energietechnik
10.04.2013
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektrische Energietechnik
04.04.2013
Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2013
Method for producing a capping layer composed of silicon oxide on an euv mirror, euv mirror, and euv lithography apparatus
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
04.04.2013
Euv mirror comprising an oxynitride capping layer having a stable composition, euv lithography apparatus, and operating method
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
04.04.2013
Measuring device and optical system comprising such a measuring device
Optik & Fototechnik
03.04.2013
Catoptrisches Beleuchtungssystem für ein Mikrolithografiewerkzeug
Optik & Fototechnik
03.04.2013
Verfahren zur Herstellung eines diffraktiven optischen Elements sowie nach einem derartigen Verfahren hergestelltes diffraktives optisches Element
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
03.04.2013
Verfahren zur Herstellung von Facettenspiegeln und Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
03.04.2013
Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Derartigen Optischen Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
28.03.2013
Anordnung zur Thermischen Betätigung eines Spiegels bei einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
07.03.2013
Test object for testing an array of beams
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
28.02.2013
Exposure apparatus and method for the patterned exposure of a light-sensitive layer
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
27.02.2013
Verfahren und Vorrichtung für die Steuerung einer Vielzahl von Aktuatoren einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
27.02.2013
Verfahren zur Anpassung des Streulichts eines Projektionsobjektives für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
20.02.2013
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
20.02.2013
Mikrospiegelanordnung mit Beschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung
Optik & Fototechnik
13.02.2013
Vorrichtung zur Steuerung der Temperatur eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
13.02.2013
Verunreinigungsarme Optische Anordnung
Optik & Fototechnik
07.02.2013
Dämpfungsanordnung
Optik & Fototechnik
31.01.2013
Microlithographic exposure method
Optik & Fototechnik
31.01.2013
Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung und Mikrolithographisches Belichtungsverfahren
Optik & Fototechnik
31.01.2013
Mirror, optical system comprising mirror and method for producing a mirror
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
24.01.2013
Optical assembly with suppression of degradation
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
23.01.2013
Projektionsbelichtungsvorrichtung zur EUV-Lithographie
Optik & Fototechnik
23.01.2013
Bildgebungsoptik
Optik & Fototechnik
23.01.2013
Projektionsbelichtungsverfahren, Projektionsbelichtungsanlage, Laserstrahlungsquelle und Bandbreiten-Einengungsmodul für eine Laserstrahlungsquelle
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.01.2013
Illumination optical unit for projection lithography
Optik & Fototechnik
16.01.2013
Projektionsobjektiv mit hoher Transmission und hoher Apertur sowie Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
10.01.2013
Optical imaging arrangement with vibration decoupled support units
Optik & Fototechnik
09.01.2013
Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen in einem Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik

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