Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
1.949 gesamt| Patent | |||
|---|---|---|---|
|
25.04.2013
Microlithographic exposure method and illumination device
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 04.10.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
25.04.2013
Mirror with piezoelectric substrate, optical arrangement therewith and associated method
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 12.10.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
18.04.2013
Collector
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 09.10.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
17.04.2013
Verfahren zur Verbesserung der Abbildungseigenschaften eines Projektionsobjektivs
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
17.04.2013
Optisches system
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
11.04.2013
Verfahren zur Steuerung einer Bewegung von Optischen Elementen in Lithographiesystemen
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
11.04.2013
Method for setting the intensity distribution in an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and optical system
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 13.08.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.04.2013
Optisches System für eine Mikrolithografische Projektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.04.2013
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.09.2004
Anhängig
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.04.2013
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.09.2004
Anhängig
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.04.2013
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.09.2004
Anhängig
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.04.2013
Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 29.09.2011
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.04.2013
Method for producing a capping layer composed of silicon oxide on an euv mirror, euv mirror, and euv lithography apparatus
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.09.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.04.2013
Euv mirror comprising an oxynitride capping layer having a stable composition, euv lithography apparatus, and operating method
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.09.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.04.2013
Measuring device and optical system comprising such a measuring device
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 25.09.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
03.04.2013
Catoptrisches Beleuchtungssystem für ein Mikrolithografiewerkzeug
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.06.2007
Erteilt am 03.04.2013
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
03.04.2013
Verfahren zur Herstellung eines diffraktiven optischen Elements sowie nach einem derartigen Verfahren hergestelltes diffraktives optisches Element
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 11.02.2008
Erteilt am 03.04.2013
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
03.04.2013
Verfahren zur Herstellung von Facettenspiegeln und Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.02.2008
Erteilt am 03.04.2013
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
03.04.2013
Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Derartigen Optischen Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
28.03.2013
Anordnung zur Thermischen Betätigung eines Spiegels bei einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
07.03.2013
Test object for testing an array of beams
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 24.08.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
28.02.2013
Exposure apparatus and method for the patterned exposure of a light-sensitive layer
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 15.08.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
27.02.2013
Verfahren und Vorrichtung für die Steuerung einer Vielzahl von Aktuatoren einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 25.06.2008
Erteilt am 27.02.2013
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
27.02.2013
Verfahren zur Anpassung des Streulichts eines Projektionsobjektives für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 21.05.2008
Erteilt am 27.02.2013
Vertretung
Carl Zeiss AG - Patentabteilung · Oberkochen
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
20.02.2013
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
20.02.2013
Mikrospiegelanordnung mit Beschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
13.02.2013
Vorrichtung zur Steuerung der Temperatur eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.10.2008
Erteilt am 13.02.2013
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
13.02.2013
Verunreinigungsarme Optische Anordnung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 11.08.2009
Erteilt am 13.02.2013
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
07.02.2013
Dämpfungsanordnung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.01.2013
Microlithographic exposure method
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.06.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.01.2013
Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung und Mikrolithographisches Belichtungsverfahren
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.01.2013
Mirror, optical system comprising mirror and method for producing a mirror
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 25.07.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
24.01.2013
Optical assembly with suppression of degradation
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 05.07.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
23.01.2013
Projektionsbelichtungsvorrichtung zur EUV-Lithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 18.09.2007
Erteilt am 23.01.2013
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
23.01.2013
Bildgebungsoptik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
23.01.2013
Projektionsbelichtungsverfahren, Projektionsbelichtungsanlage, Laserstrahlungsquelle und Bandbreiten-Einengungsmodul für eine Laserstrahlungsquelle
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 04.02.2010
Erteilt am 23.01.2013
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
17.01.2013
Illumination optical unit for projection lithography
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 11.07.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
16.01.2013
Projektionsobjektiv mit hoher Transmission und hoher Apertur sowie Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 17.10.2008
Erteilt am 16.01.2013
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.01.2013
Optical imaging arrangement with vibration decoupled support units
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 05.03.2012
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
09.01.2013
Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen in einem Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 06.02.2008
Erteilt am 09.01.2013
Vertretung
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-Profil